一軸晶光率體切面及特點(diǎn)

1、一軸晶光率體一軸晶光率體（中級(jí)晶族晶體光率體）的形態(tài)是兩軸不等的長(zhǎng)形（正光性）和扁形（負(fù)光性）旋轉(zhuǎn)橢球體。性光率體：NeNo；負(fù)光性光率體：NoNe。光率體切面的特點(diǎn)：垂直光軸的切面、平行于光軸的切面、與光軸斜交的切面。1一軸晶光率體的特點(diǎn) Ne和No代表一軸晶礦物折射率最大和最小值稱(chēng)主折射率。Ne與No的相對(duì)大小將決定一軸晶礦物的光性符號(hào)。當(dāng)NeNo時(shí)為正光性，反之為負(fù)光性。 如右圖所示為一軸晶正光性晶體（石英）和一軸晶負(fù)光性晶體（方解石）光率體的構(gòu)成。2一軸晶正光性光率體主要切面及其特點(diǎn)垂直光軸切面 垂直于光軸的切面為圓切面，其半徑等于No。 光波垂直于這種切面入射時(shí)（沿光軸入射），不發(fā)生

2、雙折射，不改變?nèi)肷涔獠ǖ恼駝?dòng)方向和特點(diǎn)，相應(yīng)的折射率值等于No，雙折射率等于零。 通過(guò)一軸晶光率體中心只有一個(gè)這樣的圓切面。3平行于光軸切面 平行于光軸的切面為橢圓切面，其長(zhǎng)短半徑分別為Ne和No。 光波垂直于這種切面入射時(shí)（垂直于光軸入射），發(fā)生雙折射，分解為兩束偏光，其振動(dòng)方向必定分別平行于橢圓切面的長(zhǎng)短半徑，相應(yīng)的折射率必定分別等于橢圓切面長(zhǎng)短半徑Ne與No。 雙折射率等于Ne與No的差值，是一軸晶礦物的最大雙折射率。 這種切面是一軸晶光率體的主軸面。4斜交光軸切面 仍為橢圓切面，其長(zhǎng)短半徑分別為Ne與No。 雙折射率等于橢圓切面長(zhǎng)短半徑No與Ne的差值，其大小遞變于零與最大雙折射率之間

3、。5一軸晶負(fù)光性光率體主要切面及其特點(diǎn) 垂直光軸切面：圓切面，其半徑等于No；相應(yīng)的折射率等于No，雙折射率等于零。 平行于光軸切面：橢圓切面，長(zhǎng)短半徑分別為No和Ne；相應(yīng)折射率分別等于No和Ne，雙折射率為NoNe。 斜交光軸切面：橢圓切面，長(zhǎng)短半徑分別為No與Ne；相應(yīng)的折射率分別等于No與Ne，雙折射率為NoNe，其大小遞變于零與最大雙折射率之間。6二軸晶光率體 低級(jí)晶族（斜方、單斜、三斜晶系）屬于二軸晶礦物。實(shí)驗(yàn)測(cè)定，這類(lèi)礦物具有大、中、小三個(gè)主折射率值，分別以以符號(hào)Ng、Nm、Np表示；顯然，二軸晶光率體是一個(gè)三軸不等的橢球體。 主軸：二軸晶光率體中，三個(gè)互相垂直的軸代表二軸晶礦物

4、的三個(gè)主要光學(xué)方向，稱(chēng)為光學(xué)主軸，簡(jiǎn)稱(chēng)主軸。 主軸面：包括兩個(gè)主軸的面稱(chēng)主軸面（主切面）。則二軸晶光率體有三個(gè)互相垂直的主軸面。 要素：三個(gè)主軸，三個(gè)主軸面，兩個(gè)圓切面，光軸（OA），光軸面（Ap），光軸角（2V），銳角平分線(xiàn)Bxa，鈍角平分線(xiàn)Bxo。 主要切面：垂直于光軸（垂直于OA）、平行于光軸面（平行于Ap）、垂直于Bxa、垂直于Bxo、斜交切面五個(gè)主要切面。 正負(fù)光性：當(dāng)NgNmNmNp時(shí)為正光性；反之為負(fù)光性。也可根據(jù)Bxa是Ng還是Np確定，當(dāng)Bxa=Ng時(shí)為正光性，當(dāng)Bxa=Np時(shí)為負(fù)光性。7二軸晶正光性光率體切面及特點(diǎn)垂直于光軸切面（垂直于OA）：圓切面，半徑為Nm。相應(yīng)的折射

