重大關(guān)鍵核心技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目策劃資金申請(qǐng)報(bào)告

1、重大關(guān)鍵核心技術(shù)研發(fā)項(xiàng)目資金申請(qǐng)報(bào)告項(xiàng)目名稱 高端微納光刻裝備研發(fā)與產(chǎn)業(yè)化 項(xiàng)目承擔(dān)單位 蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司 項(xiàng)目負(fù)責(zé)人 陳林森 聯(lián)系電話 051-628682-26 項(xiàng)目主持部門 江蘇省進(jìn)展和改革委員會(huì) 申報(bào)日期 25年3月11日 江蘇省推進(jìn)戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)進(jìn)展工作領(lǐng)導(dǎo)小組辦公室二一五年一月目錄 TOC 3h u HYPERINKl_Toc4820 一、項(xiàng)目的背景和必要性 AEREF _Toc11700 3 HYERNK l _To118201 (一) 國(guó)內(nèi)外現(xiàn)狀： PGEREF_Tc148701 h PERLIKl _To41182702 (二）技術(shù)進(jìn)展趨勢(shì): PGREF _T

2、oc41482702 h 5HYPERLINK N:整理后(三）擬解決的關(guān)鍵技術(shù)和問(wèn)題: AGEREFoc482703 h 6 HYPRLINK l _Toc141870 （四)對(duì)產(chǎn)業(yè)進(jìn)展的作用與阻礙： PERF _Toc412704h 7HYPERLINK N:整理后(五)市場(chǎng)分析: PAGERF_Toc4141058 HYPERLNl_Tc14182706 二、項(xiàng)目法人差不多情況 PGEREF Toc4141826 h9 HYPERLK l _Toc4418277 三、項(xiàng)目的技術(shù)基礎(chǔ) PAGERE _To41107 h 13HYPERLINK N:整理后l（一)成果來(lái)源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況 PA

3、GERF c41808 h13HYPERLINK N:整理后(二）產(chǎn)學(xué)研合作情況 PAGERE T411820h 15 YPERLINK l _Tc18270（三)已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限 PAGREF_Toc414182710h17 YPERLl _Toc414811 (四)技術(shù)或工藝特點(diǎn)以及與現(xiàn)有技術(shù)或工藝比較所具有的優(yōu)勢(shì) PAGRF_Toc418211 h 22HYPERLINK N:整理后（五）重大關(guān)鍵技術(shù)突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的重要意義和作用 AGEEF _To41412712 2HYPERLINK N:整理后l四、項(xiàng)目建設(shè)方案 PGE Toc4412713h 26 HY

4、PERLNKl _Toc4174 （一）建設(shè)的要緊內(nèi)容、建設(shè)規(guī)模 AERF _To41482714 h26HYPERLINK N:整理后l（二）工藝技術(shù)路線與技術(shù)工藝特點(diǎn)PAERF Toc41275 27HYPERLINK N:整理后l（三）設(shè)備選型及要緊技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo) AEREF_Toc4141816 h 28 HYPERLINK l _T4418717 (四）產(chǎn)品市場(chǎng)預(yù)測(cè) AGEREF _To4118277 h 30HYPERLINK N:整理后 l _Toc414181（五)建設(shè)地點(diǎn)、建設(shè)周期和進(jìn)度安排、建設(shè)期治理等 PAGREF _T41182718 h 3 HERLIK l _Tc11

5、719 五、項(xiàng)目投資 GEF_To44182719h HYPLINK l Toc41412720 （一)項(xiàng)目總投資規(guī)模、資金來(lái)源、投資使用方案 PAEREF Tc1418272 h3HYPERLINK N:整理后l（二）資金籌措方案 PAGERE_Toc4118272 h 5HYPERLINK N:整理后l六、項(xiàng)目財(cái)務(wù)分析、經(jīng)濟(jì)分析及要緊指標(biāo) PGEEF _44822h HYPERLINK N:整理后（一)財(cái)務(wù)分析 PEREF _Toc41412723 h 36 YPRIK l o41412724 (二)風(fēng)險(xiǎn)分析 PGERF _oc41424 h 38 HYERNK l _To4182725(

6、三)經(jīng)濟(jì)效益分析AGERFTc4118225h HYPERLINK N:整理后（四)社會(huì)效益分析PGERFTo148276 h 39HYPERLINK N:整理后八、資金申請(qǐng)報(bào)告附件PGERF _Tc4141872h1本項(xiàng)目符合江蘇省“十二五”培育和進(jìn)展戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)規(guī)劃中產(chǎn)業(yè)進(jìn)展重點(diǎn)：(七)高端裝備制造產(chǎn)業(yè) -智能制造裝備，同時(shí)也是（二）新材料產(chǎn)業(yè)中的上游核心設(shè)備，負(fù)責(zé)工藝流程中前端制程，具有關(guān)鍵支撐作用。一、項(xiàng)目的背景和必要性國(guó)內(nèi)外現(xiàn)狀和技術(shù)進(jìn)展趨勢(shì)，擬解決的關(guān)鍵技術(shù)和問(wèn)題，對(duì)產(chǎn)業(yè)進(jìn)展的作用與阻礙，市場(chǎng)分析。（一)國(guó)內(nèi)外現(xiàn)狀:高端微納光刻裝備是開展微納新材料、半導(dǎo)體、ES、生物芯片、周密電

7、路、平板顯示、固態(tài)照明等領(lǐng)域技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品生產(chǎn)的必要設(shè)備。目前,一場(chǎng)新型柔性功能材料的革命性改變正在發(fā)生:超薄柔性材料的功能化,成為推動(dòng)行業(yè)進(jìn)展的革命性力量，使得周密加工制造技術(shù)向微米納米結(jié)構(gòu)和智能制造進(jìn)展。隨著移動(dòng)互聯(lián)的高速進(jìn)展，便攜、可穿戴光電子器件需要進(jìn)一步解決節(jié)能、低成本問(wèn)題。柔性電子制造領(lǐng)域國(guó)家打算與政府投入：美國(guó)FDCS打算、在202年美國(guó)“總統(tǒng)報(bào)告”中將柔性電子制造作為先進(jìn)制造11個(gè)優(yōu)先進(jìn)展的尖端領(lǐng)域、212年ASA制定柔性電子戰(zhàn)略、204年成了柔性混合電子器件制造創(chuàng)新中心；歐盟(第7研究框架、地平線打算）的印刷技術(shù)在柔性塑料基底上進(jìn)行制備、英國(guó)（“拋石機(jī)”打算、建設(shè)英國(guó)的以后打

