超凈高純資料摘要

1、霍尼韋爾公司可為全球半導體行業(yè)供應(yīng)雜質(zhì)在100ppt（萬億分之一百）以下的高純度濕法電子化學品，如氫氟酸、氫氧化銨、過氧化氫和鹽酸等產(chǎn)品，其材料部每年可創(chuàng)出約10 億美元的收入，公司在美國、中國、韓國、日本、印度和新加坡都經(jīng)營電子化學品業(yè)務(wù)。另外，公司最近對其設(shè)在新加坡的地區(qū)總部投資2500 萬美元，以發(fā)展其在亞太地區(qū)業(yè)務(wù)，并將重點發(fā)展在中國和印度的電子化學品業(yè)務(wù)通過對新型超凈高純試劑同常規(guī)CMOS 酸堿試劑同時進行CMOS 工藝中柵氧化前的清洗實驗,從清洗后硅片殘留金屬量的電感耦合高頻等離子體原子發(fā)射光譜分析、硅片表面形貌的AFM 分析和MOS 電容測量三個方面進行了應(yīng)用實驗.結(jié)果表明,以超

2、凈高純乙腈為主要組分的新型試劑,其清洗效果總體優(yōu)于常規(guī)CMOS 酸堿試劑,可以考慮在半導體器件相應(yīng)清洗工藝中采用。超凈高純試劑的主要用途,一是用于基片在涂膠前的濕法清洗,二是用于在光刻過程中的蝕 刻及最終的去膠,三是用于硅片本身制作過程中的清洗。硅圓片在進行工藝加工過程中,常常會被不同的雜質(zhì)所沾污,這些雜質(zhì)的沾污將導致IC 的產(chǎn) 率下降大約50%。為了獲得高質(zhì)量、高產(chǎn)率的集成電路芯片,必須將這些沾污物去除干凈。氮化硅膜在室溫下用氫氟酸或磷酸進行蝕刻。半導體膜蝕刻：主要是指單晶硅和多晶硅的蝕刻,通常采用混合酸蝕刻液進行蝕刻。導體膜蝕刻：在Si 材料集成電路中,金屬導線常采用Al、Al-Si 合金

3、膜,濕法蝕刻圖形化后Al 和Al-Si 金屬膜常采用磷酸蝕刻液進行蝕刻。有機材料蝕刻：主要是指光刻膠在經(jīng)過顯影和圖形轉(zhuǎn)移后的去膠。常用的正膠顯影液有四甲基氫氧化銨,去膠劑可采用熱的過氧化氫-硫酸氧化去膠或采用廠家提供的專用去膠劑或剝離液來去除膠膜。2007 年默克化工技術(shù)（上海）有限公司建立了松江基地Ashland亞什蘭集團在中國的業(yè)務(wù)穩(wěn)步增長，先后成立了四家全資子公司，勝牌（上海）潤滑油有限公司、亞什蘭（常州）化學有限公司、亞什蘭聚酯（昆山）有限公司、常州亞什蘭現(xiàn)代化學有限公司，一家合資企業(yè)康勝（上海）潤滑油有限公司，在北京、上海設(shè)立了銷售代表處。亞什蘭集團對常州和昆山的生產(chǎn)工廠進行擴建和升

4、級，其中在常州的項目2005 年投產(chǎn)。2006 年4 月，西格瑪奧德里奇進軍中國，并收購了北京舒伯偉化工儀器公司。2008 年在無錫投資建廠，從事高純度化學品、生化試劑的規(guī)?；a(chǎn)及分裝，2009 年中國市場銷售額約6.5 億元。德國默克集團于1995 年開始開拓中國市場，2009 年在中國市場銷售額約7 億元，制藥業(yè)務(wù)和化工業(yè)務(wù)分別占6 成和4 成。2009 年國內(nèi)化學試劑行業(yè)的市場規(guī)模約為80 億元，其中排名第一和第二的分別是默克和西格瑪奧德里奇；西隴化工排名第三，當年實現(xiàn)營收6.36億元；國藥集團和光華化學分列第四和第五名。超凈高純硫酸占超凈高純試劑的27%-30%。在標準的集成電路制造

