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文檔簡介

1、2.2認(rèn)識晶體硅太陽能電池制造的設(shè)備2 一、認(rèn)識濕法刻蝕設(shè)備n 1、實物及結(jié)構(gòu) a、實物 濕法刻蝕設(shè)備一般采用的是德國RENA Inoxside 后清洗設(shè)備。 一、認(rèn)識濕法刻蝕設(shè)備n 1、實物及結(jié)構(gòu) b、結(jié)構(gòu) RENA Inoxside 后清洗設(shè)備主體分為7個槽體, 槽體根據(jù)功能不同分為入料段、濕法刻蝕段、水洗段、堿洗段、水洗段、酸洗段、溢流水洗段、吹干槽。所有槽體的功能控制在操作電腦中完成。其他還有滾輪、排風(fēng)系統(tǒng)、自動給水補液系統(tǒng)、循環(huán)系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)。 一、認(rèn)識濕法刻蝕設(shè)備1、實物及結(jié)構(gòu) c、產(chǎn)品特點n 有效減少化學(xué)藥品使用量 n 高擴(kuò)展性模塊化制程線 n 擁有完善的過程監(jiān)控系統(tǒng)和可視化

2、操作界面 n 優(yōu)化流程,降低人員勞動強(qiáng)度 n 通過高可靠進(jìn)程降低碎片率 n 自動補充耗料實現(xiàn)穩(wěn)定過程控制 一、認(rèn)識濕法刻蝕設(shè)備n 2、設(shè)備維護(hù)及保養(yǎng) 主要為各槽體及滾輪碎片的清理和屏幕清潔。二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備n 1、實物及結(jié)構(gòu) 管式PECVD鍍減反膜設(shè)備主要由工藝管及電阻加熱爐、推舟凈化系統(tǒng)、氣爐系統(tǒng)、電氣控制系統(tǒng)、計算機(jī)控制系統(tǒng)、真空控制系統(tǒng)6大部分組成。二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備機(jī)械手機(jī)械手槳槳小小推推車車操作平臺操作平臺指示燈爐爐門門8槳LIFT傳送機(jī)構(gòu)二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備 石墨舟:石墨舟:用于管式PECVD,主要由石墨片及陶瓷棒構(gòu)成,陶瓷棒起到絕緣

3、作用,石墨片用于導(dǎo)電形成相應(yīng)的反應(yīng)磁場;舟內(nèi)有卡點,每片為三個點,用于固定硅片。二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備101CMS模塊 2溫差電耦 3電源連接板 4溫度測量模組加熱裝置二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備11Stack 4Stack 4Stack 3Stack 3Stack 2Stack 2Stack 1Stack 1N2 MFCNH3 MFCSiH4 MFCN2 閥NH3 閥SiH4 閥特氣柜特氣柜二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備12真空泵真空管路purge控制面板真空泵二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備二、認(rèn)識管式PECVD鍍減反膜設(shè)備n 2、設(shè)備維護(hù)及保養(yǎng) a、保持工藝管內(nèi)真空狀態(tài)、不能殘留工藝氣體、定期進(jìn)行清洗 b、經(jīng)常更換機(jī)械泵油 c、定期全面檢查 d、環(huán)境溫度保持20度一下 e、保持排風(fēng)管道暢通謝謝觀賞WPS Offi

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