專利申請(qǐng)實(shí)務(wù)

1、專利申請(qǐng)實(shí)務(wù)專利申請(qǐng)實(shí)務(wù) 武漢市關(guān)山大道武漢市關(guān)山大道111111號(hào)光谷時(shí)代廣場(chǎng)號(hào)光谷時(shí)代廣場(chǎng)A A座座26012601室室 電話：電話027-87782606 郵箱：郵箱： 網(wǎng)址：網(wǎng)址： 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 武漢分所武漢分所 朱詩(shī)恩朱詩(shī)恩 機(jī)械工程師機(jī)械工程師 律師律師 專利代理人專利代理人1991年華中農(nóng)業(yè)大學(xué)機(jī)械設(shè)計(jì)本科 2008華中科技大學(xué)經(jīng)濟(jì)法專利戰(zhàn)略方向碩士 三一集團(tuán)首席知識(shí)產(chǎn)權(quán)維權(quán)律師、專利審核工程師 人人 員員 構(gòu)構(gòu) 成成 機(jī)械代理人 26人 電學(xué)代理人 24人 化學(xué)代理人 17人 律師

2、 8人 商標(biāo)代理人 12人 學(xué)士學(xué)位28人 碩士學(xué)位45人 博士、博士后4人 清華大學(xué)副教授3人 4 業(yè)業(yè) 務(wù)務(wù) 范范 圍圍 中國(guó)專利申請(qǐng) 外國(guó)專利申請(qǐng) （PCT途徑、巴黎公 約途徑） 專利復(fù)審 專利申請(qǐng) 商標(biāo)及 其他 商標(biāo)注冊(cè)申請(qǐng) 商標(biāo)復(fù)審申請(qǐng) 商標(biāo)異議、撤銷申請(qǐng) 商標(biāo)的轉(zhuǎn)讓、許可備案 軟件著作權(quán)登記 著作權(quán)登記 高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)定 侵權(quán)糾紛 權(quán)屬糾紛 專利無(wú)效宣告 法律顧問(wèn) 企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)制度建設(shè) 企業(yè)專利預(yù)警 專利分析 專利轉(zhuǎn)讓、許可備案 專利數(shù)據(jù)庫(kù) 企業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)戰(zhàn)略 企業(yè)知識(shí)產(chǎn) 權(quán)管理 專利維權(quán) 2008 2009 2010 2011 2012 622 774 1500 2750 4000

3、 專利代理歷史數(shù)據(jù)專利代理歷史數(shù)據(jù) 主要國(guó)內(nèi)合作企業(yè)及技術(shù)領(lǐng)域 解決如下問(wèn)題 什么是專利？什么是專利？ 如何申請(qǐng)專利？如何申請(qǐng)專利？ 申請(qǐng)流程？申請(qǐng)流程？ 申請(qǐng)人應(yīng)提供哪些技術(shù)資料？申請(qǐng)人應(yīng)提供哪些技術(shù)資料？ 專利申請(qǐng)需要提交哪些文件？專利申請(qǐng)需要提交哪些文件？ 專利申請(qǐng)現(xiàn)狀？專利申請(qǐng)現(xiàn)狀？ 申請(qǐng)專利的注意事項(xiàng)？申請(qǐng)專利的注意事項(xiàng)？ 專利政策？專利政策？ 一、什么是專利 價(jià)值價(jià)值500500萬(wàn)英鎊的專利萬(wàn)英鎊的專利 技術(shù)方案技術(shù)方案 國(guó)家授予的相對(duì)壟斷的權(quán)利國(guó)家授予的相對(duì)壟斷的權(quán)利 法定性法定性 先申請(qǐng)制先申請(qǐng)制 獨(dú)占性獨(dú)占性 公開 壟斷 時(shí)間性時(shí)間性 發(fā)明專利 20年 實(shí)用新型專利 10年

4、外觀設(shè)計(jì)專利 10年 地域性地域性 專利是什么專利是什么? ? 專利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn)專利授權(quán)標(biāo)準(zhǔn) 新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性新穎性、創(chuàng)造性、實(shí)用性 例： 本 申 請(qǐng)：一種防腐涂料用添加劑，其特征在于包含石蠟。 現(xiàn)有技術(shù)：公開了一種塑料加工用的脫模劑，其中包含石蠟。 新穎性？創(chuàng)造性？新穎性？創(chuàng)造性？ 例： 本申請(qǐng)：一種復(fù)合地板，其包括基材、復(fù)合于基材下面的防潮層 和復(fù)合于基材上面的耐磨層，該耐磨層為材料A。 對(duì)比文件：一種地板，其包括基材和復(fù)合于基材下面的防潮層和 復(fù)合于基材上面的耐磨層，該耐磨層為材料B。 材料A和材料B均為已知的耐磨材料(替換)。 新穎性？ 創(chuàng)造性？ 二、如何申請(qǐng)專利 產(chǎn)品的圖案產(chǎn)品的圖

