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文檔簡介

有機(jī)整流二極管15碩 許昆一、實(shí)驗(yàn)?zāi)康?、掌握真空蒸發(fā)方法制備有機(jī)整流二極管的方法2、了解有機(jī)整流二極管的原理3、對制備的器件做測試二、實(shí)驗(yàn)儀器,耗材,工具培養(yǎng)皿2套,燒杯1個(gè),樣品架,掩膜版架,ITO片子,坩堝,酞菁銅,BCP三、實(shí)驗(yàn)原理ITO導(dǎo)電玻璃為底電極,Al為頂電極,相對于玻片1一層100nmCuPc的單層結(jié)構(gòu),玻片2在100nm CuPc之上再蒸一層15nm的BCP作為空穴阻擋層,驗(yàn)證其對于器件整流特性的影響。4、 實(shí)驗(yàn)內(nèi)容(一)準(zhǔn)備工作1、將準(zhǔn)備好的ITO玻璃依次用丙酮、無水乙醇、去離子水各超聲10mins,之后用去離子水清洗,用氮?dú)獯蹈伤危詈蠓湃胝婵蘸嫦溥M(jìn)行烘干備用;2、實(shí)驗(yàn)用的掩膜板、擋板、燒杯、培養(yǎng)皿等先用洗衣粉擦洗干凈,之后用去離子水清洗,再用吹風(fēng)機(jī)吹干,放入烘箱烘干;3、實(shí)驗(yàn)用的坩堝先用酒精棉擦洗,再用丙酮、無水乙醇、去離子水依次超聲10mins,之后用去離子水清洗,用氮?dú)獯蹈伤?,最后放入真空烘箱進(jìn)行烘干4、以耐高溫膠帶粘片子長邊一側(cè),以留出電極;(二)蒸酞菁銅薄膜實(shí)驗(yàn)過程1、白臺子開水,檢查所有閥門保持關(guān)閉;開總電源,開機(jī)械泵、擴(kuò)散泵電源;2、開閥,打開真空計(jì)熱偶規(guī);3、真空室放氣,放氣完擰緊放氣閥;4、升真空室,用酒精棉擦干凈真空室內(nèi)壁及樣品夾子;5、安裝玻璃擋板,以及裝有ITO片子的掩膜板,放好裝有適量酞菁銅的坩堝;6、一手扶著蒸發(fā)室外壁,緩慢放下真空室;7、關(guān)閥,開閥;8、待真空計(jì)有示數(shù)后關(guān)閥開閥;9、待真空計(jì)示數(shù)降到10Pa以下時(shí),關(guān)閥開閥;10、待真空計(jì)示數(shù)降到10Pa以下時(shí),關(guān)閥開閥;11、待到開閥后的示數(shù)降到10Pa以下時(shí),開閥,此時(shí)兩閥雙開;12、待真空計(jì)示數(shù)降到6Pa以下時(shí),關(guān)閥開大閥;13、待20分鐘左右(真空計(jì)示數(shù)不再下降),開電離規(guī),剛打開電離規(guī)時(shí)示數(shù)一般小于1Pa就正常;14、待示數(shù)降到3E-3Pa以下時(shí),設(shè)置坩堝溫度為400度,加坩堝電壓為35V;15、看到擋板上有藍(lán)色出現(xiàn)時(shí),移開擋板,記下此時(shí)頻率計(jì)的示數(shù),根據(jù)欲蒸膜的厚度,根據(jù)每下降13Hz膜生長1nm酞菁銅薄膜,計(jì)算出截止時(shí)的頻率計(jì)示數(shù);16、每隔一分鐘記錄頻率計(jì)下降的下降值,等蒸發(fā)到提前計(jì)算好的截止示數(shù)時(shí),迅速關(guān)上擋板,關(guān)電離規(guī);17、等坩堝溫度降到150度以下時(shí),關(guān)大閥,蒸發(fā)室放氣(剛放一點(diǎn)氣看真空計(jì)示數(shù)沒有上升說明沒有漏氣繼續(xù)放氣),取出玻片1放入培養(yǎng)皿中備用;(三)蒸發(fā)BCP實(shí)驗(yàn)過程18、第17步之后,升起蒸發(fā)室,放好裝有適量BCP的坩堝,降下蒸發(fā)室,關(guān)閥開閥;19、待真空計(jì)有示數(shù)后關(guān)閥開閥;20、待真空計(jì)示數(shù)降到10Pa以下時(shí),關(guān)閥開閥;21、待真空