8、算）將塑料電子作為制造業(yè)要緊進(jìn)展領(lǐng)域;德國(guó)投資數(shù)十億歐元建立柔性顯示生產(chǎn)線；韓國(guó)韓國(guó)綠色I(xiàn)T國(guó)家戰(zhàn)略21年投資72億美金進(jìn)展AOE;日本TAD打算在011年成立先進(jìn)印刷電子技術(shù)研發(fā)聯(lián)盟；我國(guó)電子信息制造業(yè)“十二五”進(jìn)展規(guī)劃,新型顯示器件、太陽(yáng)能光伏等作為進(jìn)展重點(diǎn)方向，國(guó)家自然科學(xué)基金12-、135規(guī)劃中將柔性電子作為微納制造重要研究領(lǐng)域。柔性光電功能材料具有數(shù)以千億計(jì)的潛在市場(chǎng)需求。在下一代裸眼3D顯示、大尺寸柔性觸控屏、OLD照明的納米襯底、可穿戴電子器件,具有微米級(jí)線寬納米結(jié)構(gòu),現(xiàn)有的光刻設(shè)備達(dá)不到這種精度加工的要求。微納光刻裝備是高端技術(shù)密集型微納產(chǎn)業(yè)中的核心設(shè)備,負(fù)責(zé)工藝流程中前端制程

9、。這些產(chǎn)業(yè)的進(jìn)展，離不開微納光刻裝備。高端微納光刻設(shè)備,關(guān)于科學(xué)研究中的工藝試驗(yàn)研究、新品研發(fā)、產(chǎn)品生產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)跨越進(jìn)展都具有重大意義。目前高端微納光刻裝備領(lǐng)域的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化工作開展較好的公司在國(guó)外,如德國(guó)iebergnstruments、瑞典Micronic、以色列Ortec、美國(guó)Apied Mateial，能夠?qū)κ袌?chǎng)需求和設(shè)備研發(fā)制造形成良性的循環(huán),另外,韓國(guó)、日本等一些研發(fā)型公司也在進(jìn)行該項(xiàng)工作的推進(jìn)。我國(guó)科研院所在微納光刻領(lǐng)域的研究,要緊模式是采購(gòu)國(guó)外科研型設(shè)備,進(jìn)行工藝和器件的開發(fā),對(duì)高端裝備技術(shù)的研究開展較少。國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)環(huán)境的進(jìn)展,產(chǎn)品創(chuàng)新對(duì)高端微納直寫光刻與加工裝備具有大量需求；與國(guó)

10、外企業(yè)相比,在技術(shù)溝通、服務(wù)響應(yīng)能力方面具有優(yōu)勢(shì)；國(guó)內(nèi)還缺乏“微納級(jí)不”的高端智能激光直寫光刻裝備的研發(fā)與制造企業(yè),蘇大維格公司通過(guò)國(guó)家63打算的重點(diǎn)項(xiàng)目的資助，掌握了微納直寫裝備的核心技術(shù),擁有人才團(tuán)隊(duì)，依托于國(guó)家發(fā)改委批準(zhǔn)的“國(guó)家地點(diǎn)聯(lián)合工程研究中心”,公司在高端微納智能裝備的研發(fā)具有,同時(shí)公司也是創(chuàng)業(yè)板上市公司在產(chǎn)業(yè)化上也有優(yōu)勢(shì)。值得一提的是,本公司(蘇大維格)在國(guó)家63打算和江蘇省攀登打算支持下,在高端微納光刻設(shè)備的研發(fā)上卓有成效,積存了若干光機(jī)電關(guān)鍵技術(shù),激光智能LM干涉直寫儀器等設(shè)備填補(bǔ)行業(yè)空白,在100n特征尺寸的直寫系統(tǒng)上，研發(fā)成功HoloSaV、HoMakerIII和irap

11、her20等系列化的儀器設(shè)備，具有行業(yè)領(lǐng)先水平，在國(guó)內(nèi)聞名高等研究院所應(yīng)用,并出口日本、以色列等國(guó)。獲20年國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)，省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)。（二)技術(shù)進(jìn)展趨勢(shì)：微納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)作為先導(dǎo)性領(lǐng)域,對(duì)我國(guó)新興產(chǎn)業(yè)的創(chuàng)新進(jìn)展中具有不可或缺的先導(dǎo)作用,高端微納光刻裝備是進(jìn)行微納技術(shù)的科學(xué)研究、新器件、新功能材料的研發(fā)與應(yīng)用的核心儀器,具有關(guān)鍵支撐作用。舉例講明，“光電轉(zhuǎn)換效率提升”是新型光電器件(LED，太陽(yáng)能、新型照明、低耗能材料）研究的核心問(wèn)題,除了材料自身的光電特性之外,微納結(jié)構(gòu)分布與高效制備是推進(jìn)高性能器件研制的重要方向,例如,在LE領(lǐng)域,納米圖形化技術(shù)是提升器件發(fā)光效率的重要途徑,目標(biāo)達(dá)到

12、每瓦150流明以上，納圖形理論和實(shí)驗(yàn)研究是重點(diǎn)領(lǐng)域；薄膜太陽(yáng)能電池的效率提升需納米陷光結(jié)構(gòu)襯底的制備;在平板立體顯示領(lǐng)域,納米線柵結(jié)構(gòu)、3D位相延遲片偏振片、濾光片是提升顯示光能利用率的重要研究方向;在光電子、微機(jī)電系統(tǒng)器件等科學(xué)研究領(lǐng)域,需要有高分辨、高效、3曝光的多功能圖形化手段和檢測(cè)儀器,尤其在大尺寸納米結(jié)構(gòu)器件的無(wú)損檢測(cè)是急需解決的重大問(wèn)題；在國(guó)防領(lǐng)域,超大幅面光柵的研制，需要有更好的檢測(cè)儀器。在納米印刷研究和開發(fā)領(lǐng)域,高端圖形化與檢測(cè)是提供無(wú)油墨納米色彩圖像品質(zhì)的必由之路。因此，該類型的高端微納圖形化儀器設(shè)備的研制,可打破國(guó)外技術(shù)壟斷,具有重大戰(zhàn)略意義。微納圖形直寫與檢測(cè)儀器設(shè)備的研