5、案 產(chǎn)品的色彩與形狀的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與形狀的結(jié)合 產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的形狀 產(chǎn)品的形狀、圖案的結(jié)合產(chǎn)品的形狀、圖案的結(jié)合 富有美感、適于富有美感、適于 工業(yè)應(yīng)用的工業(yè)應(yīng)用的 新設(shè)計(jì)新設(shè)計(jì) 外觀設(shè)計(jì)外觀設(shè)計(jì) 與現(xiàn)有設(shè)計(jì)相比，與現(xiàn)有設(shè)計(jì)相比， 具有明顯區(qū)別具有明顯區(qū)別 產(chǎn)品的色彩與圖案的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與圖案的結(jié)合 產(chǎn)品的色彩與形狀、圖案的結(jié)合產(chǎn)品的色彩與形狀、圖案的結(jié)合 產(chǎn)品的形狀產(chǎn)品的形狀 產(chǎn)品的構(gòu)造產(chǎn)品的構(gòu)造 產(chǎn)品的形狀、結(jié)構(gòu)的結(jié)合產(chǎn)品的形狀、結(jié)構(gòu)的結(jié)合 新的技術(shù)方案新的技術(shù)方案 具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)具有實(shí)質(zhì)性特點(diǎn) 進(jìn)步進(jìn)步 實(shí)用新型實(shí)用新型 產(chǎn)品的改進(jìn)產(chǎn)品的改進(jìn) 方法的改進(jìn)方法的改進(jìn) 新產(chǎn)品新產(chǎn)品 新

6、方法新方法 新的技術(shù)方案新的技術(shù)方案 發(fā)明發(fā)明 具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn)具有突出的實(shí)質(zhì)性特點(diǎn) 顯著的進(jìn)步顯著的進(jìn)步 審查意見審查意見答復(fù)答復(fù) 批準(zhǔn)批準(zhǔn) 三、專利流程 發(fā)明創(chuàng)造發(fā)明創(chuàng)造 技術(shù)技術(shù) 交底書交底書 專利撰寫專利撰寫 申請(qǐng)申請(qǐng) 專利證書專利證書年費(fèi)年費(fèi)維權(quán)維權(quán) 繳費(fèi)繳費(fèi) 辦登辦登 四、技術(shù)交底資料 發(fā)明名稱 技術(shù)領(lǐng)域 背景技術(shù) 對(duì)現(xiàn)有技術(shù)如結(jié)構(gòu)、原理的描繪、評(píng)價(jià)，指出現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足 發(fā)明創(chuàng)造內(nèi)容 本發(fā)明創(chuàng)造所解決的技術(shù)問(wèn)題； 本發(fā)明的技術(shù)方案； 達(dá)到的有益效果。 具體實(shí)施例 盡可能詳細(xì)地對(duì)照附圖標(biāo)記清楚、完整地描述發(fā)明創(chuàng)造的技術(shù)方案。 附圖 用CAD或其他軟件繪制，清楚地表達(dá)產(chǎn)品的結(jié)

7、構(gòu)即可，不需要精確的尺寸， 不著色，不能有文字標(biāo)注（流程圖除外） 。 技術(shù)交底資料常見問(wèn)題 沒(méi)有技術(shù)方案 描述一大堆理論，無(wú)論是現(xiàn)有的還是新發(fā)現(xiàn)的 只描述產(chǎn)品或方法的功能及效果 技術(shù)方案公開不充分 擔(dān)心泄密 不知道公開程度 附圖不合格 發(fā)明或?qū)嵱眯滦透綀D采用照片、渲染圖、色塊圖 五、專利申請(qǐng)文件 專利申請(qǐng)請(qǐng)求書 委托書 發(fā)明：說(shuō)明書摘要、摘要附圖（必要時(shí)）、權(quán)利要求書、說(shuō)明 書、說(shuō)明書附圖（必要時(shí)） 實(shí)用新型：說(shuō)明書摘要、摘要附圖、權(quán)利要求書、說(shuō)明書、說(shuō) 明書附圖。 外觀設(shè)計(jì)：外觀設(shè)計(jì)的圖片或照片、簡(jiǎn)要說(shuō)明 六、專利申請(qǐng)現(xiàn)狀 2010年度世界前8位專利申請(qǐng)量 中國(guó)專利申請(qǐng)量 武漢市專利申請(qǐng)量