5、工藝流程中,涉及晶圓清洗或表面預處理的工藝就超過100 步之多,包括曝光后光刻膠的剝離、灰化殘留物的去除、本征氧化物的去除,甚至還有選擇性刻蝕超凈高純試劑鹽酸占超凈高純試劑的3%-8%。盡管干法工藝不斷發(fā)展,且在某些應(yīng)用中具有獨特的優(yōu)勢,但是大多數(shù)晶圓清洗/表面預處理工藝還是濕法,即使用由多種化學物質(zhì)組成的混合溶液,包括氫氟酸、鹽酸、硫酸、磷酸、雙氧水,以及大量用于稀釋與沖洗的去離子水。蘇州晶瑞化學有限公司2001.11.29 注冊成立，位于蘇州市吳中經(jīng)濟開發(fā)區(qū)澄湖東路，是一家生產(chǎn)銷售微電子業(yè)用超純化學材料和其他精細化工產(chǎn)品的外資企業(yè)。品種包括氫氟酸、過氧化氫、氨水、鹽酸、硫酸、硝酸、異丙醇、

6、冰醋酸、混合酸（硅腐蝕液、鋁腐蝕液、鉻腐蝕液）等。目前主要產(chǎn)品的純度為，單項金屬雜質(zhì)含量小于10ppb。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于超大規(guī)模集成電路和TFT-LCD 面板制造過程及太陽能硅片的蝕刻與清洗。北京化學試劑研究所主要有9 大系列產(chǎn)品：鋰電池電解液、鋰離子電池電解液、超凈高純試劑、高純物質(zhì)、新型擴散源、光刻膠及配套試劑、金屬表面處理專用化學品、標準溶液及實驗試劑、其他精細化學品.年產(chǎn)3000 噸生產(chǎn)規(guī)模。產(chǎn)品針對正極材料分為：鈷酸鋰用電解液、錳酸鋰用電解液、磷酸鐵鋰用電解液、鈷錳鎳三元材料用電解液四大系列。對于每一系列又細分為鋰離子動力電池電解液、高倍率放電電解液、高溫型電解液、低溫型電解液及根據(jù)不

7、同用戶特殊要求專門配制的電解液等多種產(chǎn)品。高純物質(zhì)主要包括三氧化二硼、高純尿素溶液等。高純?nèi)趸鹩糜诎雽w材料砷化鎵、磷化鎵、磷化銦晶體成長的液封劑、半導體材料的摻雜, 劑和制取多種硼化物、氟硼化物。年產(chǎn)3-5 噸。高純尿素溶液主要用于新型柴油發(fā)動機尾氣消除劑，使汽車尾氣排放達到歐標準，年生產(chǎn)能力達8000噸。新型擴散源主要用于半導體的基區(qū)和隔離區(qū)的擴散。質(zhì)量達到進口同類產(chǎn)品水平，根據(jù)不同生產(chǎn)線的要求分為三種型號，還可根據(jù)用戶的要求配置專用型號的擴散源膠液，年生產(chǎn)能力15-20 噸。無錫華晶(器件、雙極、上華等)、福州福順、丹東安順、北京燕東、紹興華越、上海貝嶺、上海先進、四川二十四所、吉

8、林華微、深圳深愛、汕頭華汕、揚州晶來(新)、上海麗正等國內(nèi)幾十家集成電路、半導體器件廠家;洛陽MCL、北京有研硅股、浙江海納、峨眉739、上海晶華等多家硅材料廠;上海貝爾等多家PCB 廠家使用。到目前，中國集成電路產(chǎn)業(yè)已經(jīng)形成了IC 設(shè)計、芯片制造、封裝測試三業(yè)及支撐配套業(yè)共同發(fā)展的較為完善的產(chǎn)業(yè)鏈格局芯片制造業(yè)方面，20 世紀90 年代908 工程（無錫華晶項目）和909 工程（上海華虹NEC 項目）的建成，分別使我國擁有了第一條6 英寸和第一條8 英寸芯片生產(chǎn)線。2004 年中芯國際北京芯片生產(chǎn)線的建成投產(chǎn)則使中國擁有了首條12 英寸芯片生產(chǎn)線。截至到2007 年底，國內(nèi)已經(jīng)有集成電路芯片