5、率為Nm，雙折射率為零。平行于光軸切面（平行于Ap）：橢圓切面，長(zhǎng)短半徑分別為Ng和Np；相應(yīng)的折射率值分別為Ng和Np，雙折射率值等于（NgNp），為二軸晶礦物最大雙折射率。垂直于Bxa的切面橢圓切面正光性：相當(dāng)于主軸面NmNp面，長(zhǎng)短半徑為Nm和Np，相應(yīng)折射率分別等于Nm和Np，雙折射率等于（NmNp），其大小介于零與最大雙折射率之間。負(fù)光性：相當(dāng)于NgNm面，長(zhǎng)短半徑分別為Ng和Nm，相應(yīng)折射率分別為Ng和Nm，雙折射率等于（NgNm），8垂直于Bxo切面 橢圓切面 正光性：相當(dāng)于NgNm面，長(zhǎng)短半徑為Ng和Nm，相應(yīng)折射率分別等于Ng和Nm，雙折射率等于（NgNm），其大小介于零與最

6、大雙折射率之間。 負(fù)光性：相當(dāng)于NmNp面，長(zhǎng)短半徑分別為Nm和Np，相應(yīng)折射率分別等于Nm和Np，雙折射率等于（NmNp）。 無(wú)論正負(fù)光性，垂直于Bxa切面的雙折射率總是小于垂直于Bxo切面的雙折射率。9斜交切面斜交切面：既不垂直于光軸也不垂直于主軸的切面，橢圓切面，無(wú)數(shù)個(gè)。分兩種類(lèi)型：1、垂直于主軸面的斜交切面：橢圓半徑中一個(gè)半徑為Nm軸，另一個(gè)為Ng或Nm。2、任意斜交切面：長(zhǎng)短半徑及相應(yīng)的折射率值為Ng和Np ，雙折射率等于（NgNp ）。10偏光顯微鏡的調(diào)節(jié)與校正一、裝卸鏡頭（一）裝目鏡（二）裝卸物鏡二、調(diào)節(jié)照明（對(duì)光）三、調(diào)節(jié)焦距（準(zhǔn)焦）四、校正中心五、視域直徑的測(cè)定六、目鏡十字絲

7、的檢查七、偏光鏡的校正（一）確定及校正下偏光鏡的振動(dòng)方向（二）檢查上、下偏光鏡振動(dòng)方向是否正交（三）檢查目鏡十字絲是否嚴(yán)格與上、下偏光鏡振動(dòng)方向一致11校正中心步驟12單偏光系統(tǒng)下晶體的光學(xué)性質(zhì)主要內(nèi)容：?jiǎn)纹庀到y(tǒng)的光學(xué)特點(diǎn)礦物的形態(tài)及解理礦物的顏色、多色性和吸收性礦物的邊緣、貝克線(xiàn)、糙面和突起13礦物的形態(tài)及解理14礦物的形態(tài)及解理極完全解理：解理縫細(xì)、密、長(zhǎng)，且往往貫通整個(gè)晶體，如云母類(lèi)。完全解理:解理縫之間的間距較寬，一般不完全連續(xù)，如角閃石類(lèi)和輝石類(lèi)。不完全解理：解理縫斷斷續(xù)續(xù)，有事僅見(jiàn)解理縫痕跡，如橄欖石。15解理夾角的測(cè)定當(dāng)?shù)V物具有兩組解理時(shí)則需要測(cè)定其夾角。測(cè)定兩組解理夾角時(shí)，必

