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文檔簡介

1、 激光大作業(yè) 一圓形鏡共焦腔1. 圓形鏡共焦腔鏡面波場分布振幅分布:相位分布:其中,為鏡面上的基模光斑半徑,= 稱為締合拉蓋爾多項式, 基模與若干高階模的振幅分布如下: 下面是基模的振幅分布與相位分布和若干高階模的振幅分布圖: (用matlab編程) 基模的振幅分布 程序一: >> h = polar(0 2*pi, 0 2); >> delete(h); >> hold on>> contour(xx, yy, zz, 50); >> surf(xx, yy, zz); >> hold off>> view(

2、-19, 22); >>t=linspace(0,2*pi,100); >> r=0:0.05:2;>> tt,rr=meshgrid(t,r);>> xx,yy=pol2cart(tt,rr);>> c=30;>> w=2;>> zz=2*exp(-(xx.2+yy.2)/w2);所畫圖形如下所示: 振幅分布在極坐標中的表示 程序二: >>t=linspace(0,2*pi,100); >>surf(xx, yy, zz);>>r=0:0.05:5;>>tt,r

3、r=meshgrid(t,r);>>xx,yy=pol2cart(tt,rr);>>c=2;>>w=2;>>zz=c*exp(-(xx.2+yy.2)/w2); 振幅分布在直角坐標中的表示 基模的相位分布:程序:> > t=linspace(0,2*pi,1000);>> rh=0:0.001:4;>>tt,rr=meshgrid(t,rh);>>x,y=pol2cart(tt,rr);>>r=4;>>z=real(sqrt(r2-(x.2+y.2)-r/2);>>

4、;mesh(x, y, z); % 曲面圖 相位分布在直角坐標中的表示 振幅分布程序:>>t=linspace(0,2*pi,100); >>r=0:0.1:5; >>tt,rr=meshgrid(t,r); >>xx,yy=pol2cart(tt,rr); >>c=2; >>w=2; >>zz=c*(1-2*(xx.2+yy.2)/w2).*exp(-(xx.2+yy.2)/w2); >>surf(xx,yy,zz); 振幅分振幅分布程序:>>t=linspace(0,2*pi,60)

5、;>>r=0:0.1:4;>>tt,rr=meshgrid(t,r);>>xx,yy=pol2cart(tt,rr);>>c=2;>>w=2;>>zz=c*sqrt(2)/w*exp(-(xx.2+yy.2)/w2).*xx;>>surf(xx, yy, zz);所畫圖形如下所示: 振幅分布2. 圓形鏡共焦腔行波場分布行波場為 L:共焦腔腔長 f =L/2:鏡的焦距 1 :振幅衰減因子2 :橫向振幅分布因子3 :位相因子,決定了共焦腔的位相分布 kz:傳播因子 :位相彎曲因子 :附加相移因子等相位面分布與腔的軸

6、線交于點的等相位面方程可以寫成:忽略由于z的微小變化引起的附加相移因子,知處等相位面方程為 上式為拋物面方程,頂點在z=處,焦距的大小是 =z+為等相位面曲率半徑 程序: clear clc ezplot('y-x-4/x',-16,16); xlabel('z值'); ylabel('R(z)值'); title('R(z)=z+f2/z'); R(z)隨z的變化 共焦腔等相位面振幅分布因基模光斑半徑故 為一雙曲線 對于基模,基模共焦場在任一z坐標處的橫截面內(nèi)都是高斯分布。對于確定的z值,光場隨r的變化如下程序:>>

7、t=linspace(0,2*pi,100); >> r=0:0.05:2;>> tt,rr=meshgrid(t,r);>> xx,yy=pol2cart(tt,rr);>> c=30;>> w=2;>> zz=c*exp(-(xx.2+yy.2)/w2);>> h = polar(0 2*pi, 0 2); >> delete(h); >> hold on>> contour(xx, yy, zz, 50); >> surf(xx, yy, zz); >

8、> hold off>> view(-19, 22); 光場在腔中的基模傳播模體積基模 高階模基模遠場發(fā)散角2 高斯光束的傳播1.高斯光束在介質(zhì)中的傳播 由前面知,如果腔內(nèi)無任何介質(zhì)(除空氣外),即無源腔,高斯光束將以弧形等相位面向兩邊傳播,若以腔中心為z坐標原點,則等相位面的曲率半徑為 =z+對于確定的z,光束在橫截面內(nèi)呈高斯分布,即如果腔中存在一定厚度的介質(zhì),那么,高斯光束將如何傳播如圖 設高斯光束在束腰(z=0)處,開始穿過厚度為L,折射率為n的介質(zhì),在z=0處,基模高斯光束滿足 (1) 首先,討論場函數(shù)為的光束自z=0處垂直入射到傳輸矩陣為T=的介質(zhì)中,其場函數(shù)如何分