13、制,關(guān)于科學(xué)研究中的工藝試驗(yàn)研究、新品研發(fā)中的圖形快速制備與檢測(cè),實(shí)現(xiàn)跨越進(jìn)展具有重大意義。（三)擬解決的關(guān)鍵技術(shù)和問(wèn)題：紫外大視場(chǎng)平場(chǎng)成像光學(xué)系統(tǒng)研制:光學(xué)系統(tǒng)是微納光刻裝備的基礎(chǔ)性關(guān)鍵部件,對(duì)裝備的總體性能具有重要阻礙。針對(duì)各種不同阻礙,設(shè)備的光學(xué)系統(tǒng)將做相應(yīng)的設(shè)計(jì)和研制。本公司在紫外位相-空間混合調(diào)制的微納光學(xué)系統(tǒng)具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),是高效微納米圖形光刻的有效解決手段。自動(dòng)化多軸操縱技術(shù):基于可編程多軸操縱器的自動(dòng)化操縱技術(shù),是周密光刻設(shè)備運(yùn)行的關(guān)鍵技術(shù)。通過(guò)編寫程序?qū)崿F(xiàn)設(shè)備光、機(jī)、電的協(xié)調(diào)運(yùn)行,實(shí)現(xiàn)設(shè)備的預(yù)期功能。操縱技術(shù)包含了同步曝光技術(shù)、數(shù)據(jù)分割和上載技術(shù)、圖像處理技術(shù)、高速多軸平臺(tái)

14、閉環(huán)操縱技術(shù)等。本公司在基于PMAC、ACS等的操縱器的操縱技術(shù)有了長(zhǎng)期研發(fā)基礎(chǔ),研發(fā)了飛行曝光技術(shù)、Z-校正自動(dòng)聚焦技術(shù)、積分曝光技術(shù)等,為設(shè)備功能多樣化開發(fā)積存了經(jīng)驗(yàn)。微納數(shù)據(jù)處理技術(shù)：大幅面微納結(jié)構(gòu)圖形的數(shù)據(jù)是海量的,例如,以數(shù)據(jù)解析分辨率為0.5m計(jì)算,100m10m圖形的數(shù)據(jù)量將達(dá)到16B。微納結(jié)構(gòu)數(shù)據(jù)，采納具有行業(yè)共性的GDSI、DXF、GRBE、CF等格式。數(shù)據(jù)處理技術(shù)，流程是:數(shù)據(jù)格式轉(zhuǎn)換數(shù)據(jù)圖形化-圖形數(shù)據(jù)切割和組合。光刻是數(shù)據(jù)分批分隊(duì)列上載到光刻設(shè)備,通過(guò)操縱軟件將圖形光刻輸出。工藝開發(fā)和優(yōu)化:針對(duì)具體應(yīng)用方向，需要對(duì)光刻工藝進(jìn)行探究和研究，通過(guò)測(cè)試和分析結(jié)果，對(duì)工藝的操縱

15、參數(shù)、部件參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化，最終滿足應(yīng)用需求。（四)對(duì)產(chǎn)業(yè)進(jìn)展的作用與阻礙: “十二五”期間,國(guó)家和江蘇省鼓舞新興產(chǎn)業(yè)進(jìn)展，江蘇省及蘇州地點(diǎn)將納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)作為主導(dǎo)進(jìn)展產(chǎn)業(yè)，迫切需要研究并解決產(chǎn)業(yè)進(jìn)展中缺乏上游微納制造技術(shù)的共性問(wèn)題。204年，國(guó)家進(jìn)展改革委深入貫徹落實(shí)創(chuàng)新驅(qū)動(dòng)戰(zhàn)略,以加快經(jīng)濟(jì)結(jié)構(gòu)戰(zhàn)略轉(zhuǎn)型為主攻方向,以改革創(chuàng)新促進(jìn)展，切實(shí)推動(dòng)高技術(shù)產(chǎn)業(yè)和戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)平穩(wěn)健康進(jìn)展。其中的一個(gè)重點(diǎn)確實(shí)是深入推進(jìn)新型平板顯示、高性能醫(yī)學(xué)診療設(shè)備等重大創(chuàng)新進(jìn)展工程建設(shè),擴(kuò)大節(jié)能環(huán)保、信息惠民、衛(wèi)星導(dǎo)航、智能制造等領(lǐng)域的示范應(yīng)用，重點(diǎn)突破深刻阻礙產(chǎn)業(yè)進(jìn)展的關(guān)鍵核心技術(shù),推動(dòng)傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造升級(jí)，加快培育新的經(jīng)濟(jì)

16、增長(zhǎng)點(diǎn)。高端微納光刻裝備是上述領(lǐng)域上游所需的核心設(shè)備,具有關(guān)鍵支撐作用。中國(guó)版工業(yè)40規(guī)劃-中國(guó)制造業(yè)進(jìn)展綱要(01505)立即于205年出臺(tái)。作為牽頭制定中國(guó)制造業(yè)05規(guī)劃的部門，工信部已著手研究制定裝備制造領(lǐng)域相關(guān)專項(xiàng)規(guī)劃,規(guī)劃重點(diǎn)實(shí)施領(lǐng)域?yàn)樾乱淮畔⒓夹g(shù)產(chǎn)業(yè)、生物醫(yī)藥與生物制造產(chǎn)業(yè)、高端裝備制造產(chǎn)業(yè)、新能源產(chǎn)業(yè)等四大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。本項(xiàng)目突破大尺度幅面、納米結(jié)構(gòu)及納米精度、微納結(jié)構(gòu)器件與材料的低成本制造關(guān)鍵技術(shù)，開發(fā)高端微納制造裝備，滿足提升產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力，促進(jìn)區(qū)域經(jīng)濟(jì)進(jìn)展方面的需求,建設(shè)微納結(jié)構(gòu)器件功能設(shè)計(jì)、微納米柔性制造關(guān)鍵技術(shù)與裝備、材料應(yīng)用及加工檢測(cè)創(chuàng)新平臺(tái)。對(duì)區(qū)域納米技術(shù)創(chuàng)新體系的完善