8、須選擇同時(shí)垂直于兩組解理的切面。測(cè)定方法：（1）按上述原則選擇符合要求的切面，置于視域中心。（2）轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)，使一組解理縫平行于目鏡十字縱絲，在載物臺(tái)刻度盤(pán)上度數(shù)a。（3）轉(zhuǎn)動(dòng)物臺(tái)，使另一組解理縫平行于目鏡十字縱絲，載物臺(tái)度數(shù)為b。兩次讀數(shù)a與b的差即為所測(cè)的解理縫夾角。16顏色深淺發(fā)生改變的現(xiàn)象多色性：由于光波在晶體中的振動(dòng)方向不同，而使礦片顏色發(fā)生改變的現(xiàn)象吸收性：黑云母的多色性和吸收性黑云母多色性：解理縫平行PP為黑色 解理縫垂直P(pán)P為淺綠褐色黑云母吸收性：解理縫平行PP 顏色深 解理縫垂直P(pán)P 顏色淺PP二、多色性和吸收性17NeNeNeNeNoNeNoNoNoNoNoNeNoNeNo

9、Ne圖139 黑電氣石平行Z軸切面的多色性現(xiàn)象 淺紫深藍(lán)淺藍(lán)(a)(b)(c)PPPPPPPPPPPP（1）一軸晶礦片多色性、吸收性觀察和表達(dá)方式黑電氣石 No = 深藍(lán) Ne = 淺紫18（1）一軸晶電氣石的多色性和吸收性 垂直Z軸：均為No 呈深藍(lán)色斜交切面：No , Ne多色性：No深藍(lán)色； Ne介于深藍(lán)與淺紫色吸收性：NoNe電氣石的紀(jì)錄方式平行Z軸時(shí)：No , Ne多色性公式：No深藍(lán)色； Ne 淺紫色吸收性公式：NoNe 19（2）二軸晶礦片多色性、吸收性觀察和表達(dá)方式 a、選兩個(gè)切面 AP（ Ng , Np ）多色性最明顯 OA（ Nm ）不具多色性 b、記錄多色性公式： 例：角

10、閃石：Ng 深綠色 Nm 綠色 Np 淺黃綠色 多色性公式 Ng NmNp 吸收公式 正吸收 反之， Np Nm Ng 反吸收 20多色性極明顯：黑云母多色性不太明顯：紫蘇輝石Ng = Nm 為黑色 Np = 淺綠褐色 具弱多色性：Np =淡紅； Nm =淡黃： Ng =淡綠 多色性明顯：角閃石Ng = 深綠、深藍(lán)綠， Nm=綠 、黃綠， Np=淺綠、淺黃綠多色性劃分為三個(gè)等級(jí)21圖1310 礦物的邊緣和貝克線(xiàn) 第四節(jié) 薄片中礦物的邊緣、貝克線(xiàn)、糙面及突起 (a)(b)邊緣貝克線(xiàn)一、礦物的邊緣和貝克線(xiàn)(a)下降載物臺(tái)時(shí)，貝克線(xiàn)向礦物移動(dòng)；（b）提升載物臺(tái)時(shí),貝克線(xiàn)向樹(shù)膠移動(dòng)22nNnNn (a

11、) N礦n膠(b) N礦n膠(c) N礦n膠圖1312 糙面的形成原因 二、 礦物的糙面石榴子石 淺紅色 N 1.776 1.830 糙面明顯綠泥石 淺綠色 N 1.562 1.586 糙面不明顯N23 (a)N礦n膠 正突起： N礦 n膠N礦n膠 (b) 負(fù)突起： N礦 n膠 (a) 鋯石 正極高突起提升鏡筒下降鏡筒提升鏡筒下降鏡筒三、 礦物的突起(b) 方解石 負(fù)低突起 PPPP24圖1314 突起等級(jí)示意圖螢 石(a)負(fù)高突起石英(c)正低突起透閃石(d)正中突起輝石(e)正高突起榍石（上） 鋯石（下） (f)正極高突起正 長(zhǎng) 石(b)負(fù)低突起突起等級(jí)25圖1315 閃突起的成因 方解石