9、制造企業(yè)近50 家，擁有各類集成電路芯片生產(chǎn)線50 條在國內(nèi)封裝測試業(yè)的發(fā)展上，1995 年之前行業(yè)主體一直由無錫華晶（現(xiàn)華潤微電子）、華越、首鋼NEC 等芯片制造企業(yè)內(nèi)部的封裝測試線和江蘇長電、南通富士通、天水永紅（現(xiàn)華天科技）等國內(nèi)獨立封裝測試企業(yè)組成Freescale、Intel、ST、Renesas、Spansion、Infineon、Sansumg、Fairchild、NS 等眾多國際大型半導體企業(yè)來華建立封裝測試基地，國內(nèi)封裝測試行業(yè)的產(chǎn)量和銷售額大幅增長，外資企業(yè)也開始成為封裝測試業(yè)行的一支主要力量。目前國內(nèi)具有一定規(guī)模的集成電路封裝測試企業(yè)已超過70家，其中年封裝量超過10 億

10、塊的企業(yè)超過20 家。國內(nèi)多條8 英寸生產(chǎn)線的建成量產(chǎn)，國內(nèi)芯片大生產(chǎn)技術(shù)的主體已經(jīng)由5、6 英寸，0.5 微米以上工藝水平過渡至8 英寸，0.25 微米0.18 微米，中芯國際（北京）、中芯國際（上海）以及海力士-意法無錫12 寸芯片廠的相繼投產(chǎn)標志著國內(nèi)芯片大生產(chǎn)技術(shù)的最高水平已經(jīng)達到12 英寸、90 納米乃至65 納米的國際先進水平傳統(tǒng)封裝形式：如DIP、SOP、QFP 等都已大批量生產(chǎn)，同時隨著跨國公司來華投資設(shè)廠和現(xiàn)有封裝企業(yè)的改造升級，PGA、BGA、MCM 等新型封裝形式已開始形成規(guī)模生產(chǎn)能力?！褒埿尽钡葹榇淼膰a(chǎn)CPU、中國華大、大唐微電子等開發(fā)的第二代身份證卡芯片、中星微電

11、子的“星光”系列音視頻解碼芯片、展訊通信的GSM/GPRS 基帶處理芯片和TD-SCDMA 手機核心芯片等大量國內(nèi)具有自主知識產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品研制成功并投向市場，標志著國內(nèi)集成電路設(shè)計業(yè)的設(shè)計水平已經(jīng)開始步入世界先進行列中芯國際（上海、北京）、宏力半導體（上海）、和艦科技（蘇州）、臺積電（上海）等多個大型芯片制造項目，和包括Infineon（蘇州）、NS（蘇州）、Fairchild（蘇州）、Intel（成都）等一大批封裝測試項目相繼開工建設(shè)并陸續(xù)投產(chǎn)中國集成電路行業(yè)出現(xiàn)第一家上市公司上海貝嶺股份有限公司。已有杭州士蘭、長電科技等多家集成電路企業(yè)在國內(nèi)上市珠海炬力、中星微、展訊通信等多家企業(yè)在海外成功

12、上市中國集成電路產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)不斷趨于合理，IC 設(shè)計、制造、封裝測試三業(yè)開始接近于“3:4:4”的合理比重，芯片封裝悄然從長江三角洲地區(qū)向西部轉(zhuǎn)移，成都、西安以及甘肅的芯片封裝漸成氣候，開始與東部沿海地區(qū)的設(shè)計、制造形成錯位互補的發(fā)展態(tài)勢。士蘭微電子3 年投入8 億元研發(fā)高頻高壓器件工藝，在LED 顯示屏的研制中取得重要進展；北京君正充分發(fā)揮自主知識產(chǎn)權(quán)CPU 核Xbust 的潛能，北京創(chuàng)毅視訊抓住CMMB 標準帶來的機會，新一代產(chǎn)品已研發(fā)成功，預計2010 年兩個企業(yè)的銷售額均可望有2 倍到4 倍的提升；銳迪科微電子打破阻礙中國通信產(chǎn)業(yè)發(fā)展的瓶頸，可以提供 TD-SCDMA、GSM/GPRS 等

13、全系列移動通信核心射頻芯片?！案呙芏燃呻娐贩庋b技術(shù)國家工程實驗室”，由長電科技與中國科學院微電子研究所、中國科學院深圳先進技術(shù)研究院、清華大學等5 家單位聯(lián)合實施。中電科技中國電子和華潤集團都已經(jīng)參與到相關(guān)整合中，對集成電路行業(yè)的整合有很好的推動作用。例如，晶門科技業(yè)績在近幾年出現(xiàn)下滑，原因是其業(yè)務(wù)的60%來自摩托羅拉手機京東方和CEC 合作，而且CEC 成為擁有29%股份的股東，這一合作立刻吸引了很多新的訂單。與此同時，士蘭、比亞迪、貝嶺、華為、中興通訊、海爾、京東方、長虹等整機企業(yè)積極與設(shè)計企業(yè)相結(jié)合，有可能打造出新型的IDM。展訊通信有限公司7 月30 日宣布，其首款WCDMA 基帶芯