17、，對(duì)相關(guān)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)型升級(jí)、高技術(shù)企業(yè)孵化、高端人才培養(yǎng)與引進(jìn)具有重大作用。高端微納光刻裝備對(duì)多個(gè)產(chǎn)業(yè)的進(jìn)展具有重要作用：平板顯示和觸控屏：用于光掩模版制備、大幅面觸摸屏電路圖形化光刻,例如5寸的大尺寸電容觸控屏電路制備等。TV超薄背光源(BLU)：平板電腦、液晶顯示器、電視機(jī)的超薄化趨勢(shì),用于超薄導(dǎo)光板的熱壓模具制備(例如70寸微透鏡金屬壓印模具)。高密度柔性電路、IC載板:10m以下線寬工藝,是下一代集成電路D封裝必須的關(guān)鍵技術(shù),目前需要.25微米分辨率的高精度直寫光刻設(shè)備。S芯片：MEMS芯片制備,需要解決厚膠圖形化光刻工藝。公共安全：專門微納結(jié)構(gòu)的視讀特征,是實(shí)現(xiàn)證卡安全、產(chǎn)品愛(ài)護(hù)、金融安全

18、等領(lǐng)域公共安全的有效手段。科研、國(guó)家項(xiàng)目需求：微納加工技術(shù)，是諸多科研領(lǐng)域的共性技術(shù),小型微納光刻設(shè)備，可用于高等院所的實(shí)驗(yàn)室,專門定制的微納光刻裝備，能夠服務(wù)于國(guó)家重大項(xiàng)目。（五）市場(chǎng)分析：柔性電子技術(shù)差不多并將開發(fā)出許多創(chuàng)新的電子產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域，從而，帶來(lái)一場(chǎng)電子信息技術(shù)革命。據(jù)IDTechEx預(yù)測(cè),201年柔性電子的市場(chǎng)銷售額將高達(dá)4.3億美元,2018年為94億美元,208年為00億美元。柔性電子制造技術(shù)和裝備是穿戴式電子、新能源、高端顯示、物聯(lián)網(wǎng)和智能家居領(lǐng)域進(jìn)展的關(guān)鍵技術(shù),可提供原創(chuàng)性柔性電子器件、知識(shí)產(chǎn)權(quán)和關(guān)鍵技術(shù),能為新興市場(chǎng)培育、高層次人才培養(yǎng)提供新機(jī)遇，服務(wù)并推動(dòng)相關(guān)信息產(chǎn)業(yè)

19、的跨越進(jìn)展。二、項(xiàng)目法人差不多情況項(xiàng)目法人的所有制、主營(yíng)業(yè)務(wù),近三年的銷售收入、利潤(rùn)、稅收、固定資產(chǎn)、資產(chǎn)負(fù)債率、銀行信用等級(jí)、企業(yè)技術(shù)開發(fā)、經(jīng)營(yíng)治理、資金籌集、市場(chǎng)開拓等情況。企業(yè)名稱:蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司企業(yè)性質(zhì): 股份制企業(yè)，深交所創(chuàng)業(yè)板上市公司(代碼:3031）企業(yè)地址:蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路68號(hào);資本：30萬(wàn)人民幣主營(yíng)業(yè)務(wù):激光光刻直寫系統(tǒng)與納米壓印裝備、LED納米圖形光刻設(shè)備、OGS掩膜和灰度光刻設(shè)備；光學(xué)(鐳射）膜:定制光學(xué)（鐳射)印材、防偽解決方案和材料；平板顯示照明:超薄導(dǎo)光板、大尺寸電容觸控屏(非T);光掩模板。公司已于202年6月在深交所創(chuàng)業(yè)板上市(股票代碼：3

20、00331),銀行信用等級(jí):A級(jí)近三年財(cái)務(wù)情況： (萬(wàn)元)年度銷售收入利潤(rùn)稅收固定資產(chǎn)資產(chǎn)負(fù)債率2012281.82459.21871.350.3.12013272.32198184.941238.61.3%2042661.86319314.41487217.50%公司建有國(guó)家級(jí)研究平臺(tái)“數(shù)碼激光成像與顯示國(guó)家地點(diǎn)聯(lián)合工程研究中心”（國(guó)家發(fā)改委批準(zhǔn),201年),設(shè)有“HYPERLINK N:整理后ttp：wwwgtrnics.coCene_for_igialpticl_maging_Displangdf t _bnk江蘇省微納柔性制造工程技術(shù)研究中心”(2010年，省政府批準(zhǔn))，擁有600平米

21、用于工程研究和產(chǎn)品中試的實(shí)驗(yàn)室。圖1公司場(chǎng)地具有面向新型顯示、照明和成像領(lǐng)域的微納制造工程研發(fā)與檢測(cè)條件。設(shè)有四個(gè)研發(fā)方向:先進(jìn)光學(xué)顯示器件、微納制造技術(shù)與裝備、柔性材料與器件和納米印刷技術(shù)。公司建有江蘇省院士工作站和全國(guó)博士后工作站。圖2 國(guó)家工程中心和院士工作站公司擁有國(guó)際一流創(chuàng)的新團(tuán)隊(duì),江蘇省科技創(chuàng)新團(tuán)隊(duì)。重大成果獲得:國(guó)家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)（01年度)、江蘇省科技進(jìn)步一等獎(jiǎng)(2011年度,2007年度）、第十二屆、十四屆“中國(guó)優(yōu)秀專利獎(jiǎng)”(201年,2012年）、第七屆江蘇省專利金獎(jiǎng)等獎(jiǎng)項(xiàng)。為此,公司榮獲首屆江蘇省企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)（全省19家企業(yè)）。圖3 重大科技獲獎(jiǎng)公司擁有授權(quán)發(fā)明專利