12、閃突起No=1.658 (正突起)Ne=1.486 (負(fù)突起)(a)(b)PPPPNpNgNpNgNpNg入射光Z 軸1.658 1.486 四、 閃突起26PP在單偏光鏡下，當(dāng)方解石解理的長(zhǎng)對(duì)角線(xiàn) PP 時(shí)，正突起很明顯，旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)，使長(zhǎng)對(duì)角線(xiàn) PP 時(shí)為負(fù)突起方解石閃突起實(shí)例負(fù)突起正突起圖1316 方解石的閃凸起實(shí)例27正交偏光系統(tǒng)下晶體的光學(xué)性質(zhì)消光現(xiàn)象及消光位干涉色及干涉色譜表補(bǔ)色法則及補(bǔ)色器一、補(bǔ)色法則二、常用的補(bǔ)色器正交偏光系統(tǒng)下主要光學(xué)性質(zhì)的觀察與測(cè)定方法一、非均質(zhì)體礦片上光率體橢圓半徑方向及名稱(chēng)的確定二、干涉色級(jí)序的觀察與測(cè)定三、消光類(lèi)型及消光角的測(cè)定四、晶體延性符號(hào)的測(cè)定五、

13、雙晶的觀察28下偏光鏡上偏光鏡礦片APAAAPPP(a)(b)圖142 礦片在正交偏光系統(tǒng)間的消光現(xiàn)象 第二節(jié) 正交偏光系統(tǒng)間礦片的消光現(xiàn)象及消光位 消光四次消光全消光消光位29第一級(jí)序第二級(jí)序第三級(jí)序第四級(jí)序暗灰色灰白色淺黃色橙色紫紅色藍(lán)色藍(lán)綠色綠色黃色紫紅色藍(lán)綠色綠色黃色橙色紅色淺藍(lán)色淺綠色淺綠色淺橙色淺橙色R=100 200 300 400 50010002000(nm)圖148 正交偏光鏡，不同波長(zhǎng)單色光透出石英楔，干涉所構(gòu)成的明暗條帶 =620nm 橙色 =560nm 黃色 =515nm 綠色 =470nm 藍(lán)色 =440nm 青色 =410nm 紫色 =700nm 紅色 30圖14

14、9 干涉色色譜表 光程差，nm雙折射率 雙折射率 第一級(jí)序 暗灰色灰白色淺黃色橙色紫紅色第二級(jí)序 藍(lán)色 藍(lán) 綠色綠色黃色紫紅色第三級(jí)序 藍(lán)綠色綠色黃色橙色紅色第四級(jí)序 淺藍(lán)色淺綠色淺綠色淺橙色淺橙色薄片厚度，mm紫紅色淺黃色橙色紫紅色磨片順序第一級(jí)序 暗灰色灰白色淺黃色橙色紫紅色第二級(jí)序 藍(lán)色 藍(lán) 綠色綠色黃色紫紅色第三級(jí)序 藍(lán)綠色綠色黃色橙色紅色第四級(jí)序 淺藍(lán)色淺綠色淺綠色淺橙色淺橙色石英為例暗灰色灰白色淺黃色橙色二、干涉色色譜表 三、干涉色級(jí)序及各級(jí)序的特征31四、異常干涉色葉綠泥石的柏林藍(lán)和銹褐色的異常干涉色柏林藍(lán)銹褐色32(a)同名半徑平行，干涉色升高(b)異名半徑平行，干涉色降低(a

