長春靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告_第1頁
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文檔簡介

1、泓域咨詢/長春靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告長春靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目可行性研究報(bào)告泓域咨詢 MACRO承諾書申請(qǐng)人鄭重承諾如下:“長春靶材生產(chǎn)建設(shè)項(xiàng)目”已按國家法律和政策的要求辦理相關(guān)手續(xù),報(bào)告內(nèi)容及附件資料準(zhǔn)確、真實(shí)、有效,不存在虛假申請(qǐng)、分拆、重復(fù)申請(qǐng)獲得其他財(cái)政資金支持的情況。如有弄虛作假、隱瞞真實(shí)情況的行為,將愿意承擔(dān)相關(guān)法律法規(guī)的處罰以及由此導(dǎo)致的所有后果。公司法人代表簽字:xxx公司(蓋章)xxx年xx月xx日項(xiàng)目概要靶材是濺射薄膜制備的源頭材料,又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料,廣泛應(yīng)用于半

2、導(dǎo)體芯片、太陽能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域,其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高,具有規(guī)?;a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少,主要分布在美國、日本等國家和地區(qū)。該靶材項(xiàng)目計(jì)劃總投資16860.68萬元,其中:固定資產(chǎn)投資12945.68萬元,占項(xiàng)目總投資的76.78%;流動(dòng)資金3915.00萬元,占項(xiàng)目總投資的23.22%。達(dá)產(chǎn)年?duì)I業(yè)收入27557.00萬元,總成本費(fèi)用21987.23萬元,稅金及附加294.29萬元,利潤總額5569.77萬元,利稅總額6632.30萬元,稅后凈利潤4177.33萬元,達(dá)產(chǎn)年納稅總額2454.97萬元;達(dá)產(chǎn)年投資利潤率33.03%,投資利稅率39.34%,投資回

3、報(bào)率24.78%,全部投資回收期5.54年,提供就業(yè)職位373個(gè)。依據(jù)國家產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策、相關(guān)行業(yè)“十三五”發(fā)展規(guī)劃、地方經(jīng)濟(jì)發(fā)展?fàn)顩r和產(chǎn)業(yè)發(fā)展趨勢,同時(shí),根據(jù)項(xiàng)目承辦單位已經(jīng)具體的資源條件、建設(shè)條件并結(jié)合企業(yè)發(fā)展戰(zhàn)略,闡述投資項(xiàng)目建設(shè)的背景及必要性。報(bào)告主要內(nèi)容:項(xiàng)目承擔(dān)單位基本情況、項(xiàng)目技術(shù)工藝特點(diǎn)及優(yōu)勢、項(xiàng)目建設(shè)主要內(nèi)容和規(guī)模、項(xiàng)目建設(shè)地點(diǎn)、工程方案、產(chǎn)品工藝路線與技術(shù)特點(diǎn)、設(shè)備選型、總平面布置與運(yùn)輸、環(huán)境保護(hù)、職業(yè)安全衛(wèi)生、消防與節(jié)能、項(xiàng)目實(shí)施進(jìn)度、項(xiàng)目投資與資金來源、財(cái)務(wù)評(píng)價(jià)等。第一章 項(xiàng)目承辦單位基本情況一、公司概況公司將“以運(yùn)營服務(wù)業(yè)帶動(dòng)制造業(yè),以制造業(yè)支持運(yùn)營服務(wù)業(yè)”經(jīng)營模式,樹

4、立起雙向融合的新格局,全面系統(tǒng)化擴(kuò)展經(jīng)營領(lǐng)域。公司為以適應(yīng)本土化需求為導(dǎo)向,高度整合全球供應(yīng)鏈。本公司秉承“以人為本、品質(zhì)為本”的發(fā)展理念,倡導(dǎo)“誠信尊重”的企業(yè)情懷;堅(jiān)持“品質(zhì)營造未來,細(xì)節(jié)決定成敗”為質(zhì)量方針;以“真誠服務(wù)贏得市場,以優(yōu)質(zhì)品質(zhì)謀求發(fā)展”的營銷思路;以科學(xué)發(fā)展觀縱觀全局,爭取實(shí)現(xiàn)行業(yè)領(lǐng)軍、技術(shù)領(lǐng)先、產(chǎn)品領(lǐng)跑的發(fā)展目標(biāo)。 公司的能源管理系統(tǒng)經(jīng)過多年的探索,已經(jīng)建立了比較完善的能源管理體系,形成了行之有效的公司、車間和班組級(jí)能源管理體系,全面推行全員能源管理及全員節(jié)能工作;項(xiàng)目承辦單位成立了由公司董事長及總經(jīng)理為主要領(lǐng)導(dǎo)的能源管理委員會(huì),能源管理工作小組為公司的常設(shè)能源管理機(jī)構(gòu),

5、全面負(fù)責(zé)公司日常能源管理的組織、監(jiān)督、檢查和協(xié)調(diào)工作,下設(shè)的能源管理工作室代表管理部門,負(fù)責(zé)具體開展項(xiàng)目承辦單位能源管理工作;各車間的能源管理機(jī)構(gòu)設(shè)在本車間內(nèi),由設(shè)備管理副總經(jīng)理、各車間主管及設(shè)備管理人為本部門的第一責(zé)任人,各部門設(shè)立專(兼)職能源管理員,負(fù)責(zé)現(xiàn)場能源的具體管理工作。公司認(rèn)真落實(shí)科學(xué)發(fā)展觀,在國家產(chǎn)業(yè)政策、環(huán)境保護(hù)政策以及相關(guān)行業(yè)規(guī)范的指導(dǎo)下,在各級(jí)政府的強(qiáng)力領(lǐng)導(dǎo)和相關(guān)部門的大力支持下,將建設(shè)“資源節(jié)約型、環(huán)境友好型”企業(yè),作為企業(yè)科學(xué)發(fā)展的永恒目標(biāo)和責(zé)無旁貸的社會(huì)責(zé)任;公司始終堅(jiān)持“源頭消減、過程控制、資源綜合利用和必要的未端治理”的清潔生產(chǎn)方針;以淘汰落后及節(jié)能、降耗、清潔

6、生產(chǎn)和資源的循環(huán)利用為重點(diǎn);以強(qiáng)化能源基礎(chǔ)管理、推進(jìn)節(jié)能減排技術(shù)改造及淘汰落后裝備、深化能源循環(huán)利用為措施,緊緊依靠技術(shù)創(chuàng)新、管理創(chuàng)新,突出節(jié)能技術(shù)、節(jié)能工藝的應(yīng)用與開發(fā),實(shí)現(xiàn)企業(yè)的可持續(xù)發(fā)展;以細(xì)化管理、對(duì)標(biāo)挖潛、能源稽查、動(dòng)態(tài)分析、指標(biāo)考核為手段,全面推動(dòng)全員能源管理及全員節(jié)能的管理思想;在項(xiàng)目承辦單位全體職工中樹立“人人要節(jié)能,人人會(huì)節(jié)能”的節(jié)能理念,達(dá)到了以精細(xì)管理促節(jié)能,以精細(xì)操作降能耗的目的;為切實(shí)加快相關(guān)行業(yè)的技術(shù)改造,提升產(chǎn)品科技含量等方面做了一定的工作,提高了能源利用效率,增強(qiáng)了企業(yè)的市場競爭力,從而有力地促進(jìn)了項(xiàng)目承辦單位的高速、高效、健康發(fā)展。未來公司將加強(qiáng)人力資源建設(shè),