14、片-SC7701B 已實現(xiàn)大規(guī)模量產(chǎn)格科微電子同比增長51%;聯(lián)芯科技同比激增92%。昂寶電子、盈方電子等一批新銳企業(yè)在國際國內(nèi)市場份額中也名列前茅。以張江高科技園區(qū)為例，集成電路產(chǎn)業(yè)已占上海50%、全國15%，占全球1.5%，并形成了從芯片設(shè)計、制造、測試、封裝等完整的產(chǎn)業(yè)鏈條。作為集成電路產(chǎn)業(yè)最高端科技體現(xiàn)的芯片設(shè)計方面，全國前三位芯片設(shè)計公司均落戶在張江，帶動全國的集成電路產(chǎn)業(yè)向前跨越。與北京工業(yè)投資公司和中芯國際簽訂合作協(xié)議，共同出資在北京建設(shè)45-28 納米晶圓工藝、月產(chǎn)3.5 萬片12 英寸集成電路生產(chǎn)線。如此高技術(shù)水平和高產(chǎn)能的生產(chǎn)線，在國內(nèi)尚屬首條。五年內(nèi)帶動 15 家相關(guān)企業(yè)

15、落戶光谷武漢集成電路產(chǎn)業(yè)再添新軍。5 月21 日，新思科技武漢全球研發(fā)中心揭牌，其將為全球開發(fā)領(lǐng)先的知識產(chǎn)權(quán)產(chǎn)品，并帶動我市芯片設(shè)計產(chǎn)業(yè)集群式發(fā)展。武漢半導體產(chǎn)業(yè)促進懇談會同日舉行，中芯國際、臺積電、海思半導體等十多家企業(yè)云集現(xiàn)場。2012 年，武漢市電子信息產(chǎn)業(yè)產(chǎn)值超過2000 億元，東湖高新區(qū)已聚集芯片設(shè)計、制造企業(yè)50 余家，其中芯片設(shè)計企業(yè)30 余家，從業(yè)人員2000 余人。武漢已決心打造繼北京、上海之后的半導體產(chǎn)業(yè)“第三極”，竭盡全力為企業(yè)提供發(fā)展空間海思半導體來自全志科技的最新四核平板平臺，也可以了解集創(chuàng)北方的最新incell 觸控方案，可以了解格科微的CMOS 傳感器方案，可以了

16、解龍芯的最新多核嵌入式方案以及來自華力微、華芯的最新產(chǎn)品電子創(chuàng)新網(wǎng)CEO 張國斌就發(fā)表創(chuàng)客如何改變世界的演講，而深圳中微電科市場總監(jiān)費浙平將發(fā)表系統(tǒng)公司應(yīng)用創(chuàng)新的若干思考，此外，半導體業(yè)界知名的風投企業(yè)華登國際總經(jīng)理黃慶都將發(fā)表主題為中國高科技產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)與投資的精彩演講。英特爾、臺積電、三星電子分別入股全球最大的光刻機廠商ASML，共同研發(fā)18 英寸生產(chǎn)線關(guān)鍵設(shè)備及技術(shù)。英特爾、三星電子、臺積電等7 家半導體企業(yè)大規(guī)模生產(chǎn)0.090.2m 技術(shù)用的超凈高純試劑，其中的過氧化氫、硫酸、異丙醇等主要品種一般在500010000 噸/年的規(guī)模，65nm 及以下技術(shù)用工藝化學品也已完成技術(shù)研究，具備相應(yīng)的生產(chǎn)能力。離子液體是近年來興起并被廣泛關(guān)注的新型綠色試劑，是當今綠色化學和納米化學的前沿。儀器的發(fā)展對試劑的檢測及鑒定具有意義重大。超凈高純試劑的應(yīng)用超凈高純試劑是集成電路和分立器件制作過程中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)材料,其性能和質(zhì)量直接影響芯片幾何圖形的能否實現(xiàn),因此可以說這些材料是直接制約微電子技術(shù)發(fā)展的最為關(guān)鍵的材料集成電路前工序生產(chǎn)所用的微電子化工材料約占集成電