22、49項(xiàng),其中與本項(xiàng)目相關(guān)自主研發(fā)設(shè)備和技術(shù)已獲得發(fā)明專利6項(xiàng)。公司建立了以市場(chǎng)為導(dǎo)向、自主創(chuàng)新為推動(dòng)力的經(jīng)營(yíng)治理制度,從產(chǎn)品設(shè)計(jì)、品質(zhì)治理、客戶溝通與服務(wù)、到產(chǎn)品質(zhì)量體系認(rèn)證、新品導(dǎo)入與跟蹤，有完整的治理制度，力圖與國(guó)際體系接軌。形成了一個(gè)研發(fā)、設(shè)計(jì)、裝備改進(jìn)、制程提升、各戶認(rèn)證的快速反應(yīng)能力。關(guān)于新品導(dǎo)入項(xiàng)目，成立項(xiàng)目領(lǐng)導(dǎo)小組，以董事長(zhǎng)為負(fù)責(zé)人，總經(jīng)理執(zhí)行人的項(xiàng)目領(lǐng)導(dǎo)組，協(xié)調(diào)與處理項(xiàng)目研發(fā)、市場(chǎng)實(shí)施過(guò)程中的各種問(wèn)題。業(yè)內(nèi)第一個(gè)研發(fā)成功并批量化寸0m厚度LED超薄導(dǎo)光板卷對(duì)卷產(chǎn)線,實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用; 發(fā)明并實(shí)現(xiàn)消色差光學(xué)膜的高效光刻方法； 發(fā)明了“寬幅衍射光變圖像高速光刻方法與設(shè)備”:解決了微納結(jié)

23、構(gòu)工業(yè)化制備的行業(yè)難題; 領(lǐng)先建立了“微納柔性制造生產(chǎn)線”,從“微納結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)、材料特性研究、重大裝備研發(fā)和成果產(chǎn)業(yè)化”工藝鏈; 第一個(gè)研制成功“3D光變圖像全息制版系統(tǒng)”實(shí)現(xiàn)了全息圖像的微納結(jié)構(gòu)表達(dá),并推進(jìn)了立體圖像的工業(yè)化應(yīng)用; 發(fā)明“定位激光轉(zhuǎn)移紙張”(印刷第一色概念），實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化； 第一個(gè)研發(fā)成功數(shù)字化“數(shù)碼激光全息制版系統(tǒng)”，國(guó)內(nèi)外廣泛使用; 提出并實(shí)現(xiàn)了導(dǎo)模共振納米光子晶體變色薄膜。三、項(xiàng)目的技術(shù)基礎(chǔ)成果來(lái)源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況，產(chǎn)學(xué)研合作情況，已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限，技術(shù)或工藝特點(diǎn)以及與現(xiàn)有技術(shù)或工藝比較所具有的優(yōu)勢(shì),該項(xiàng)技術(shù)的突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的重要意義和作用。(一）

24、成果來(lái)源及知識(shí)產(chǎn)權(quán)情況核心技術(shù)來(lái)源于蘇大維格公司的技術(shù)積存和產(chǎn)學(xué)研合作，公司在高精度激光微納米直寫和加工技術(shù)方面開展了長(zhǎng)期研發(fā)創(chuàng)新,要緊包括微光學(xué)元器件開發(fā)、納米精度光機(jī)結(jié)構(gòu)研發(fā)、-軸運(yùn)動(dòng)操縱技術(shù)、C影像檢測(cè)處理技術(shù)、海量圖形數(shù)據(jù)處理和傳輸技術(shù)等，為本項(xiàng)目開發(fā)積存了大量核心和關(guān)鍵技術(shù)。依托單位是本行業(yè)內(nèi)惟一建有國(guó)家工程研究中心“”數(shù)碼激光成像與顯示國(guó)家地點(diǎn)聯(lián)合工程研究中心（國(guó)家發(fā)改委批準(zhǔn)，201年），表明了行業(yè)領(lǐng)先地位。目前,我國(guó)唯一個(gè)有大面積（微納金屬模具制備能力、能夠?qū)崿F(xiàn)大尺寸納米尺度圖形掩模、配套納米壓印全制程、擁有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),目前支持4”尺寸微納透明導(dǎo)電材料。依托單位在微納制造裝備的

25、應(yīng)用基礎(chǔ)研究、技術(shù)創(chuàng)新、材料研發(fā)和高端裝備研制方面,形成了完整的創(chuàng)新鏈,并已在多個(gè)產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)規(guī)模應(yīng)用。本項(xiàng)目通過(guò)國(guó)家重大863專項(xiàng)的支持，差不多完成了技術(shù)攻關(guān)，立即進(jìn)入產(chǎn)業(yè)化時(shí)期。在激光直寫和加工技術(shù)領(lǐng)域,獲得發(fā)明專利授權(quán)16項(xiàng)：專利名稱專利號(hào)光學(xué)加工系統(tǒng)和方法Z 21210114482.4光學(xué)加工系統(tǒng)和方法L201206397.3光學(xué)加工系統(tǒng)和方法Z 011076272.0一種步進(jìn)式光學(xué)加工系統(tǒng)和加工方法ZL 1103372.一種透明導(dǎo)電膜及其制作方法010033228.9一種光刻裝置和光刻方法ZL 2010150378.X一種金屬母板的制作方法L 201010287223一種導(dǎo)光膜制作裝置Z

26、210224293一種卷對(duì)卷紫外納米壓印裝置及方法ZL 20124532.5并行光刻直寫系統(tǒng) 2101179784用于紫外激光干涉光刻直寫系統(tǒng)的光學(xué)鏡頭ZL2009102897.多視角圖形輸入的三維圖形直寫方法ZL2009128296.7一種彩色濾光片的制作方法與裝置ZL 2008101237112一種周密數(shù)字化微納米壓印的方法L2000132387.6對(duì)光滑表面進(jìn)行微米結(jié)構(gòu)光刻蝕的方法及裝置ZL 206007797.8衍射光變圖像的高速激光直寫方法和系統(tǒng)L 20510977.受理發(fā)明專利17項(xiàng)。專利名稱申請(qǐng)?zhí)栆环N導(dǎo)光膜制作裝置PCCN2010/7973APPARATS F MANFACURI

27、G LIHT GIDE FIMUS15820一種紫外固化微納米結(jié)構(gòu)拼版裝置及拼版工藝20310152954.X三維激光打印方法與系統(tǒng)20131041.分束器件、多光束干涉光路系統(tǒng)201323423.納米圖形化襯底制備裝置與方法20110236124.5一種標(biāo)簽簽注方法與系統(tǒng)03129100.連續(xù)可調(diào)結(jié)構(gòu)光照明的超分辨顯微成像方法與系統(tǒng)PCT/CN2013/08883超薄觸控傳感器及其制作方法2011007667.一種三維碼及其制作方法20141403一種激光直寫系統(tǒng)與光刻方法2014100421119一種變色燙印膜及其制造方法201410688.X掩膜版及其制備方法和圖形化方法14022472

