專利領(lǐng)域的常用詞匯

1、專利領(lǐng)域的常用詞匯通用詞匯中文日文備注申請(qǐng)出K新規(guī)出K巴黎公約條系勺巴黎公約申請(qǐng)，”力1/一卜出®!優(yōu)先權(quán)篌八榷1年IW? 6勺月優(yōu)先權(quán)日日便先耀期 （最先內(nèi)出K日力、起算馬）要求優(yōu)先權(quán)便先耀在主?rr馬優(yōu)先權(quán)文本侵先罹illfi便先罹扯明善先申請(qǐng)?jiān)瓌t先K主羲（米國(guó)：先髡明主羲）出版物公開文獻(xiàn)公知/刊行物公知使用公開公然夾施/公用/、喪失新穎性的例外新規(guī)性喪失內(nèi)例外首次申請(qǐng)第1國(guó)出K申請(qǐng)人出K人申請(qǐng)文件出K而g專利申請(qǐng)請(qǐng)求書SO包袋包袋著錄項(xiàng)目中國(guó)知識(shí)產(chǎn)權(quán)局（國(guó)知局）中國(guó)特疔SIPO (WJM?)專利復(fù)審委員會(huì)特春判委H會(huì)塞查部、寄判部審查員（專利局的）塞查官審查員（復(fù)審委的）就U官

2、專利法特法改正特it法專利法實(shí)施細(xì)則特法笑施余田JW夫特法施行規(guī)刖審查指南塞查基舉塞查指南初步審查（簡(jiǎn)稱初審）方式塞查補(bǔ)正通知書未甫止通知善問題、缺陷不借通知書中指出的答復(fù)文件意見陳述書意見修改文件未甫止善*中日差累主動(dòng)修改自髡未甫止審查貝認(rèn)為指摘寸馬/判斷馬申請(qǐng)人認(rèn)為思料寸;主弓H寸;5允許會(huì)晤面接要言青？受IS電話會(huì)晤霜百舌彳夕亡工一修改（提交申請(qǐng)前的）修正修改（提交申請(qǐng)后的）桁正修改（授權(quán)后的）百止撤回取9下次，視撤辦玄L取卜廳取9下次 辦"放棄放H授權(quán)登耀利化專利證書特言午證or登年金專利權(quán)的期限、保護(hù)期耀利期存統(tǒng)期保護(hù)客體保對(duì)象保護(hù)范圍耀利靶曲（專利權(quán)的）終止消滋駁回、駁回

3、決定拒余色查定復(fù)審請(qǐng)求不服寄判血提起無效宣告請(qǐng)求媒效理由請(qǐng)求人血人書面審理害曲塞埋口頭審理（簡(jiǎn)稱口審）口以普理1 nMKWfi參口審口 理仁出Ml馬復(fù)審決定不服寄判希求內(nèi)寄決無效決定瓢夕力寄判希求內(nèi)寄決媒勸番決、后效番決撤銷取消寸行政訴訟行政富沫取消提起侵權(quán)訴訟侵害前粉訴訟時(shí)效提甑畤劾起訴提甑/甑粉在提起馬人民法院裁判所中等、局等、最局法官小官心證心證舉證責(zé)任證物在舉廳 ，責(zé)任證明JI任證據(jù)鏈群(?)公證公證認(rèn)證被控侵權(quán)產(chǎn)品彳號(hào)裂品/彳號(hào)物件侵害被疑品被控侵權(quán)人侵害被疑者侵權(quán)仃為侵害行卷侵害仁1g當(dāng)馬抗辯抗弁現(xiàn)有技術(shù)抗辯公知技循抗弁自由技秫亍內(nèi)抗弁現(xiàn)有設(shè)計(jì)抗辯公知意匠內(nèi)抗弁在先使用先使用罹不侵

4、權(quán)非侵害侵害仁1g當(dāng)L玄1、談判交涉和解和解損害賠償揖害H皆！求駁回訴訟請(qǐng)求原告內(nèi)希求在卻下馬判決判決（決定、判決）生效碓定寸馬）上訴上甑/控甑控甑士上專利代理人特if弁理士*代理人專利代理機(jī)構(gòu)特if事矜所委托依束以委托書委任狀包括委任狀接受（委托）引豈受客戶客梯/了：/卜貴公司御社貴所H所我所弊所指示指示報(bào)價(jià)請(qǐng)款（費(fèi)用在）tt求馬清求善作業(yè)作菜處理報(bào)告幸艮告寸馬/卜制作作成友，發(fā)送送付寸馬/送馬咨詢曲1/、合電：答復(fù)回答會(huì)談打合世檢索檢索式索式鑒定定監(jiān)控C7才權(quán)利行使耀利行使實(shí)施許可K施非15/7彳t:/入實(shí)施許口費(fèi)K施料/7彳七:/久料口彳” h普通實(shí)施許可通常實(shí)施罹ifl方馬獨(dú)占實(shí)施許可

5、再用K施耀排他實(shí)施許可獨(dú)占的通常實(shí)施罹排他的夾施!冊(cè)若發(fā)明（帶*詞匯為實(shí)用新型通用）中文日文備注發(fā)明特髡明特if發(fā)明專利權(quán)特耀髡明特耀發(fā)明人髡明者技術(shù)方案髡明/髡明內(nèi)情成技初1的？ 二一：/*保密審查秘密保持塞查械密寄查？秘密塞查*說明書明此*背景技術(shù)（部分）背景技衍*發(fā)明內(nèi)容（部分）髡明示*具體實(shí)施方式笑施形熊*實(shí)施例實(shí)施例*比較例、對(duì)比例比敕例*說明書附圖因而因1、因2*附圖標(biāo)記符號(hào)、W符號(hào)*摘要要余勺*摘要附圖權(quán)利要求書特if希求內(nèi)靶曲*權(quán)利要求靖求一么*獨(dú)立權(quán)利要求獨(dú)立吁獨(dú)立"Y獨(dú)立靖求項(xiàng)*主權(quán)項(xiàng)一 2a*從屬權(quán)利要求徒屬/徒屬一 2A徒屬沛顏產(chǎn)品權(quán)利要求物夕U-A方法權(quán)利要