7、根據(jù)公司未來發(fā)展戰(zhàn)略和發(fā)展規(guī)模,建立合理的人力資源發(fā)展機(jī)制,制定人力資源總體發(fā)展規(guī)劃,優(yōu)化現(xiàn)有人力資源整體布局,明確人力資源引進(jìn)、開發(fā)、使用、培養(yǎng)、考核、激勵(lì)等制度和流程,實(shí)現(xiàn)人力資源的合理配置,全面提升公司核心競爭力。鑒于未來三年公司業(yè)務(wù)規(guī)模將會(huì)持續(xù)擴(kuò)大,公司已制定了未來三年期的人才發(fā)展規(guī)劃,明確各崗位的職責(zé)權(quán)限和任職要求,并通過內(nèi)部培養(yǎng)、外部招聘、競爭上崗的多種方式儲(chǔ)備了管理、生產(chǎn)、銷售等各種領(lǐng)域優(yōu)秀人才。同時(shí),公司將不斷完善績效管理體系,設(shè)置科學(xué)的業(yè)績考核指標(biāo),對(duì)各級(jí)員工進(jìn)行合理的考核與評(píng)價(jià)。 公司建立完整的質(zhì)量控制體系,貫穿于公司采購、研發(fā)、生產(chǎn)、倉儲(chǔ)、銷售等各環(huán)節(jié),并制定了產(chǎn)品開發(fā)控

8、制程序、產(chǎn)品審核程序、產(chǎn)品檢測控制程序、等質(zhì)量控制制度。二、所屬行業(yè)基本情況靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān),隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn),靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、

9、防腐的合金膜等)。超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用到的濺射(Sputtering)工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在高真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。三、公司經(jīng)濟(jì)效益分析上一年度,xxx(集團(tuán))有限公司實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入25721.13萬元,同比增長23.52%(4897.48萬元)。其中,主營業(yè)業(yè)務(wù)靶材生產(chǎn)及銷售收入為20961.81萬元,占營業(yè)總收入的81.50%。上年度主

10、要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)序號(hào)項(xiàng)目第一季度第二季度第三季度第四季度合計(jì)1營業(yè)收入5401.447201.926687.496430.2825721.132主營業(yè)務(wù)收入4401.985869.315450.075240.4520961.812.1靶材(A)1452.651936.871798.521729.356917.402.2靶材(B)1012.461349.941253.521205.304821.222.3靶材(C)748.34997.78926.51890.883563.512.4靶材(D)528.24704.32654.01628.852515.422.5靶材(E)352.16469.54436.0

11、1419.241676.942.6靶材(F)220.10293.47272.50262.021048.092.7靶材(.)88.04117.39109.00104.81419.243其他業(yè)務(wù)收入999.461332.611237.421189.834759.32根據(jù)初步統(tǒng)計(jì)測算,公司實(shí)現(xiàn)利潤總額4837.75萬元,較去年同期相比增長613.83萬元,增長率14.53%;實(shí)現(xiàn)凈利潤3628.31萬元,較去年同期相比增長569.37萬元,增長率18.61%。上年度主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)項(xiàng)目單位指標(biāo)完成營業(yè)收入萬元25721.13完成主營業(yè)務(wù)收入萬元20961.81主營業(yè)務(wù)收入占比81.50%營業(yè)收入增長率(

12、同比)23.52%營業(yè)收入增長量(同比)萬元4897.48利潤總額萬元4837.75利潤總額增長率14.53%利潤總額增長量萬元613.83凈利潤萬元3628.31凈利潤增長率18.61%凈利潤增長量萬元569.37投資利潤率36.34%投資回報(bào)率27.25%財(cái)務(wù)內(nèi)部收益率29.29%企業(yè)總資產(chǎn)萬元27954.11流動(dòng)資產(chǎn)總額占比萬元34.47%流動(dòng)資產(chǎn)總額萬元9636.44資產(chǎn)負(fù)債率30.74%第二章 項(xiàng)目技術(shù)工藝特點(diǎn)及優(yōu)勢一、技術(shù)方案(一)技術(shù)方案選用方向1、對(duì)于生產(chǎn)技術(shù)方案的選用,遵循“自動(dòng)控制、安全可靠、運(yùn)行穩(wěn)定、節(jié)省投資、綜合利用資源”的原則,選用當(dāng)前較先進(jìn)的集散型控制系統(tǒng),由計(jì)算機(jī)

13、統(tǒng)一控制整個(gè)生產(chǎn)線的各項(xiàng)工藝參數(shù),使產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定在高水平上,同時(shí)可降低物料的消耗。嚴(yán)格按行業(yè)規(guī)范要求組織生產(chǎn)經(jīng)營活動(dòng),有效控制產(chǎn)品質(zhì)量,為廣大顧客提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和良好的服務(wù)。2、遵循“高起點(diǎn)、優(yōu)質(zhì)量、專業(yè)化、經(jīng)濟(jì)規(guī)模”的建設(shè)原則。積極采用新技術(shù)、新工藝和高效率專用設(shè)備,使用高質(zhì)量的原輔材料,穩(wěn)定和提高產(chǎn)品質(zhì)量,制造高附加值的產(chǎn)品,不斷提高企業(yè)的市場競爭能力。3、在工藝設(shè)備的配置上,依據(jù)節(jié)能的原則,選用新型節(jié)能型設(shè)備,根據(jù)有利于環(huán)境保護(hù)的原則,優(yōu)先選用環(huán)境保護(hù)型設(shè)備,滿足項(xiàng)目所制訂的產(chǎn)品方案要求,優(yōu)選具有國際先進(jìn)水平的生產(chǎn)、試驗(yàn)及配套等設(shè)備,充分顯現(xiàn)龍頭企業(yè)專業(yè)化水平,選擇高效、合理的生產(chǎn)和物流

14、方式。4、生產(chǎn)工藝設(shè)計(jì)要滿足規(guī)?;a(chǎn)要求,注重生產(chǎn)工藝的總體設(shè)計(jì),工藝布局采用最佳物流模式,最有效的倉儲(chǔ)模式,最短的物流過程,最便捷的物資流向。5、根據(jù)該項(xiàng)目的產(chǎn)品方案,所選用的工藝流程能夠滿足產(chǎn)品制造的要求,同時(shí),加強(qiáng)員工技術(shù)培訓(xùn),嚴(yán)格質(zhì)量管理,按照工藝流程技術(shù)要求進(jìn)行操作,提高產(chǎn)品合格率,努力追求產(chǎn)品的“零缺陷”,以關(guān)鍵生產(chǎn)工序?yàn)橘|(zhì)量控制點(diǎn),確保該項(xiàng)目產(chǎn)品質(zhì)量。6、在項(xiàng)目建設(shè)和實(shí)施過程中,認(rèn)真貫徹執(zhí)行環(huán)境保護(hù)和安全生產(chǎn)的“三同時(shí)”原則,注重環(huán)境保護(hù)、職業(yè)安全衛(wèi)生、消防及節(jié)能等法律法規(guī)和各項(xiàng)措施的貫徹落實(shí)。(三)工藝技術(shù)方案選用原則1、在基礎(chǔ)設(shè)施建設(shè)和工業(yè)生產(chǎn)過程中,應(yīng)全面實(shí)施清潔生產(chǎn),盡