15、)(b)Ng1Ng2Np1Np2Ng1Ng2Np1Np2+=一級(jí)紫紅一級(jí)灰白二級(jí)藍(lán)R= R1+R2-=一級(jí)紫紅一級(jí)灰白一級(jí)橙黃R= R1 - R2 補(bǔ)色法則及補(bǔ)色器圖1413 補(bǔ)色法則示意圖一、補(bǔ)色法則33圖1414 石膏試板(a)、云母試板(b)、石英楔(c)及其干涉色(a)(b)(c)二、幾種常見(jiàn)的補(bǔ)色器34(c) 加入云母試板，異名半徑平行，干涉色降低(d) 加入云母試板，同名半徑平行，干涉色升高一級(jí)橙黃二級(jí)藍(lán)圖1415 非均質(zhì)體礦片上光率體橢圓半徑方向和名稱(chēng)的測(cè)定 一級(jí)紫紅（a）光率體的長(zhǎng)短半徑與上下偏光鏡震動(dòng)方向平行，消光(b) 轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)45，長(zhǎng)短半徑和偏光鏡震動(dòng)方向成45夾角第六

16、節(jié) 正交偏光系統(tǒng)間的主要光學(xué)性質(zhì)的觀察與測(cè)定方法 APAPAPAPAPAPAPAP45一、非均質(zhì)體礦片上光率體橢圓半徑方向和名稱(chēng)的測(cè)定35二、干涉色級(jí)序的觀察與測(cè)定（一）楔形邊法圖1416 礦片楔形邊緣的干涉色圈 紅紅灰紅 橙 黃 白 灰三級(jí)藍(lán)36（二）利用石英楔測(cè)定干涉色級(jí)序（1）轉(zhuǎn)動(dòng)載物臺(tái)使礦片消光（2）轉(zhuǎn)至45位（3）插試板至消色，若不消色則再轉(zhuǎn)物臺(tái)90（4）抽出試板，在抽出過(guò)程中計(jì)算礦片出現(xiàn)紅色的次數(shù)37方解石高級(jí)白的測(cè)試（三）高級(jí)白干涉色的鑒別方法38平行消光 (a)斜消光 (c)對(duì)稱(chēng)消光 (b)三、 消光類(lèi)型及消光角的測(cè)定（一）消光類(lèi)型圖1417 消光類(lèi)型39 中級(jí)晶族礦物的光性方

17、位是光率體的Ne軸 (光軸) 與晶體的Z晶軸一致。這類(lèi)礦物的消光類(lèi)型以平行消光和對(duì)稱(chēng)消光為主，斜消光的切面非常稀少。1. 中級(jí)晶族礦物的消光類(lèi)型（二）各晶系礦物的消光類(lèi)型40 斜方晶系礦物的光性方位是光率體的三個(gè)主軸與晶體的三個(gè)結(jié)晶軸一致。在 100、010和001 三個(gè)晶帶中的所有切面都是平行消光或?qū)ΨQ(chēng)消光 (這些切面平行三個(gè)結(jié)晶軸)。但與三個(gè)結(jié)晶軸斜交，而且斜交角度較大的切面，可能出現(xiàn)斜消光，其消光角一般較小，極少數(shù)可達(dá)40左右。 2. 斜方晶系礦物的消光類(lèi)型41 單晶系礦物的光性方位是晶體的Y軸與光率體三個(gè)主軸之一重合，其余兩個(gè)主軸與X、Z晶軸斜交。這類(lèi)礦物不同方向切面的消光類(lèi)型可能有以

18、下四種情況： 以普通角閃石為例說(shuō)明這類(lèi)礦物不同方向切面的消光類(lèi)型。其光性方位是：NmY晶軸， NgZ 晶軸30，具110解理。 3. 單斜晶系礦物的消光類(lèi)型42Z(e)/ (110)YZY(d)/ (100)YX(c)/ (001)斜消光對(duì)稱(chēng)消光平行消光斜消光，消光角比b小圖1418 普通角閃石不同 方向切面的消光類(lèi)型NmNpNgNmNp1Ng1Z(a)Y= NmXNgNpZX(b)/ (010)NgNpZX(b)/ (010)NgNpZ(e)/ (110)YNpNg43干涉色升高光至消45(a)(b)(c)(d)圖1419 消光角的測(cè)定步驟 APAPAPAPAPAPAPAP一級(jí)橙黃干涉色 降