28、.8彩色動(dòng)態(tài)圖的激光打印裝置及方法4104.2一種無(wú)掩膜激光直寫疊加曝光方法201461284.6一種多視角像素指向型背光模組及裸眼3D顯示裝置20141085242.基于大面積多臺(tái)階二元光學(xué)元件的激光直寫方法201510012577軟件著作權(quán)項(xiàng):登記號(hào)軟件名稱01SR3719基于XF的并行激光直寫加工圖形處理軟件V1.211SR17基于Diect的空間光調(diào)制器圖形發(fā)生軟件1.0011SR0165蘇大維格頻閃曝光直寫系統(tǒng)20R017923HloMakerI StemV10獲獎(jiǎng)清單如下:項(xiàng)目名稱獎(jiǎng)勵(lì)名稱獲批時(shí)刻大幅面微納圖形制造技術(shù)及產(chǎn)業(yè)化應(yīng)用國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)01112卷對(duì)卷納米壓印關(guān)鍵技術(shù)及

29、應(yīng)用江蘇省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步一等獎(jiǎng)20122面向微納柔性制造的創(chuàng)新工程江蘇省企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新獎(jiǎng)202.衍射光變圖像高速制作方法與系統(tǒng)中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)010.1微光變圖像的激光直寫方法及裝置中國(guó)專利優(yōu)秀獎(jiǎng)02.1寬幅智能激光SM光刻系統(tǒng)與應(yīng)用江蘇省科學(xué)技術(shù)進(jìn)步一等獎(jiǎng)208.5亞波長(zhǎng)光學(xué)制造技術(shù)研究與應(yīng)用教育部科學(xué)技術(shù)進(jìn)步二等獎(jiǎng)00.一種消色差變色銀衍射圖像的制作方法江蘇省專利金獎(jiǎng)2011.12微結(jié)構(gòu)制造的高效光刻技術(shù)與應(yīng)用教育部技術(shù)發(fā)明二等獎(jiǎng)2009.(二）產(chǎn)學(xué)研合作情況“十二五”期間，在國(guó)家高技術(shù)研究(63打算）打算重大項(xiàng)目、國(guó)家自然基金重點(diǎn)項(xiàng)目的資助下,蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司與相關(guān)業(yè)內(nèi)企業(yè)和高

30、校協(xié)同合作，攻克了“微納柔性制造工藝裝備”、“3D成像納米印刷技術(shù)”、“彩色全息顯示的基礎(chǔ)問(wèn)題”方面關(guān)鍵基礎(chǔ)問(wèn)題和技術(shù)難題，取得國(guó)內(nèi)外矚目的重大成果，引起國(guó)內(nèi)外同行的高度關(guān)注。第一，前瞻性重大技術(shù)創(chuàng)新取得突破。從原理上,現(xiàn)有的技術(shù)手段（如金剛石加工僅能加工柱光柵膜的模具）不能加工全息原理的裸眼D顯示,必須突破納米加工技術(shù)瓶頸。蘇大維格在高端微納裝備及關(guān)鍵技術(shù)方面取得重大研究進(jìn)展,在國(guó)際上領(lǐng)先實(shí)現(xiàn)“四獨(dú)立變量微納結(jié)構(gòu)快速制造”、“大幅面微納混合光刻”等新技術(shù)方法,研發(fā)成功“納米級(jí)制造設(shè)備”，使得中國(guó)在“大幅面微納結(jié)構(gòu)制造”方面擁有了自主高端裝備。先后獲國(guó)家科技進(jìn)步二等獎(jiǎng)（201）、江蘇省科技一等

31、獎(jiǎng)(211）和中國(guó)專利獎(jiǎng)(200)。因此,在納米加工設(shè)施、知識(shí)產(chǎn)權(quán)方面,為本項(xiàng)建議任務(wù)提供關(guān)鍵手段支撐。第二，需求牽引的組織模式創(chuàng)新。通過(guò)運(yùn)行機(jī)制的創(chuàng)新，納米技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室走向產(chǎn)業(yè)應(yīng)用,形成上下游的創(chuàng)新鏈，協(xié)同產(chǎn)業(yè)和高校共同推進(jìn)在納米印刷(D圖像印刷)、柔性電子(微結(jié)構(gòu)透明導(dǎo)電膜）、平板顯示(超薄導(dǎo)光板)的產(chǎn)業(yè)應(yīng)用,并取得重大進(jìn)展，培育了家上市公司(212年上市)和5家國(guó)家高新技術(shù)企業(yè)。從基礎(chǔ)環(huán)節(jié)創(chuàng)新、整個(gè)過(guò)程的技術(shù)工藝創(chuàng)新,直至推進(jìn)產(chǎn)業(yè)應(yīng)用,探究了產(chǎn)業(yè)鏈創(chuàng)新的成功路徑,為取得顛覆性重大目標(biāo)產(chǎn)品提供了組織上經(jīng)驗(yàn)。第三,以重大任務(wù)（目標(biāo)產(chǎn)品）為目標(biāo)的創(chuàng)新能力建設(shè)。蘇大維格公司組建了“國(guó)家地點(diǎn)聯(lián)合工

32、程研究中心”（數(shù)碼激光成像顯示)(國(guó)家發(fā)改委2011年批準(zhǔn)),0平米研發(fā)場(chǎng)所,1萬(wàn)平米中試平臺(tái)。在重大目標(biāo)產(chǎn)品的取得突破，得到同行專家、領(lǐng)導(dǎo)和市場(chǎng)高度評(píng)價(jià)。華為科技、京東方科技、龍騰光電、蘇大維格光電等一批企業(yè)具備合作推進(jìn)裸眼D顯示關(guān)鍵技術(shù)和部件研制的基礎(chǔ)能力。 為今后以重大任務(wù)位目標(biāo)的組織實(shí)施,提供了更好的創(chuàng)新平臺(tái)和產(chǎn)業(yè)合作基礎(chǔ)。第四、培養(yǎng)一支敢于承擔(dān)風(fēng)險(xiǎn)和奉獻(xiàn)、能承擔(dān)重大任務(wù)的團(tuán)隊(duì)。通過(guò)協(xié)同合作和體制機(jī)制改革,培養(yǎng)了一支高素養(yǎng)的團(tuán)隊(duì),團(tuán)隊(duì)成員以中青年成員為主,包括國(guó)家83打算重大項(xiàng)目首席專家,千人打算人才、海外特聘教授和國(guó)內(nèi)杰出年輕人才構(gòu)成的充滿活力創(chuàng)新與創(chuàng)新混合的團(tuán)隊(duì)。在“裸眼3D顯示的