15、可能降低總的物耗、水耗和能源消費(fèi),通過物料替代、工藝革新、減少有毒有害物質(zhì)的使用和排放,在建筑材料、能源使用、產(chǎn)品和服務(wù)過程中,鼓勵(lì)利用可再生資源和可重復(fù)利用資源。2、遵循“高起點(diǎn)、優(yōu)質(zhì)量、專業(yè)化、經(jīng)濟(jì)規(guī)模”的建設(shè)原則,積極采用新技術(shù)、新工藝和高效率專用設(shè)備,使用高質(zhì)量的原輔材料,穩(wěn)定和提高產(chǎn)品質(zhì)量,制造高附加值的產(chǎn)品,不斷提高企業(yè)的市場競爭力。(四)工藝技術(shù)方案要求1、對(duì)于生產(chǎn)技術(shù)方案的選用,遵循“自動(dòng)控制、安全可靠、運(yùn)行穩(wěn)定、節(jié)省投資、綜合利用資源”的原則,選用當(dāng)前較先進(jìn)的集散型控制系統(tǒng),控制整個(gè)生產(chǎn)線的各項(xiàng)工藝參數(shù),使產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定在高水平上,同時(shí)可降低物料的消耗;嚴(yán)格按照電氣機(jī)械和器材制

16、造行業(yè)規(guī)范要求組織生產(chǎn)經(jīng)營活動(dòng),有效控制產(chǎn)品質(zhì)量,為廣大顧客提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品和良好的服務(wù)。2、建立完善柔性生產(chǎn)模式;本期工程項(xiàng)目產(chǎn)品具有客戶需求多樣化、產(chǎn)品個(gè)性差異化的特點(diǎn),因此,產(chǎn)品規(guī)格品種多樣,單批生產(chǎn)數(shù)量較小,多品種、小批量的制造特點(diǎn)直接影響生產(chǎn)效率、生產(chǎn)成本及交付周期;益而益(集團(tuán))有限公司將建設(shè)先進(jìn)的柔性制造生產(chǎn)線,并將柔性制造技術(shù)廣泛應(yīng)用到產(chǎn)品制造各個(gè)環(huán)節(jié),可以在照顧到客戶個(gè)性化要求的同時(shí)不犧牲生產(chǎn)規(guī)模優(yōu)勢和質(zhì)量控制水平,同時(shí),降低故障率、提高性價(jià)比,使產(chǎn)品性能和質(zhì)量達(dá)到國內(nèi)領(lǐng)先、國際先進(jìn)水平。二、項(xiàng)目工藝技術(shù)設(shè)計(jì)方案(一)技術(shù)來源及先進(jìn)性說明項(xiàng)目技術(shù)來源為公司的自有技術(shù),該技術(shù)達(dá)到

17、國內(nèi)先進(jìn)水平。(二)項(xiàng)目技術(shù)優(yōu)勢分析本期工程項(xiàng)目采用國內(nèi)先進(jìn)的技術(shù),該技術(shù)具有資金占用少、生產(chǎn)效率高、資源消耗低、勞動(dòng)強(qiáng)度小的特點(diǎn),其技術(shù)特性屬于技術(shù)密集型,該技術(shù)具備以下優(yōu)勢:1、技術(shù)含量和自動(dòng)化水平較高,處于國內(nèi)先進(jìn)水平,在產(chǎn)品質(zhì)量水平上相對(duì)其他生產(chǎn)技術(shù)性能費(fèi)用比優(yōu)越,結(jié)構(gòu)合理、占地面積小、功能齊全、運(yùn)行費(fèi)用低、使用壽命長;在工藝水平上該技術(shù)能夠保證產(chǎn)品質(zhì)量高穩(wěn)定性、提高資源利用率和節(jié)能降耗水平;根據(jù)初步測算,利用該技術(shù)生產(chǎn)產(chǎn)品,可提高原料利用率和用電效率,在裝備水平上,該技術(shù)使用的設(shè)備自動(dòng)控制程度和性能可靠性相對(duì)較高。2、本期工程項(xiàng)目采用的技術(shù)與國內(nèi)資源條件適應(yīng),具有良好的技術(shù)適應(yīng)性;該

18、技術(shù)工藝路線可以適應(yīng)國內(nèi)主要原材料特性,技術(shù)工藝路線簡潔,有利于流程控制和設(shè)備操作,工藝技術(shù)已經(jīng)被國內(nèi)生產(chǎn)實(shí)踐檢驗(yàn),證明技術(shù)成熟,技術(shù)支援條件良好,具有較強(qiáng)的可靠性。3、技術(shù)設(shè)備投資和產(chǎn)品生產(chǎn)成本低,具有較強(qiáng)的經(jīng)濟(jì)合理性;本期工程項(xiàng)目采用本技術(shù)方案建設(shè)其主要設(shè)備多數(shù)可按通用標(biāo)準(zhǔn)在國內(nèi)采購。4、節(jié)能設(shè)施先進(jìn)并可進(jìn)行多規(guī)格產(chǎn)品轉(zhuǎn)換,項(xiàng)目運(yùn)行成本較低,應(yīng)變市場能力很強(qiáng)。第三章 背景及必要性一、靶材項(xiàng)目背景分析濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料,廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽能電池、平板顯示、信息存儲(chǔ)等領(lǐng)域,其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高,具有規(guī)模化生產(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對(duì)較少

19、,主要分布在美國、日本等國家和地區(qū)。中國濺射靶材行業(yè)起步較晚,目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè),受益于國家戰(zhàn)略的支持,已經(jīng)開始出現(xiàn)少量專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)(如江豐電子,有研新材等),并成功開發(fā)出一批高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材,為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場化條件。靶材全球市場預(yù)計(jì)16-19復(fù)合增速13%。2016年全球?yàn)R射靶材市場容量達(dá)113.6億美元,相比于2015年的94.8億美元增長20%。預(yù)測2016-2019年均復(fù)合增長率達(dá)13%,到2019年全球高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模將超過163億美元。2016年全球靶材市場的下游結(jié)構(gòu)中,半導(dǎo)體占比10%、平板顯示占34%

20、、太陽能電池占21%、記錄媒體占29%,靶材性能要求依次降低。市場集中度高,日、美占據(jù)80%高端靶材市場。濺射靶材由于其高技術(shù)、高投資、高客戶壁壘,具有規(guī)?;a(chǎn)能力企業(yè)較少,以霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯等為代表的靶材龍頭企業(yè)2017年占據(jù)全球約80%靶材市場。美、日等跨國企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈較為完整,囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié),主導(dǎo)高端的半導(dǎo)體靶材市場;韓國、新加坡及中國臺(tái)灣地區(qū)擅長磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域,原料多從國外進(jìn)口;中國靶材產(chǎn)業(yè)正處于起步階段,逐步切入以原料以進(jìn)口為主的全球主流半導(dǎo)體、顯示、光伏等龍頭企業(yè)客戶。預(yù)計(jì)2018-2020年國內(nèi)顯示靶材需求增速維持20-