19、低二級(jí)藍(lán)（三）消光角的測(cè)定方法44 長(zhǎng)條狀礦物切面，其延長(zhǎng)方向與光率體橢圓長(zhǎng)半徑Ng或Ng平行或其夾角小于45時(shí)，稱(chēng)正延性；其延長(zhǎng)方向與光率體橢圓長(zhǎng)半徑Np或Np平行或其夾角小于45時(shí)，稱(chēng)為負(fù)延性。礦片的延性符號(hào)與柱狀或板狀礦物的光性方位有密切聯(lián)系。四、晶體延性符號(hào)的測(cè)定45(a) 消光位(b) 正延性(c) 負(fù)延性一級(jí)橙黃干涉色降低圖1421 延長(zhǎng)符號(hào)的測(cè)定方法 APAPAPAPAPAP二級(jí)藍(lán)干涉色升高46(a)(b) (a)雙晶在正交偏 光系統(tǒng)間的消光情況(b)雙晶上兩個(gè)單體的光率體橢圓切面與目鏡十字絲間的關(guān)系A(chǔ)PAPAPAAAP五、雙晶的觀察圖1422 雙晶的觀察 47圖1423 雙晶的

20、幾種類(lèi)型(a)簡(jiǎn)單雙晶 (輝石)(b)卡式雙晶 (正長(zhǎng)石)(c)聚片雙晶 (斜長(zhǎng)石)(d)六連雙晶 (堇青石)雙晶兩種類(lèi)型1.簡(jiǎn)單雙晶 2.復(fù)式雙晶（聚片雙晶、聯(lián)合雙晶） 48聚斂偏光系統(tǒng)下的晶體光學(xué)性質(zhì)聚斂偏光系統(tǒng)的裝置及光學(xué)特點(diǎn)一軸晶干涉圖二軸晶干涉圖49APAP灰灰灰灰APAP(b)(a)第二節(jié) 一軸晶干涉圖 圖154 一軸晶垂直光軸切面的干涉圖一、垂直光軸切面的干涉圖（一）圖像特點(diǎn)50NeNeNe Ne NoNoNoNo（+）Ne No(b)(a)圖1510 一軸晶礦物光性符號(hào)的測(cè)定圖159 一軸晶垂直光軸切面干涉圖中Ne與No的方位升升降降（ ） Ne No石膏試板石膏試板降升降升（

21、三）垂直光軸切面干涉圖的應(yīng)用51(a)(b)圖1511 干涉圖中黑十字四個(gè)象限內(nèi)僅見(jiàn)一級(jí) 灰干涉色時(shí)，加入石膏試板后的變化光情況 橙黃橙黃藍(lán)藍(lán)紫紅藍(lán)藍(lán)橙黃橙黃紫紅石膏試板（+）（ ）石膏試板52(a)(b)圖1512 干涉圖中黑十字四個(gè)象限內(nèi)干涉色圈較多， 加入云母試板后的變化情況云母試板云母試板（+）灰白灰白（ ）53(a)(b)(c)(d)(a)(b)(c)(d)022.5135904590圖1513 斜交光軸切面的干涉圖 (光軸傾角不大) 450圖1514 斜交光軸切面的干涉圖 (光軸傾角較大)二、 斜交光軸切面的干涉圖(一)圖像特點(diǎn)54一軸晶方解石斜交光軸切面干涉圖1. 圖像特點(diǎn)2.

22、光性符號(hào)測(cè)定 NoNe 負(fù)光性55圖1515 斜交光軸切面的干涉圖 （光軸傾角很大） (a)(b)(c)(d)(e)(f)56(a)(b)(c)(d)圖1516 旋轉(zhuǎn)載物臺(tái)時(shí)，斜交光軸切面干涉圖中黑帶的移動(dòng)規(guī)律 (二) 斜交光軸切面干涉圖的應(yīng)用57(a)(b)（+）干涉色升高圖1517 一軸晶斜交光軸切面干涉圖上光性符號(hào)的測(cè)定 干涉色降低（ ）58紅（+）(a)(b)圖1518 一軸晶斜交光軸切面干涉圖加入石膏和云母試板后的變化情況 灰1/4二級(jí)藍(lán)1石膏試板云母試板（ ）紫紅59A0(a)p黃光軸方向Ap(b)45綠光軸綠黃藍(lán)藍(lán)橙橙圖1519 一軸晶平行光軸切面的干涉圖 三、平行光軸切面的干涉