6、求方法夕p-A用途權(quán)利要求用途夕一 Ta入彳久型co一馬庫(kù)什權(quán)利要求7一 力?夕1一Ta*開放式才一 7°：/形式K放*封閉式夕口一;<¥、形式mia*多項(xiàng)引多項(xiàng)*技術(shù)特征情成要件技街的特徵（單一性）權(quán)利要求1請(qǐng)求保護(hù)的技 人萬果ft求 1k彳系髡明* （權(quán)利要求的）保護(hù)范圍技街的靶曲*國(guó)際申請(qǐng)國(guó)除出J1/ PCT出J®30勺月*國(guó)際專利合作條約特言午曲力條余勺PCT條系勺*國(guó)際公布文本國(guó)除公K公幸艮*國(guó)際局國(guó)除事矜局WIPO*國(guó)際初審國(guó)除予借寄查*國(guó)際檢索報(bào)告國(guó)除所幸艮告在一千一 卜*進(jìn)入國(guó)家階段國(guó)內(nèi)段P皆仁移行馬*譯文更正百止（發(fā)明專利）公開公H早期公H

7、發(fā)明專利公開公報(bào)公K特言午公幸艮公K公幸艮實(shí)質(zhì)審查（簡(jiǎn)稱實(shí)審）實(shí)體塞查情報(bào)提供情幸艮提供細(xì)則第48條提實(shí)審塞查清求在行15加快審查早期M （希求）審查意見通知書拒余色理由通知（害）拒余色理由*發(fā)出（通知書）髡行馬*新穎性新規(guī)性*創(chuàng)造性退M生*實(shí)用性用!上co利用可能性實(shí)用性*三步法3入亍為法*對(duì)比文件引用文獻(xiàn)/引用例/引例先行文獻(xiàn)*公開K示*啟示示唆*現(xiàn)后技術(shù)公知技循1/先行技初1徒來內(nèi)技循1*最接近的現(xiàn)啟技術(shù)最近先行技循1*區(qū)另相遑點(diǎn)*區(qū)別技術(shù)特征相遑點(diǎn)仁彳系馬成*作用役割*要解決的技術(shù)問題解決題技街的15題*所采用的技術(shù)手段段技街的手段*技術(shù)效果效果技衍的效果*預(yù)料/、到的技術(shù)效果予想外0

8、效果*說明書公開充分（不充分）實(shí)施可能要件（遑反）*得/、到說明書支持明余療仁上付 TVV一卜要件遑反*缺少必要技術(shù)特征必要件在欠*單一性單一性單一性）要件在浦i 寸?單一性遑反仁當(dāng)*分案申請(qǐng)分割出K*對(duì)現(xiàn)后技術(shù)作出貝獻(xiàn)的先行技循1仁文才t 馬獻(xiàn)在*相同或相應(yīng)的特aE技術(shù)特 征同一士文寸J芯寸馬特 別玄技街的特徵*不屬于專利法保護(hù)的客體特if法仁上不特if事由*重復(fù)授權(quán)b*修改超范圍新規(guī)事追加* （權(quán)利要求）不清楚不明碓/不明瞭*有括號(hào)括弧善豈力'友）馬發(fā)明專利授權(quán)特if查定特if成立發(fā)明專利授權(quán)公報(bào)特揭戴公幸艮特if公幸艮*授權(quán)文本登”面中間程序中手統(tǒng)IT審查過程塞查的a*全向覆蓋原

9、則才一/I/工y 卜，!/一，!/*等同原則均等謫*禁止反悔原則禁反言法理*字曲侵權(quán)、相同侵權(quán)文言侵害*等同侵權(quán)均等侵害*直接侵權(quán)直接侵害*間接侵權(quán)接侵害*權(quán)利要求的解釋實(shí)用新型（帶*詞匯為外觀設(shè)計(jì)通用）實(shí)用新型實(shí)用新案H案發(fā)明人巧菜后技術(shù)方案美呆技初1的？ 二一權(quán)利要求書希求內(nèi)靶曲權(quán)利要求1請(qǐng)求保護(hù)的技 人萬果希求:® 1仁保馬考案實(shí)用新型的內(nèi)容考案四示*無實(shí)審*權(quán)利評(píng)價(jià)報(bào)告耀利Iff佛幸艮告害（日本：技循1ff佛善）外觀設(shè)計(jì)外觀設(shè)計(jì)意匠設(shè)計(jì)人創(chuàng)作者產(chǎn)品物品形狀形狀圖案模棣色彩色/色彩設(shè)計(jì)要點(diǎn)U作內(nèi)要點(diǎn)特徵簡(jiǎn)要說明意匠內(nèi)學(xué)玄靚明相似外觀設(shè)計(jì)似意匠合案申請(qǐng)一出!®多意出J1附圖因而圖片或照片因而士寫真八面視圖六面因主視圖止而因后視圖背面因俯視圖仰視圖底面因左視圖左U面因右視圖右U面因立體圖斜視因剖視圖斷面因剖向圖端而因參考圖參考因斷面切斷面剖切符號(hào)切斷言已號(hào)虛線破、點(diǎn)實(shí)線現(xiàn)有設(shè)計(jì)公知意匠