8、2012年武漢各區(qū)申請(qǐng)狀況 七、申請(qǐng)專利的注意事項(xiàng) 申請(qǐng)專利與技術(shù)難度無(wú)關(guān) 產(chǎn)品未動(dòng) 專利先行 出版公開（報(bào)刊、雜志、網(wǎng)絡(luò)發(fā)表） 使用公開 口述公開 專利 Vs 保密 反向工程 技術(shù)進(jìn)步 國(guó)家政策 可能導(dǎo)致專利 喪失新穎性 八、專利政策 武漢市創(chuàng)新型企業(yè)申報(bào)表（武漢市科技局二一二年八月制）（武漢市科技局二一二年八月制） 二、企業(yè)定量評(píng)價(jià)（三）百名研發(fā)人員擁有的授權(quán)發(fā)明專利數(shù)和申請(qǐng)受理數(shù) 武漢市創(chuàng)新型試點(diǎn)企業(yè)申報(bào)表 一、企業(yè)概況及創(chuàng)新基礎(chǔ) 2、創(chuàng)新基礎(chǔ)：產(chǎn)品擁有的專利數(shù)，其中發(fā)明專利數(shù)，授權(quán)專利總數(shù)，受理專利總 數(shù)，百名研發(fā)人員擁有專利數(shù)=100*（授權(quán)專利數(shù)+受理專利數(shù)）/研發(fā)人員數(shù) 高新技術(shù)

9、企業(yè)認(rèn)定 要求：1件發(fā)明專利權(quán)或者6件其他知識(shí)產(chǎn)權(quán)（不包括商標(biāo)） 所得稅稅率15%，出口產(chǎn)品產(chǎn)值達(dá)到當(dāng)年總產(chǎn)值70%以上的，所得稅稅率10% 新辦的內(nèi)資高新技術(shù)企業(yè)，從投產(chǎn)年度起，兩年內(nèi)免征所得稅 關(guān)于開展二一二年度武漢市著名商標(biāo)認(rèn)定工作的通知 市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局關(guān)于辦理2012年專利與集成電路布圖設(shè)計(jì)資助 工作的通知 1、國(guó)內(nèi)專利申請(qǐng)獲權(quán)資助、國(guó)內(nèi)專利申請(qǐng)獲權(quán)資助 （其中發(fā)明專利必須通過(guò)已在我局登記備案的專利代理機(jī)構(gòu)提出） 職務(wù)發(fā)明：發(fā)明專利權(quán) 2500元/件； 實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)專利權(quán) 300元/件 非職務(wù)發(fā)明：發(fā)明專利權(quán) 1000元/件 實(shí)用新型、外觀設(shè)計(jì)專利權(quán) 150元/件 2 2、外國(guó)專利

10、資助標(biāo)準(zhǔn)（企業(yè)）、外國(guó)專利資助標(biāo)準(zhǔn)（企業(yè)） 獲得北美發(fā)達(dá)國(guó)家、歐盟發(fā)達(dá)國(guó)家和日本發(fā)明專利權(quán) 10萬(wàn)元/件 獲得上述國(guó)家以外的其他國(guó)家發(fā)明專利權(quán) 3萬(wàn)元/件 3 3、專項(xiàng)資助、專項(xiàng)資助（必須是通過(guò)已在我局登記備案的專利代理機(jī)構(gòu)代理的） 專利申請(qǐng)量超過(guò)50件、發(fā)明專利占申請(qǐng)總量30%以上的規(guī)模企業(yè) 4 4、集成電路布圖設(shè)計(jì)登記資助集成電路布圖設(shè)計(jì)登記資助 1000元/件 武漢市知識(shí)產(chǎn)權(quán)局東湖新技術(shù)開發(fā)區(qū)分局 關(guān)于開展關(guān)于開展20122012年年專利專利申請(qǐng)申請(qǐng)資助資助工作的通知工作的通知 （武知分局發(fā)（武知分局發(fā)2012120121號(hào)）號(hào)） 國(guó)內(nèi)專利申請(qǐng)資助標(biāo)準(zhǔn)（申請(qǐng)港、澳、臺(tái)地區(qū)專利的參照?qǐng)?zhí)行）： 1、發(fā)明2000元/件 2、實(shí)用新型500元/件 3、外觀設(shè)計(jì)300元/件 PCT專利申請(qǐng)資助標(biāo)準(zhǔn)：5000元/件 關(guān)于開展東湖高新區(qū)計(jì)算機(jī)軟件著作權(quán)