23、圖(一)圖像特點(diǎn)60NeNo(a)NeNo (b) 光軸（+） 圖1522 一軸晶平行光軸切面干涉圖中光性符號(hào)的測(cè)定 干涉色降低光軸干涉色升高（ ）(三) 一軸晶平行光軸切面干涉圖的應(yīng)用 61(a)AAAAP(b)(c)(d)(e)(f)0459004590NmNmNmNmNmPAPOAOAOAOANmAP灰灰灰灰灰灰灰PPBxaOAOABxaOAOABxaOAOAOAOA灰灰灰灰BxaBxaBxa圖1523 二軸晶垂直Bxa切面的干涉圖第三節(jié) 二軸晶干涉圖 一、垂直銳角等分線(xiàn)(Bxa)切面的干涉圖（一）圖像特點(diǎn):62(+)( )光軸BxoBxoAPAPBxaBxaNmNgNmNgNmNmNm

24、NpNmNpNmNpNmNmNgNmNgNmNmNmNpNmNmNgNmNmNmNp光軸圖1531 二軸晶負(fù)光性晶體，垂直 Bxa切面干涉圖中，光軸面跡線(xiàn)上， 光率體橢圓長(zhǎng)短半徑的分布方位圖1530 二軸晶正光性晶體，垂直Bxa切面干涉圖中，光軸面跡線(xiàn)上， 光率體橢圓長(zhǎng)短半徑的分布方位 光軸光軸（三）二軸晶垂直Bxa切面干涉圖的應(yīng)用63Bxo的投影方向圖1532 垂直Bxa切面干涉圖中，Nm及Bxa與Bxo的投影方向 Bxa的投影方向Bxa的投影方向NmNmNm64藍(lán)橙黃橙黃紫紅紅（+）BxaNg BxoNp (a)石膏試板NmBxaNp BxoNg (b)橙黃藍(lán)紫紅Nm藍(lán)圖1533 垂直Bx

25、a切面干涉圖中，彎曲黑帶范圍以外僅見(jiàn)一級(jí)灰干涉色，加入石膏試板后的變化情況石膏試板（ ） 紫紅紫紅65（+）BxaNg BxoNp (a)云母試板云母試板圖1534 垂直Bxa切面干涉圖中，干涉色圈多， 加入云母試板后的變化情況BxaNp BxoNg (b)（）66二軸晶白云母Bxa切面的干涉圖 一、圖像特點(diǎn)二、光性符號(hào)測(cè)定67Ap045Ap光軸光軸光軸光軸Ap13590Ap(a)(b)(c)(d)圖1535 二軸晶垂直一個(gè)光軸切面的干涉圖二、 垂直一個(gè)光軸切面的干涉圖(一)圖像特點(diǎn)68（+）BxaNg Bxo Np (a)BxaNp Bxo Ng (b) 石膏試板石膏試板圖1536 垂直一個(gè)光軸切面干涉圖，黑帶以外 僅見(jiàn)一級(jí)灰干涉色，加入石膏試板后的變化藍(lán)橙黃紫紅橙黃藍(lán)紫紅（ ） （二）垂直一個(gè)光軸切面干涉圖的應(yīng)用69（+）BxaNg Bxo Np (a)BxaNp Bxo Ng(b)云母試板圖1537 垂直一個(gè)光軸切面干涉圖，干涉色圈較多，加入云母試板后的變化云母試板（ ） 70015304560902V=152V=視域界限NA=0.65Nm=視域半徑方位角0.851.501.752.001.531.802.0000030609015304510203040502V圖1539 垂直一個(gè)光軸切面干涉圖中，估計(jì)2V