21、25%增速。中國大陸從上世紀(jì)80年代開始進(jìn)入液晶顯示領(lǐng)域,在政府政策導(dǎo)向和產(chǎn)業(yè)扶植下,我國大陸液晶顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展,成為平板顯示行業(yè)發(fā)展速度最快的地區(qū)。2016年中國平板顯示器件產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模達(dá)到1500億元,同比增長25.99%;2012-2016年國內(nèi)平板顯示增速基本保持在25%以上。此外考慮到國內(nèi)LCD國產(chǎn)替代進(jìn)程加速、再加上OLED滲透率有望快速提升,預(yù)計(jì)2018-2020年國內(nèi)平板顯示產(chǎn)業(yè)增速將至少維持在20-25%;對(duì)應(yīng)到國內(nèi)顯示靶材的需求也將相應(yīng)增加。靶材應(yīng)用的戰(zhàn)略高地17-20年全球半導(dǎo)體增速有望超預(yù)期,17年國內(nèi)半導(dǎo)體增速24.81%。半導(dǎo)體靶材性能要求位居各類應(yīng)用之首。半導(dǎo)體

22、行業(yè)所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝測試材料。芯片制造對(duì)濺射靶材純度要求很高,通常需達(dá)99.9995%(5N5)甚至99.9999%(6N)以上。2017全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)超預(yù)期增速21.62%,從下游需求結(jié)構(gòu)看,17年增長主要源于半導(dǎo)體的主要應(yīng)用是集成電路中的存儲(chǔ)器,增速達(dá)到61.49%,增量來源于人工智能、大數(shù)據(jù)、汽車電子等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅苄酒枨罂焖偬嵘?。?5年開始國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)維持20%左右增速,漸成常態(tài)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從臺(tái)灣向國內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢比較確定,國內(nèi)政策、資金、稅收等各方面也在扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金第一期規(guī)模1,387億元。,至少帶動(dòng)省市地方基金共4,651億元,拉動(dòng)國

23、內(nèi)企業(yè)內(nèi)生增長和海外并購。未來第二期基金計(jì)劃啟動(dòng),也將持續(xù)拉動(dòng)國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增長。2011-2016全球半導(dǎo)體用靶材年復(fù)合增長率3.17%,預(yù)計(jì)2018-2020國內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求增速在20%左右。國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)全球半導(dǎo)體用濺射靶材銷售額從2011年的10.1億美元到2016年為11.7億美元,年均復(fù)合增長率為3.17%,其中晶圓制造用濺射靶材年均復(fù)合增長率為2.07%,封裝測試用濺射靶材年均復(fù)合增長率為4.65%。2016年我國集成電路用濺射靶材市場規(guī)模約14億元,年增速達(dá)20%。供給端,隨著國產(chǎn)濺射靶材技術(shù)成熟,尤其是國產(chǎn)濺射靶材具備一定性價(jià)比優(yōu)勢,并且符合濺射靶材國產(chǎn)化的

24、政策導(dǎo)向;需求端,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢已基本確立,國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起將推動(dòng)國內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求的提升。預(yù)計(jì)2018-2020年我國濺射靶材的市場規(guī)模有望持續(xù)擴(kuò)大,復(fù)合增速將維持在2016年20%左右增速水平。2011-2016全球太陽能用靶材增速保持20%以上。太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了可觀的成長空間,2016年全球太陽能電池用濺射靶材市場規(guī)模23.4億美元,在全球靶材市場中占比約21%。2011-2016年全球太陽能靶材規(guī)模增速一直保持在20%以上。國內(nèi)靶材需求和供給反差懸殊,國產(chǎn)替代進(jìn)程加速。2015國內(nèi)靶材需求全球占比近25%,年速約20%;但國內(nèi)靶材企

25、業(yè)市場份額不到2%,供需比例反差明顯。隨著國內(nèi)濺射靶材技術(shù)的成熟和高純鋁生產(chǎn)技術(shù)的提高,我國靶材生產(chǎn)成本優(yōu)勢明顯,靶材原料之一高純鋁的國內(nèi)進(jìn)出口量差距也在逐步縮小。隨著2019年國家進(jìn)口靶材免稅期結(jié)束,國內(nèi)靶材企業(yè)優(yōu)勢更加突出。預(yù)計(jì)2018-2020年國內(nèi)靶材需求將維持20%以上高速增長,市場份額有望進(jìn)一步擴(kuò)大。二、鼓勵(lì)中小企業(yè)發(fā)展從經(jīng)濟(jì)的貢獻(xiàn)看,截至2017年底,我國民營企業(yè)的數(shù)量超過2700萬家,個(gè)體工商戶超過了6500萬戶,注冊資本超過165萬億元,民營經(jīng)濟(jì)占GDP的比重超過了60%,撐起了我國經(jīng)濟(jì)的“半壁江山”。作為中國經(jīng)濟(jì)最具活力的部分,民營經(jīng)濟(jì)未來將繼續(xù)穩(wěn)步發(fā)展壯大,為促進(jìn)我國經(jīng)濟(jì)

26、社會(huì)持續(xù)健康發(fā)展發(fā)揮更大作用。統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示,民營經(jīng)濟(jì)如今已成為中國經(jīng)濟(jì)的中堅(jiān)力量。截至2017年年底,我國實(shí)有個(gè)體工商戶6579.4萬戶,私營企業(yè)2726.3萬戶,廣義民營企業(yè)合計(jì)占全部市場主體的94.8%。而且,民營經(jīng)濟(jì)解決了絕大部分就業(yè),是技術(shù)進(jìn)步和創(chuàng)新的巨大驅(qū)動(dòng)力:創(chuàng)造了60%以上GDP,貢獻(xiàn)了70%以上的技術(shù)創(chuàng)新和新產(chǎn)品開發(fā),提供了80%以上的就業(yè)崗位。十九大報(bào)告提出,毫不動(dòng)搖鞏固和發(fā)展公有制經(jīng)濟(jì),毫不動(dòng)搖鼓勵(lì)、支持、引導(dǎo)非公有制經(jīng)濟(jì)發(fā)展。提振民營經(jīng)濟(jì)、激發(fā)民間投資已被列入重要清單。民營經(jīng)濟(jì)是經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的重要組成部分,在壯大區(qū)域經(jīng)濟(jì)、安排勞動(dòng)就業(yè)、增加城鄉(xiāng)居民收入、維護(hù)社會(huì)和諧穩(wěn)定

27、以及全面建成小康社會(huì)進(jìn)程中起著不可替代的作用,如何做大做強(qiáng)民營經(jīng)濟(jì),已成為當(dāng)前的一項(xiàng)重要課題。中小企業(yè)是我國國民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的重要力量,促進(jìn)中小企業(yè)發(fā)展,是保持國民經(jīng)濟(jì)平穩(wěn)較快發(fā)展的重要基礎(chǔ),是關(guān)系民生和社會(huì)穩(wěn)定的重大戰(zhàn)略任務(wù)。受國際金融危機(jī)沖擊,去年下半年以來,我國中小企業(yè)生產(chǎn)經(jīng)營困難。中央及時(shí)出臺(tái)相關(guān)政策措施,加大財(cái)稅、信貸等扶持力度,改善中小企業(yè)經(jīng)營環(huán)境,中小企業(yè)生產(chǎn)經(jīng)營出現(xiàn)了積極變化,但發(fā)展形勢依然嚴(yán)峻。中小企業(yè)是我國國民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)發(fā)展的重要力量,促進(jìn)中小企業(yè)發(fā)展,是保持國民經(jīng)濟(jì)平穩(wěn)較快發(fā)展的重要基礎(chǔ),是關(guān)系民生和社會(huì)穩(wěn)定的重大戰(zhàn)略任務(wù)。受國際金融危機(jī)沖擊,去年下半年以來,我國中小企