9、布。由于,且,則利用費涅耳衍射積分公式,易知 (2) 上圖中,傳輸矩陣為T=,則由(1)式和(2)式,知其中,為波數(shù), 如果考慮相彎曲因子和附加相移因子,其中由此可見,高斯光束傳播的等相位面和無介質(zhì)時相同,即介質(zhì)不影響等相位面的傳播。即介質(zhì)不改變高斯光束的等相位面曲率半徑和光斑半徑。對于介質(zhì)中光強 =而自由空間中 P(r,z)=取=1,m,n=1.2,。當L=1000mm,,5000mm,10000mm時光強分布曲線a=1; b=1; n=1.2; m=133/125000*0.001;L=1000;k=2*pi/m;A=a2*b4*k2*n2/(b4*k2*n2+4*L2);r=0:0.01

10、:8;t=0:0.01:2*pi;rr tt=meshgrid(r,t);x,y=pol2cart(rr,tt);z=A*exp(-2*A2/b2*(x.2+y.2);mesh(x,y,z)程序:L=1000mmL=10000mmL=5000mm而對于自由空間 a=1;b=1;c=3;r=0:0.01:8; t=0:0.01:2*pi;rr tt=meshgrid(r,t);x,y=pol2cart(rr,tt);z=a2*b2/c2*exp(-2*(x.2+y.2)/c2);mesh(x,y,z)程序: 由以上分析知,1) 介質(zhì)中高斯光束的傳播與自由空間高斯光束的傳播的等相位面相同,曲率半徑

11、相同,光斑半徑相同。2) 介質(zhì)中高斯光束的強度分布不同于自由空間的強度分布,介質(zhì)中,橫截面的強度主要以中心處分布,隨著L的增大,強度分布寬度增加,強度減小,但強度分布寬度隨L變化較慢。而自由空間中,隨z值的增加,強度分布寬度增加,強度減小。變化速度比較快。3) 介質(zhì)中高斯光束的強度分布隨介質(zhì)長度L的變化而變化,由強度表達式也可知高斯光束的強度分布也隨折射率的變化而變化。雖然上述結論是以高斯光束在束腰處進入介質(zhì)為前提的,但它們是普遍使用的。2.光束在環(huán)形諧振腔中的傳播(以三個反射鏡組成的諧振腔為例),如圖LLL光束傳播途徑為M2M3M1M2圖中M2為M2關于M3的對稱反射鏡,則從M2經(jīng)M3到M1

12、的光線等效為從M2到M1的光線,相關參數(shù)如下所示,R1=R2=2L,圖中所畫光線組成等邊三角形,邊長為L,則M2與M1組成對稱共焦腔,如圖所示圖二因此,M1與M3之間仍為高斯光束,只是趨近于M3處上半部分部分的消失,同理,M2與M3之間仍為高斯光束,且情形與M1與M3之間相同,切關于M3的法線對稱。對于M1與M2之間的光束,由費涅耳衍射積分知,此時,角不再是趨于0,而是,故1+而是,故所得積分結果只是差一個倍,故仍為高斯分布。故分布圖如下M1和M2鏡之間,取兩鏡中心處為z原點,取基模高斯光束場振幅表達式為:,只是,則橫截面內(nèi)振幅分布曲線如圖所示程序:>>c=2;>>w=

13、2;>>zz=c*exp(-(xx.2+yy.2)/w2);>>surf(xx, yy, zz);>>t=linspace(0,pi,100); >>r=0:0.05:5;>>tt,rr=meshgrid(t,r);>>xx,yy=pol2cart(tt,rr);橫截面內(nèi)相位分布:程序:>>t=linspace(0,2*pi,1000);>> rh=0:0.001:4;>>tt,rr=meshgrid(t,rh);>>x,y=pol2cart(tt,rr);>>r

14、=4;>>z=real(sqrt(r2-(x.2+y.2)-r/2);>>mesh(x, y, z); % 曲面圖M1與M3之間,取M3與軸線交點為z原點,如圖二,由分析知對軸線上半部分在<w(z)時,光斑半徑取,在>w(z)時光斑半徑取w(z)。而下半部分正常。所以在<w(z)的區(qū)域基模的振幅分布為程序:t1=linspace(0,pi,100); t2=linspace(pi,2*pi,100) r=0:0.05:2; tt,rr=meshgrid(t1,r); th,rh=meshgrid(t2,r); xx,yy=pol2cart(tt,rr); 上半部分 x,y=pol2cart(th,rh); c=30; w1=2; w2=4; zz=c*exp(-(xx.2+yy.2)/w12); z=c*exp(-(x.2+y.2)/w22);surf(x, y, z); surf(xx, yy, zz); 下半部分在<w(z)的區(qū)域

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