33、基礎(chǔ)問(wèn)題”,“納米結(jié)構(gòu)D成像原理”、“納米導(dǎo)光板研究”方面做了大量工作,敢于突破和自主創(chuàng)新。（三)已完成的研究開發(fā)工作及中試情況和鑒定年限、依照不同的行業(yè)應(yīng)用需求和加工的尺度不同，已完成四種類型樣機(jī)的研發(fā):（）、高速激光圖形直寫光刻裝備應(yīng)用樣機(jī)：Graphe系列iGraph專門用于周密電路、光掩模（光罩MAS)、微納結(jié)構(gòu)無(wú)掩模光刻的“高端激光直寫設(shè)備（UV lepattern generaor）。幅面：8英寸-英寸,應(yīng)用9m-130m節(jié)點(diǎn)(022m-0.5光學(xué)分辨率）柔性電路和光掩膜板制備。iGaphe突破了一系列關(guān)鍵難題技術(shù),實(shí)現(xiàn)了上述大幅面微圖形高速直寫功能，對(duì)光掩模文件、集成電路文件全兼

34、容。irapher采納高速空間光調(diào)制器(patial ligtmodulaio）,陣列圖形輸入模式(可達(dá)k幀）， 3導(dǎo)航飛行曝光(3 avgtion fiexposure)、納秒時(shí)序平鋪曝光（prallelsm、 nanosecn attrng)技術(shù)，專用于光掩模、柔性電子的微圖形（線寬1um-10um）、LIGA工藝、微納模具的高效光刻。(2)、多功能微圖形光刻設(shè)備工程樣機(jī)：icolbMicoLab0是一款適應(yīng)微結(jié)構(gòu)圖形光刻的名副事實(shí)上的小型微加工實(shí)驗(yàn)室，系統(tǒng)操作方便在微納結(jié)構(gòu)功能器件、生物與微納界面作用（微流控、基因芯片、探針）和光電子、微光學(xué)等研究中,icroLab是一種理想的、高性價(jià)比

35、的微加工手段。尤其適合于小尺寸周密掩膜、GH、微光學(xué)器件、光束整形、MEMS、衍射與折射光學(xué)陣列的研制。MicroLab100支持灰度光刻grayscale lthogaphy，拖曳曝光(形狀光闌積分曝光)l agging,圖形化arllel paterning,3形貌等高級(jí)加工，比如,閃耀槽型、微透鏡陣列、多臺(tái)階圖形、點(diǎn)陣圖形等,支持薄膠和厚膠工藝。支持DXF,GDSI，位圖文件。只要有差不多計(jì)算機(jī)背景和圖像知識(shí),適當(dāng)培訓(xùn)后，就能夠上機(jī)操作。支持24小時(shí)不間斷運(yùn)行，運(yùn)行成本低，占地平方米,差不多免維護(hù)。適合于科學(xué)研究、研究生培養(yǎng)之用途。(3)、大幅面微納金屬模具激光加工設(shè)備工程樣機(jī):igae

36、r大幅面激光周密微加工設(shè)備，用于超薄TV背光源金屬模具制備?？蓪?shí)現(xiàn)幅面150寸。大尺寸周密導(dǎo)光板的模具光學(xué)性能為業(yè)內(nèi)做好水平，周密模具加工設(shè)備與工藝成熟度得到充分驗(yàn)證，加工的超薄導(dǎo)光板的光學(xué)效率、導(dǎo)光均齊度為業(yè)內(nèi)最高水準(zhǔn)。性能參數(shù)：最小微結(jié)構(gòu)尺寸15激光光源:HYPERLINK N:整理后mailt:10kH0W3kHz0機(jī)臺(tái)：花崗石機(jī)臺(tái)光學(xué)頭單次掃描面積：0mm10mm 15mxm加工速率：-小時(shí)（不同模具尺寸和光學(xué)網(wǎng)點(diǎn)）運(yùn)動(dòng)平臺(tái):直線電機(jī)驅(qū)動(dòng)定位精度：0.1m行程：依照型號(hào)確定軟件:光學(xué)設(shè)計(jì)文檔格式,或*.DXF；RR配套:整套網(wǎng)點(diǎn)設(shè)計(jì)和處理工藝(4）、激光動(dòng)態(tài)圖形簽注系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了不需要位移

37、和旋轉(zhuǎn)的3D動(dòng)態(tài)圖形的實(shí)時(shí)簽注方法和關(guān)鍵技術(shù)。采納曲面擴(kuò)散片實(shí)現(xiàn)3D動(dòng)態(tài)圖像簽注的景深變化，實(shí)現(xiàn)簽注的動(dòng)態(tài)聚焦，同時(shí)設(shè)計(jì)不同棱角位置與棱角鍥角,通過(guò)軟件操縱記錄圖形的位置，分不對(duì)應(yīng)在相應(yīng)鍥形棱鏡位置，一次性簽注將能獲得不同再現(xiàn)視角的角度與方向的效果。簽注效率高,適合工程化應(yīng)用。能夠同時(shí)滿足變景深、多視角簽注的要求,提高了簽注圖形技術(shù)門檻。圖形簽注僅需5秒至1秒，能滿足激光簽注的工程化應(yīng)用。在工業(yè)化應(yīng)用方面,可應(yīng)用在銀行卡、護(hù)照、等證卡的個(gè)性化序列號(hào)和動(dòng)態(tài)圖形的簽注,號(hào)牌激光安全防偽簽注,食品安全三維碼溯源簽注技術(shù)等公共安全領(lǐng)域上。、完成場(chǎng)地建設(shè)：2000平方米場(chǎng)地。（1)、機(jī)械部件裝配間（2）