計(jì)示數(shù)降到10Pa以下時(shí),關(guān)閥開閥;22、待到開閥后的示數(shù)降到10Pa以下時(shí),開閥,此時(shí)兩閥雙開;23、待真空計(jì)示數(shù)降到6Pa以下時(shí),關(guān)閥開大閥;24、待20分鐘左右,開電離規(guī),逐漸加大電壓直到坩堝溫度為160度,加坩堝電壓為25V;25、過一會移開擋板看頻率計(jì)示數(shù)是否有下降,當(dāng)開始有下降時(shí),記下此時(shí)頻率計(jì)的示數(shù),移開擋板,根據(jù)欲蒸膜的厚度,根據(jù)每下降15Hz生長1nm BCP薄膜,計(jì)算出截止時(shí)的頻率計(jì)示數(shù);26、當(dāng)頻率計(jì)示數(shù)中途不降時(shí),可適當(dāng)升高坩堝溫度為170度27、到達(dá)頻率計(jì)截止示數(shù)時(shí),馬上關(guān)上玻璃擋板,記下此時(shí)時(shí)間,關(guān)上坩堝電壓源,關(guān)閉襯底溫度顯示器,關(guān)上頻率計(jì),關(guān)上電離規(guī)28、把黑色開關(guān)由擴(kuò)散泵打到機(jī)械泵(不再使用臺子的時(shí)候早點(diǎn)讓擴(kuò)散泵停止工作早點(diǎn)冷下來)29、等坩堝溫度降至150度以下時(shí),關(guān)大閥,蒸發(fā)室放氣30、放氣完,關(guān)上放氣閥,升起蒸發(fā)室,取出玻片2、坩堝、擋板等29、用機(jī)械泵抽真空保護(hù),然后關(guān)閥;30、待冷卻后,關(guān)各閥,機(jī)械泵放氣,關(guān)機(jī)械泵、總電源和熱偶規(guī)等測試設(shè)備,關(guān)冷卻水。(四)蒸鋁電極實(shí)驗(yàn)過程31、第30步之后,類似上述白臺子操作步驟,注意綠臺子的擴(kuò)散泵電流要另外加,加至8A;32、在綠臺子將真空度抽至1.5 E-3Pa以下,打開頻率計(jì),開啟蒸發(fā)開關(guān),從35開始每隔5逐級升高電流至40-45;33、待鋁絲熔化,移開擋板,看頻率計(jì)示數(shù)是否有下降,開始有下降時(shí)記下此時(shí)頻率計(jì)的示數(shù),根據(jù)欲蒸膜的厚度100nm,根據(jù)每下降33Hz膜生長1nm,計(jì)算出截止時(shí)的頻率計(jì)示數(shù);34、到達(dá)頻率計(jì)截止示數(shù)時(shí),迅速關(guān)上擋板;35、適當(dāng)加大蒸發(fā)電流,使得剩余的鋁蒸發(fā)干凈,達(dá)到清潔的目的;36、蒸發(fā)電流歸零,關(guān)閉蒸發(fā)開關(guān),關(guān)閉頻率計(jì),關(guān)閉電離規(guī);37、擴(kuò)散泵電流調(diào)為零(不再使用臺子時(shí)早關(guān)擴(kuò)散泵可提前冷卻);38、待蒸發(fā)室溫度降低時(shí),關(guān)大閥,蒸發(fā)室放氣,結(jié)束后關(guān)上;39、升起真空室,取出玻片2,關(guān)真空室,開閥,用機(jī)械泵抽真空保護(hù),然后關(guān)閥;30、待冷卻后,關(guān)各閥,機(jī)械泵放氣,關(guān)機(jī)械泵、總電源和熱偶規(guī)等測試設(shè)備,關(guān)冷卻水。五、實(shí)驗(yàn)結(jié)果1、實(shí)驗(yàn)成品如圖1所示:圖12、實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)處理(1)玻片1(無15nm BCP層)在-5-5V,0.05步長2.5%光強(qiáng)下的I-V曲線:(2)玻片2(有15nm BCP層)在

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