28、業(yè)生產(chǎn)經(jīng)營困難。中央及時(shí)出臺(tái)相關(guān)政策措施,加大財(cái)稅、信貸等扶持力度,改善中小企業(yè)經(jīng)營環(huán)境,中小企業(yè)生產(chǎn)經(jīng)營出現(xiàn)了積極變化,但發(fā)展形勢依然嚴(yán)峻。逐步擴(kuò)大中央財(cái)政預(yù)算扶持中小企業(yè)發(fā)展的專項(xiàng)資金規(guī)模,重點(diǎn)支持中小企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新、結(jié)構(gòu)調(diào)整、節(jié)能減排、開拓市場、擴(kuò)大就業(yè),以及改善對(duì)中小企業(yè)的公共服務(wù)。加快設(shè)立國家中小企業(yè)發(fā)展基金,發(fā)揮財(cái)政資金的引導(dǎo)作用,帶動(dòng)社會(huì)資金支持中小企業(yè)發(fā)展。地方財(cái)政也要加大對(duì)中小企業(yè)的支持力度。三、宏觀經(jīng)濟(jì)形勢分析當(dāng)前,我國經(jīng)濟(jì)已由高速增長轉(zhuǎn)向高質(zhì)量發(fā)展階段,正處在轉(zhuǎn)變發(fā)展方式、優(yōu)化經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)、轉(zhuǎn)換增長動(dòng)力的攻關(guān)期,建設(shè)現(xiàn)代化經(jīng)濟(jì)體系是跨越關(guān)口的迫切要求和我國發(fā)展的戰(zhàn)略目標(biāo)。國家統(tǒng)

29、計(jì)局最近發(fā)布的數(shù)據(jù)顯示,2015年至2017年我國經(jīng)濟(jì)發(fā)展新動(dòng)能指數(shù)分別為123.5、156.7、210.1,分別比上年增長23.5%、26.9%和34.1%,呈逐年加速之勢。四、靶材項(xiàng)目建設(shè)必要性分析靶材是濺射薄膜制備的源頭材料,又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。高純度濺射靶材主要應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積(PhysicalVaporDeposition,PVD)工藝。PVD鍍膜目前主要有三種形式,分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。為推動(dòng)國內(nèi)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展,增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和國際競爭力,帶動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造和產(chǎn)品升級(jí)換代,我國制定了一系列靶材行業(yè)相關(guān)支

30、持政策。靶材行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中,靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個(gè)靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。靶材產(chǎn)業(yè)下游包括半導(dǎo)體、光伏電池、平板顯示器等等,其中,半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材,主要種類包括:銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材,以及鎳鉑、鎢鈦等合金類的靶材。銅靶和鉭靶通常配合起來使用。靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中,在靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn),需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此,半導(dǎo)體芯片對(duì)靶材的要求是最高的,價(jià)格也最為昂

31、貴。半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一,也是對(duì)靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。目前晶圓的制造正朝著更小的制程方向發(fā)展,銅導(dǎo)線工藝的應(yīng)用量在逐步增大,因此,銅和鉭靶材的需求將有望持續(xù)增長。鋁靶和鈦靶通常配合起來使用。目前,在汽車電子芯片等需要110nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)來保證其穩(wěn)定性和抗干擾性的領(lǐng)域,仍需大量使用鋁、鈦靶材。目前,全球的靶材制造行業(yè),特別是高純度的靶材市場,呈現(xiàn)寡頭壟斷格局,主要由幾家美日大企業(yè)把持,如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛發(fā)科,以及美國霍尼韋爾、普萊克斯等。日礦金屬是全球最大的靶材供應(yīng)商,靶材銷售額約占全球市場的30%,霍尼韋爾在并購J

32、ohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后,占到全球市約20%的份額,此外,東曹和普萊克斯分別占20%和10%。目前,國內(nèi)靶材廠商主要聚焦在低端產(chǎn)品領(lǐng)域,在半導(dǎo)體、平板顯示器和太陽能電池等市場還無法與國際巨頭全面競爭。但是,依靠國內(nèi)的巨大市場潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策,以及產(chǎn)品價(jià)格優(yōu)勢,它們已經(jīng)在國內(nèi)市場占有一定的市場份額,并逐步在個(gè)別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國際大廠的市場空間。近年來,我國政府制定了一系列產(chǎn)業(yè)政策,如863計(jì)劃、02專項(xiàng)基金等來加速濺射靶材供應(yīng)的本土化進(jìn)程,推動(dòng)國產(chǎn)靶材在多個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從無到有的跨越。這些都從國家戰(zhàn)略高度扶植并推動(dòng)著濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展壯大。五、靶材行業(yè)分析

33、超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用到的濺射(Sputtering)工藝屬于物理氣相沉積(PVD)技術(shù)的一種,是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一,它利用離子源產(chǎn)生的離子,在高真空中經(jīng)過加速聚集,而形成高速度能的離子束流,轟擊固體表面,離子和固體表面原子發(fā)生動(dòng)能交換,使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面,被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料,稱為濺射靶材。一般來說,濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構(gòu)成,其中,靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料,屬于濺射靶材的核心部分,在濺射鍍膜過程中,靶坯被離子撞擊后,其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜;由于高純度金屬強(qiáng)度較低,而濺射靶材需要安裝在

34、專用的機(jī)臺(tái)內(nèi)完成濺射過程,機(jī)臺(tái)內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境,因此,超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合,背板起到主要起到固定濺射靶材的作用,且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中,半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn),需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長期實(shí)踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品,因此,半導(dǎo)體芯片對(duì)濺射靶材的要求是最高的,價(jià)格也最為昂貴;相較于半導(dǎo)體芯片,平面顯示器、太陽能電池對(duì)于濺射靶材的純度和技術(shù)要求略低一籌,但隨著靶材尺寸的增大,對(duì)濺射靶材的焊接結(jié)合率、平整度等指標(biāo)提出了更高的要求。此外,濺射靶材需要安裝在濺射機(jī)

35、臺(tái)內(nèi)完成濺射過程,濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng),對(duì)濺射靶材的形狀、尺寸和精度也設(shè)定了諸多限制。高純度乃至超高純度的金屬材料是生產(chǎn)高純?yōu)R射靶材的基礎(chǔ),以半導(dǎo)體芯片用濺射靶材為例,若濺射靶材雜質(zhì)含量過高,則形成的薄膜無法達(dá)到使用所要求的電性能,并且在濺射過程中易在晶圓上形成微粒,導(dǎo)致電路短路或損壞,嚴(yán)重影響薄膜的性能。通常情況下,高純金屬提純分為化學(xué)提純和物理提純,為了獲得更高純度的金屬材料,最大限度地去除雜質(zhì),需要將化學(xué)提純和物理提純結(jié)合使用。在將金屬提純到相當(dāng)高的純度后,往往還需配比其他金屬元素才能投入使用,在這個(gè)過程中,需要經(jīng)過熔煉、合金化和鑄造等步驟:通過精煉高純金屬,去除氧氣、氮?dú)獾榷嘤鄽怏w;再加入

