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文檔簡介
1、中國材料工程大典材料表面工程卷出版中國表面工程2006位3結(jié)論(1)鍍層厚度在0.92.1m范圍內(nèi)變化,受靶基距影響明顯.隨靶基徑向距增大厚度顯著減小,減小趨勢逐漸變緩;隨靶基軸向距增大厚度先增后減,在中心區(qū)域基本不變.靶基徑向距對鍍層厚度的影響明顯強(qiáng)于靶基軸向距.(2)鍍層厚度均勻性隨靶基徑向距增大而逐漸改善,在靶基軸向距的中心區(qū)域有好的鍍層均勻性.(3)udp450設(shè)備能夠處理直徑180iilln,高度100iilin以內(nèi)的較大尺寸工件并保證鍍層厚度均勻.(4)真空室內(nèi)的磁場分布和粒子遷移中的散射碰撞是導(dǎo)致靶基距影響鍍層厚度及其均勻性的主要原因.參考文獻(xiàn):1】hiroshifujiyama
2、,kiyoshikuwahara.magnetronplasmasforlarge-areauniformsputteringjj.surfaceandcoatingstechnology,1995,74?75:75-79+2】reinerkukla.magneonsputteringonlargescalesubstrates:anoverviewonthestateofthea九j】_surfaceandcoatingstechnology,1997,93:1-6.f33徐均琪,易紅偉,等.磁控濺射膜厚均勻性與靶.基距關(guān)系的研究j.真空,2004,41(2):25-28.4】惠迎雪,等.不
3、同磁控濺射模式膜厚均勻性研究j.西安工業(yè)學(xué)院,2003,23(1):32.36.5】徐均琪,杭凌俠,蔡長龍.磁控濺射離子束流密度的研究j】.真空科學(xué)與技術(shù),2004,24(1):74-76.6宋建全,劉正堂,等.平面磁控濺射薄膜厚度分布模擬j】.機(jī)械科學(xué)與技術(shù),200l20(6):884?885.7】vankasp,luog,glumacng.parametriceffectsonthinfilmgrowthanduniformityinanatmosphericpressureimpingingjetcvdreactorj】.journalofcrystalgrowth.2004f267)2
4、234.8韓雷剛.多工位平面磁控濺射鍍膜裝置及膜厚分布均勻性研究d】+成都:電子科技大學(xué),2004.作者地址:西安市金花南路5號710048西安理工大學(xué)材料學(xué)院tel:(029)8231259213571998794e-mail:denglch163+com-書訊?(<中國材料工程抖亡j陛卷出版材料表面工程是中國材料工程大典>)中的第16卷,第17卷,已由化學(xué)工業(yè)出版社出版.材料表面工程是反映當(dāng)代表面工程技術(shù)水平的大型綜合性工具書,內(nèi)容由三個(gè)部分組成.表面工程基礎(chǔ)知識:闡述了表面工程的內(nèi)涵,功能,分類,發(fā)展歷程,材料服役中的表面失效及防治,表面覆層的界面結(jié)合機(jī)理;表面工程技術(shù):介紹
5、了涂裝,熱噴涂,堆焊,電鍍,電刷鍍,化學(xué)鍍,轉(zhuǎn)化膜技術(shù),化學(xué)熱處理,熱浸鍍,物理化學(xué)氣相沉積,高能束表面處理,納米表面工程,材料的封存與包裝等常用表面工程技術(shù)的基本原理,適用場合,工藝選擇,材料選用原則,質(zhì)量檢測與控制,安全防護(hù)等內(nèi)容;表面工程技術(shù)綜合運(yùn)用:介紹了單一表面工程技術(shù)和復(fù)合表面工程技術(shù)的選用原則,不同服役工況下的涂覆材料設(shè)計(jì)及表面工程技術(shù)經(jīng)濟(jì)分析.材料表面工程>)由徐濱士院士,劉世參教授任主編,并邀請了國內(nèi)外20位專家撰稿,書中內(nèi)容以作者們近期的研究成果為主,同時(shí)匯集了國內(nèi)外表面工程技術(shù)新進(jìn)展.全書著力為現(xiàn)代企業(yè)正確選材,合理用材,啟迪技術(shù)創(chuàng)新服務(wù).讀者對象是具有大專以上文化
6、水平,從事制造,再制造及維修的工程技術(shù)人員.也可供研究人員,理工院校的有關(guān)師生參考.每卷售價(jià)130元.材料表面工程第16,17卷的目錄是:第1篇:概論主編:徐濱士院士,劉世參教授第2篇:材料服役中表面的失效行為及防治主編:涂善東教授第3篇:表面覆層形成與結(jié)合機(jī)理主編:徐濱士院士,朱紹華教授第4篇:涂裝主編:吳行教授第5篇:熱噴涂主編:徐濱士院士,李長久教授第6篇:堆焊主編:董祖玨教授第7篇:電鍍與電刷鍍主編:馬世寧教授第8篇:化學(xué)鍍與轉(zhuǎn)化膜技術(shù)主編:姜曉霞研究員,董首山研究員第9篇:化學(xué)熱處理主編:董漢山教授第10篇:熱浸鍍主編:邦津f研究員第1l篇:氣相沉積技術(shù)及功能薄膜材料制備主編:呂反修教授第12篇:高能束表面處理技術(shù)主編:左鐵釧教授第13篇:納米表面工程主編:徐濱士院士第14篇:封
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