36、少量合金元素,使其與高純金屬充分結(jié)合并均勻分布;最后將其鑄造成沒有缺陷的錠材,滿足生產(chǎn)加工過程中對(duì)金屬成份、尺寸大小的要求。濺射靶材制造環(huán)節(jié)首先需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝設(shè)計(jì),然后進(jìn)行反復(fù)的塑性變形、熱處理,需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標(biāo),再經(jīng)過焊接、機(jī)械加工、清洗干燥、真空包裝等工序。濺射靶材制造所涉及的工序精細(xì)且繁多,工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質(zhì)量和良品率。濺射鍍膜是指物體被離子撞擊時(shí),被濺射飛散出,因被濺射飛散的物體附著于目標(biāo)基板上而制成薄膜的過程,濺射靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。此環(huán)節(jié)是在濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈條中對(duì)生產(chǎn)設(shè)備及技術(shù)工藝要求最高的環(huán)節(jié)

37、,濺射薄膜的品質(zhì)對(duì)下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。在濺射鍍膜過程中,濺射靶材需要安裝在機(jī)臺(tái)中完成濺射反應(yīng),濺射機(jī)臺(tái)專用性強(qiáng)、精密度高,市場長期被美國、日本跨國集團(tuán)壟斷,主要設(shè)備提供商包括AMAT(美國)、ULVAC(日本)、ANELVA(日本)、Varian(美國)等行業(yè)內(nèi)知名企業(yè)。終端應(yīng)用是針對(duì)各類市場需求利用封裝好的元器件制成面向最終用戶的產(chǎn)品,包括汽車電子、智能手機(jī)、平板電腦、家用電器等終端消費(fèi)電子產(chǎn)品。通常情況下,在半導(dǎo)體靶材濺射鍍膜后,需要將鍍膜硅片切割并進(jìn)行芯片封裝。封裝是指將電路用導(dǎo)線連接到外部接頭處,以便與其他器件連接的工序,不僅能夠起到保護(hù)芯片的作用,還將芯片與外界隔離,防止空氣

38、中的雜質(zhì)對(duì)芯片電路造成腐蝕而損害導(dǎo)電性能。此外,終端應(yīng)用也包括制備太陽能電池、光學(xué)鍍膜、工具改性、高檔裝飾用品等,此環(huán)節(jié)技術(shù)面較寬,呈現(xiàn)多樣化特征。全球范圍內(nèi),濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)參與企業(yè)數(shù)量基本呈金字塔型分布,高純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大,具有規(guī)?;a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較少,主要分布在美國、日本等國家和地區(qū),其中,部分企業(yè)同時(shí)開展金屬提純業(yè)務(wù),將產(chǎn)業(yè)鏈延伸到上游領(lǐng)域;部分企業(yè)只擁有濺射靶材生產(chǎn)能力,高純度金屬需要上游企業(yè)供應(yīng)。濺射靶材最高端的應(yīng)用是在超大規(guī)模集成電路芯片制造領(lǐng)域,這個(gè)領(lǐng)域只有美國和日本的少數(shù)公司(日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯等)從事相關(guān)業(yè)務(wù),是一個(gè)被跨國

39、公司壟斷的行業(yè)。作為濺射靶材客戶端的濺射鍍膜環(huán)節(jié)具有規(guī)模化生產(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對(duì)較多,但質(zhì)量參差不齊,美國、歐洲、日本、韓國等知名企業(yè)居于技術(shù)領(lǐng)先地位,品牌知名度高、市場影響力大,通常會(huì)將產(chǎn)業(yè)鏈擴(kuò)展至下游應(yīng)用領(lǐng)域,利用技術(shù)先導(dǎo)優(yōu)勢和高端品牌迅速占領(lǐng)終端消費(fèi)市場,如IBM、飛利浦、東芝、三星等。終端應(yīng)用環(huán)節(jié)是整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈中規(guī)模最大的領(lǐng)域,其產(chǎn)品的開發(fā)與生產(chǎn)分散在各個(gè)行業(yè)領(lǐng)域,同時(shí),此環(huán)節(jié)具有突出的勞動(dòng)密集性特點(diǎn),參與企業(yè)數(shù)量最多,機(jī)器設(shè)備投資一般,主要分布在日本、中國臺(tái)灣和中國大陸等,并逐漸將生產(chǎn)工廠向人力成本低的國家和地區(qū)轉(zhuǎn)移。濺射靶材產(chǎn)業(yè)分布具有一定的區(qū)域性特征,美國、日本跨國集團(tuán)產(chǎn)業(yè)鏈完整,

40、囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個(gè)環(huán)節(jié),具備規(guī)?;a(chǎn)能力,在掌握先進(jìn)技術(shù)以后實(shí)施壟斷和封鎖,主導(dǎo)著技術(shù)革新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展;韓國、新加坡及中國臺(tái)灣地區(qū)在磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域有所特長。另外由于上述地區(qū)芯片及液晶面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展較早,促使服務(wù)分工明確,可以為產(chǎn)業(yè)鏈下游的品牌企業(yè)提供如焊接、清洗、包裝等專業(yè)代工服務(wù),將上游基礎(chǔ)材料和下游終端應(yīng)用對(duì)接,起到承上啟下的作用,并在一定程度上推動(dòng)上游濺射靶材的產(chǎn)品開發(fā)和市場擴(kuò)展。但是上述地區(qū)的靶材服務(wù)廠商缺少核心技術(shù)及裝備,不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術(shù)領(lǐng)域形成競爭力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國和日本的進(jìn)口。超高純金屬材料及濺射靶材在我國還

41、屬于較新的行業(yè),以芯片制造廠商、液晶面板制造企業(yè)為代表的下游濺射鍍膜和終端用戶正在加大力度擴(kuò)展產(chǎn)能。從全球來看,芯片及液晶面板行業(yè)制造向中國大陸轉(zhuǎn)移趨勢愈演愈烈,中國正在迎來這一領(lǐng)域的投資高峰。為此高端濺射靶材的應(yīng)用市場需求正在快速增長。由于濺射鍍膜工藝起源于國外,所需要的濺射靶材產(chǎn)品性能要求高、專業(yè)應(yīng)用性強(qiáng),因此,長期以來全球?yàn)R射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國、日本少數(shù)幾家公司,產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾(美國)、日礦金屬(日本)、東曹(日本)等跨國集團(tuán)為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領(lǐng)域,經(jīng)過幾十年的技術(shù)積淀,憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質(zhì)量居于全球?yàn)R射靶材市場的主導(dǎo)地

42、位,占據(jù)絕大部分市場份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后,實(shí)施極其嚴(yán)格的保密措施,限制技術(shù)擴(kuò)散,同時(shí)不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合,將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個(gè)應(yīng)用領(lǐng)域,牢牢把握著全球?yàn)R射靶材市場的主動(dòng)權(quán),并引領(lǐng)著全球?yàn)R射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。受到發(fā)展歷史和技術(shù)限制的影響,濺射靶材行業(yè)在我國起步較晚,目前仍然屬于一個(gè)較新的行業(yè)。與國際知名企業(yè)生產(chǎn)的濺射靶材相比,我國濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距,市場影響力相對(duì)有限,尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域,全球高純?yōu)R射靶材市場依然被美國、日本的濺射靶材生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展,我國

43、濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新,具備較強(qiáng)的產(chǎn)品開發(fā)能力,研制出適用不同應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材產(chǎn)品,才能在全球?yàn)R射靶材市場中占得一席之地。半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游工業(yè)對(duì)產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性等方面有較高的要求,為了嚴(yán)格控制產(chǎn)品質(zhì)量,下游客戶尤其是全球知名廠商在選擇供應(yīng)商時(shí),供應(yīng)商資格認(rèn)證壁壘較高,且認(rèn)證周期較長。我國高純?yōu)R射靶材企業(yè)要進(jìn)入國際市場,首先要通過部分國際組織和行業(yè)協(xié)會(huì)為高純?yōu)R射靶材設(shè)置的行業(yè)性質(zhì)量管理體系標(biāo)準(zhǔn),例如,應(yīng)用于汽車電子的半導(dǎo)體廠商普遍要求上游濺射靶材供應(yīng)商能夠通過ISO/TS16949質(zhì)量管理體系認(rèn)證,應(yīng)用于電器設(shè)備的濺射靶材生產(chǎn)商需要滿足歐盟制定的RoHS

44、強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn);其次,半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游知名客戶均建立了十分完善的客戶認(rèn)證體系,在高純?yōu)R射靶材供應(yīng)商滿足行業(yè)性質(zhì)量管理體系認(rèn)證的基礎(chǔ)上,下游客戶往往還會(huì)根據(jù)自身的質(zhì)量管理要求再對(duì)供應(yīng)商進(jìn)行合格供應(yīng)商認(rèn)證。認(rèn)證過程主要包括技術(shù)評(píng)審、產(chǎn)品報(bào)價(jià)、樣品檢測、小批量試用、批量生產(chǎn)等幾個(gè)階段,認(rèn)證過程相當(dāng)苛刻,從新產(chǎn)品開發(fā)到實(shí)現(xiàn)大批量供貨,整個(gè)過程一般需要2-3年時(shí)間。為了降低供應(yīng)商開發(fā)與維護(hù)成本,保證產(chǎn)品質(zhì)量的持續(xù)性,濺射靶材供應(yīng)商在通過下游客戶的資格認(rèn)證后,下游客戶會(huì)與濺射靶材供應(yīng)商保持長期穩(wěn)定的合作關(guān)系,不會(huì)輕易更換供應(yīng)商,并在技術(shù)合作、供貨份額等方面向優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商傾斜。近年來,受益

45、于國家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣,我國國內(nèi)開始出現(xiàn)不少專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè),并成功開發(fā)出一批能適應(yīng)高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材,為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場化條件。通過將濺射靶材研發(fā)成果產(chǎn)業(yè)化,積極參與濺射靶材的國際化市場競爭,我國濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)在技術(shù)和市場方面都取得了長足的進(jìn)步,改變了高純?yōu)R射靶材長期依賴進(jìn)口的不利局面。目前,包括長沙鑫康在內(nèi)的一些國內(nèi)企業(yè)已經(jīng)掌握了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù),積累了較為豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗(yàn),擁有了一定的市場知名度,獲得了全球知名客戶的認(rèn)可。六、靶材市場分析預(yù)測靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)

46、展趨勢息息相關(guān),隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn),靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話,靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的

47、應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來,濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展,極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如,在半導(dǎo)體集成電路制造過程中,以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線:在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中,各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展,有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中,磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加,新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求,需求數(shù)量也逐年增加。日本。就美國而言.約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商,其中最大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者,以便提供更完善的售后服務(wù),全球主要靶材制造商通常

48、會(huì)在客戶所在地設(shè)立分公司。近段時(shí)間,亞洲的一些國家和地區(qū),如臺(tái)灣.韓國和新加坡,就建立了越來越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠,如IC、液晶顯示器及光碟制造廠。對(duì)靶材廠商而言,這是相當(dāng)重要的新興市場。中國靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增,不斷的擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù),國內(nèi)一線生產(chǎn)制造靶材的品牌已經(jīng)達(dá)到國外最頂尖的技術(shù)水平。2010年,日本三菱公司就在中國臺(tái)灣地區(qū)建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地,可以滿足臺(tái)灣50%的靶材需要。BCC(BusinessCommunicationsCompany,商業(yè)咨詢公司)最新的統(tǒng)計(jì)報(bào)告指出,全球靶材市場將以8.8%的年平均增長率(AAGR)在今后的5年內(nèi)持續(xù)增長,估計(jì)銷售額將從

49、1999年的7.2億美元增加到2004年的11億美元。靶材是一種具有高附加價(jià)值的特種電子材料,主要使用在微電子,顯示器,存儲(chǔ)器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上,用以濺射用于尖端技術(shù)的各種薄膜材料。BCC的報(bào)告顯示:全球的上述產(chǎn)業(yè)在1999年使用了2.88百萬公斤靶材。換算為面積,則濺射了363百萬平方米的薄膜。而若以單位靶材來計(jì)算,全球在1999年則大約使用了37400單位的靶材。這里所要指出的是,隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的不同,靶材的形狀與大小也有所差異,其直徑從15Gm到3m都有,而上述的統(tǒng)計(jì)資料,則是平均化后的結(jié)果。在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是最苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶

50、片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對(duì)靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒,這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外,薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大,過去99.995%(4N5)純度的銅靶,或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求,但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求,而未米的0.18um藝甚至0.13m工藝,所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。平面顯示器(FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場,亦將帶動(dòng)ITO靶材的技術(shù)與市場需求。如今的iTO靶材有兩種.一種是

51、采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié),一種是采用銦錫合金靶材。銦錫合金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜,但是靶表面會(huì)氧化而影響濺射率,并且不易得到大尺寸的臺(tái)金靶材。如今一般采取第一種方法生產(chǎn)ITO靶材,利用LIRF反應(yīng)濺射鍍膜.靶材具有沉積速度快.且能精確控制膜厚,電導(dǎo)率高,薄膜的一致性好,與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)l。但是靶材制作困難,這是因?yàn)檠趸熀脱趸a不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑,能夠獲得密度為理論值的93%98%的靶材,這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。在儲(chǔ)存技術(shù)方面,高密度、大容量硬盤的發(fā)展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,

52、CoFCu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展,用它制造的磁光盤具有存儲(chǔ)容量大,壽命長,可反復(fù)無接觸擦寫的特點(diǎn)。如今開發(fā)出來的磁光盤,具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu),TbFeCo/AI結(jié)構(gòu)的Kerr旋轉(zhuǎn)角達(dá)到58,而TbFeCofFa則可以接近0.8。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn),低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強(qiáng)度?;阪N銻碲化物的相變存儲(chǔ)器(PCM)顯示出顯著的商業(yè)化潛力,是NOR型閃存和部分DRAM市場的一項(xiàng)替代性存儲(chǔ)器技術(shù),不過,在實(shí)現(xiàn)更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰(zhàn)之一,便是缺乏能夠生產(chǎn)可進(jìn)一步調(diào)低復(fù)位電流的完全

53、密閉單元。降低復(fù)位電流可降低存儲(chǔ)器的耗電量,延長電池壽命和提高數(shù)據(jù)帶寬,這對(duì)于當(dāng)前以數(shù)據(jù)為中心的、高度便攜式的消費(fèi)設(shè)備來說都是很重要的特征。第四章 項(xiàng)目建設(shè)主要內(nèi)容和規(guī)模(一)用地規(guī)模該項(xiàng)目總征地面積50525.25平方米(折合約75.75畝),其中:凈用地面積50525.25平方米(紅線范圍折合約75.75畝)。項(xiàng)目規(guī)劃總建筑面積78314.14平方米,其中:規(guī)劃建設(shè)主體工程58137.92平方米,計(jì)容建筑面積78314.14平方米;預(yù)計(jì)建筑工程投資6050.28萬元。(二)設(shè)備購置項(xiàng)目計(jì)劃購置設(shè)備共計(jì)104臺(tái)(套),設(shè)備購置費(fèi)4660.14萬元。二、產(chǎn)值規(guī)模項(xiàng)目計(jì)劃總投資16860.68萬

54、元;預(yù)計(jì)年實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入27557.00萬元。第五章 項(xiàng)目建設(shè)地點(diǎn)一、靶材項(xiàng)目建設(shè)選址原則為了更好地發(fā)揮其經(jīng)濟(jì)效益并綜合考慮環(huán)境等多方面的因素,根據(jù)靶材項(xiàng)目選址的一般原則和靶材項(xiàng)目建設(shè)地的實(shí)際情況,“靶材項(xiàng)目”選址應(yīng)遵循以下原則:1、布局相對(duì)獨(dú)立,便于集中開展科研、生產(chǎn)經(jīng)營和管理活動(dòng)。2、與靶材項(xiàng)目建設(shè)地的建成區(qū)有較方便的聯(lián)系。3、地理?xiàng)l件較好,并有足夠的發(fā)展?jié)摿Α?、城市基礎(chǔ)設(shè)施等配套較為完善。5、以城市總體規(guī)劃為依據(jù),統(tǒng)籌考慮用地與城市發(fā)展的關(guān)系。6、兼顧環(huán)境因素影響,具有可持續(xù)發(fā)展的條件。二、靶材項(xiàng)目選址方案及土地權(quán)屬(一)靶材項(xiàng)目選址方案1、靶材項(xiàng)目建設(shè)單位通過對(duì)靶材項(xiàng)目擬建場地縝密調(diào)研

55、,充分考慮了靶材項(xiàng)目生產(chǎn)所需的內(nèi)部和外部條件:距原料產(chǎn)地的遠(yuǎn)近、企業(yè)勞動(dòng)力成本、生產(chǎn)成本以及擬建區(qū)域產(chǎn)業(yè)配套情況、基礎(chǔ)設(shè)施條件及土地成本等。2、通過對(duì)可供選擇的建設(shè)地區(qū)進(jìn)行比選,綜合考慮后選定的靶材項(xiàng)目最佳建設(shè)地點(diǎn)靶材項(xiàng)目建設(shè)地,所選區(qū)域完善的基礎(chǔ)設(shè)施和配套的生活設(shè)施為靶材項(xiàng)目建設(shè)提供了良好的投資環(huán)境。長春,簡稱長,古稱喜都、茶啊沖、黃龍府,別稱北國春城,是吉林省省會(huì)、副省級(jí)市、長春城市群核心城市,國務(wù)院批復(fù)確定的中國東北地區(qū)中心城市之一和重要的工業(yè)基地。截至2018年,全市下轄7個(gè)區(qū)、1個(gè)縣、代管2個(gè)縣級(jí)市,總面積20593.5平方千米,建成區(qū)面積519.04平方千米,戶籍人口751.3萬人

56、,城鎮(zhèn)人口441.5萬人,城鎮(zhèn)化率58.8%。長春地處中國東北地區(qū),位于東北的地理中心,東北亞經(jīng)濟(jì)圈中心城市,分別與松原市、四平市、吉林市和哈爾濱市接壤,是著名的中國老工業(yè)基地,是新中國最早的汽車工業(yè)基地和電影制作基地,有東方底特律和東方好萊塢之稱,同時(shí)還是新中國軌道客車、光電技術(shù)、應(yīng)用化學(xué)、生物制品等產(chǎn)業(yè)發(fā)展的搖籃,誕生了著名的中國一汽、長春電影制片廠、長春客車廠、中國科學(xué)院長春光學(xué)精密機(jī)械與物理研究所、中國科學(xué)院長春應(yīng)用化學(xué)研究所、長春生物制品研究所。長春是國家歷史文化名城,曾是偽滿洲國首都,具有眾多歷史古跡、工業(yè)遺產(chǎn)和文化遺存,是近代東北亞政治軍事沖突完整歷程的集中見證地;也是中國四大園

57、林城市之一,享有北國春城的美譽(yù),綠化率居于亞洲大城市前列;還是中國制造2025試點(diǎn)城市、首批全國城市設(shè)計(jì)試點(diǎn)城市,位列2018自然指數(shù)科研城市全球50強(qiáng)、中國10強(qiáng)。2016年2月,國務(wù)院批復(fù)設(shè)立國家級(jí)新區(qū)長春新區(qū)。2019年8月,中國海關(guān)總署主辦的中國海關(guān)雜志公布了2018年中國外貿(mào)百強(qiáng)城市排名,排名第30。(二)工程地質(zhì)條件1、根據(jù)建筑抗震設(shè)計(jì)規(guī)范(GB50011)標(biāo)準(zhǔn)要求,靶材項(xiàng)目建設(shè)地?zé)o活動(dòng)斷裂性通過,無液化土層及可能震陷的土層分布,地層均勻性密實(shí)較好,因此,本期工程靶材項(xiàng)目建設(shè)區(qū)處于地質(zhì)構(gòu)造運(yùn)動(dòng)相對(duì)良好的地帶,地下水為上層滯水,對(duì)混凝土無腐蝕性,各土層分布穩(wěn)定、均勻而適宜建筑。2、擬建場地目前尚未進(jìn)行地質(zhì)勘探,參考臨近建筑物的地質(zhì)資料,地基土層由第四系全新統(tǒng)(Q4)雜填土、粉質(zhì)粘土、淤泥質(zhì)粉土、圓礫卵石層組成,圓礫卵石作為建筑物的持力層,Pk=300.00Kpa;建設(shè)區(qū)域地質(zhì)抗風(fēng)化能力較強(qiáng),地層承載力高,工程地質(zhì)條件較好,不會(huì)受到滑坡及泥石流等次生災(zāi)害的影響,無不良地質(zhì)現(xiàn)象,地殼處于穩(wěn)定狀態(tài),場地地貌簡單適應(yīng)本期工程靶材項(xiàng)目建設(shè)。三、靶材項(xiàng)目用地總體要求(一)靶材項(xiàng)目用地控制指標(biāo)分析1、“

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