38、、電氣部件裝配間(3）、總裝調(diào)試間（)、部件、材料、成品倉(cāng)庫(kù)(5）、職員培訓(xùn)室（6)、生產(chǎn)調(diào)度室鑒定年限:本項(xiàng)目的鑒定年限為207年3 月。（四）技術(shù)或工藝特點(diǎn)以及與現(xiàn)有技術(shù)或工藝比較所具有的優(yōu)勢(shì)技術(shù)特點(diǎn)：（1)攻克了空間-位相調(diào)制的圖形化技術(shù),微米-納米混合光場(chǎng)調(diào)制,從而能實(shí)現(xiàn)/4結(jié)構(gòu)分辨率的國(guó)際領(lǐng)先水平(在355波長(zhǎng)下，實(shí)現(xiàn)100nm結(jié)構(gòu))；()納秒時(shí)序3D導(dǎo)航飛行曝光，實(shí)現(xiàn)大面積微納米結(jié)構(gòu)的快速光刻，定位精度達(dá)到20n;（3)海量數(shù)據(jù)處理和直寫軟件與硬件技術(shù)；支持40TB的數(shù)據(jù)處理。（4）46軸的納米精度操縱技術(shù);()微納功能材料加工的工藝:力圖在國(guó)際上領(lǐng)先實(shí)現(xiàn)3D納米印刷技術(shù),為柔性材

39、料功能化提供關(guān)鍵技術(shù)手段。在應(yīng)用工藝上，重點(diǎn)攻克在顯示、新型照明和觸控傳感材料低成本制造技術(shù),推進(jìn)行業(yè)合作和潛在重大應(yīng)用，與相關(guān)產(chǎn)業(yè)（例如華為）共同研發(fā)攻關(guān)“微納米結(jié)構(gòu)手機(jī)功能”光刻工藝研究。技術(shù)先進(jìn)性優(yōu)勢(shì)：、微納直寫光刻與加工設(shè)備，綜合了微納光學(xué)、周密機(jī)械、數(shù)控電氣、納米精度操縱，利用計(jì)算機(jī)或工作站進(jìn)行-軸的光機(jī)電聯(lián)合操縱,高端技術(shù)的集成度高，設(shè)備自動(dòng)化化運(yùn)行,屬于高端智能裝備。、該類加工裝備，加工宏觀尺寸達(dá)到米級(jí),微結(jié)構(gòu)的尺寸達(dá)到亞微米級(jí),部件運(yùn)行精度、數(shù)據(jù)分辨率定義,均需達(dá)到10納米以下級(jí)不，實(shí)現(xiàn)大幅面、微結(jié)構(gòu)、高精度特征的統(tǒng)一。3、海量數(shù)據(jù)：以0.1微米分辨率電路為例，20mm00m的

40、電路的數(shù)據(jù)量為4.0B， 一幅600m100電路數(shù)據(jù)達(dá)0b，因此,這種周密電路圖形的海量處理技術(shù)和軟件、數(shù)據(jù)傳輸與壓縮、光電轉(zhuǎn)換和光刻模式等,具有極高難度。、微納直寫光刻與加工設(shè)備，是多行業(yè)生產(chǎn)工藝流程中的關(guān)鍵核心裝備，用于提供光掩模板、微米線寬電路制備與模板、或進(jìn)行直接圖形結(jié)構(gòu)加工,比如超薄導(dǎo)光板模具，是微納功能材料（裸眼D顯示、柔性電路、觸控）、器件（背光源等）等行業(yè)不可缺少的工具。工藝優(yōu)勢(shì):本項(xiàng)目申請(qǐng)單位，長(zhǎng)期從事微納制造領(lǐng)域的研發(fā)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化，尤其在超周密大幅面光刻直寫等裝備制造方面具有10余年的工藝積存，公司是我國(guó)唯一個(gè)有整套微納米柔性制造產(chǎn)線的企業(yè),具有國(guó)際領(lǐng)先水平。國(guó)內(nèi)外同行和專

41、家參觀后給予充分欣賞和確信，為此，公司曾承擔(dān)了國(guó)家863打算和電子進(jìn)展基金等項(xiàng)目，并圓滿完成。在微納周密制造領(lǐng)域,項(xiàng)目申請(qǐng)單位無(wú)疑在國(guó)內(nèi)同行中具有領(lǐng)先地位,并在國(guó)外同行中具有阻礙。工藝設(shè)備上:申請(qǐng)單位是我國(guó)唯一的具有獨(dú)立研制“高端激光直寫光刻與納米壓印設(shè)備”企業(yè)，厚膠曝光設(shè)備(800mx130mm），擁有自主研發(fā)的“大型紫外激光直寫設(shè)備”（irher82-150,0mmx130mm)，支持5.5代線光掩模板的制備，在光刻分辨率、和綜合寫入速率等,具有國(guó)際同行的先進(jìn)水準(zhǔn)。圖4 高端裝備實(shí)驗(yàn)場(chǎng)地國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)環(huán)境的進(jìn)展,對(duì)高端微納裝備具有大量的需求；與國(guó)外企業(yè)相比，在技術(shù)溝通、服務(wù)響應(yīng)能力方面具有優(yōu)勢(shì);

42、國(guó)內(nèi)還缺乏微納裝備企業(yè)，維格公司掌握了核心技術(shù)，擁有人才團(tuán)隊(duì),依托于“國(guó)家地點(diǎn)聯(lián)合工程研究中心”,維格公司具有高端裝備產(chǎn)業(yè)化的優(yōu)勢(shì)。圖5國(guó)家地點(diǎn)聯(lián)合工程中心配套生產(chǎn)條件（五）重大關(guān)鍵技術(shù)突破對(duì)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步的重要意義和作用我國(guó)的信息顯示、光電子等行業(yè)已有專門大的產(chǎn)業(yè)基礎(chǔ),江蘇省納米產(chǎn)業(yè)在全國(guó)具有優(yōu)勢(shì)地位?！笆濉逼陂g，江蘇省大力進(jìn)展戰(zhàn)略新興產(chǎn)業(yè)，重點(diǎn)進(jìn)展新能源、新材料、高端制造、生物技術(shù)和新醫(yī)藥、節(jié)能環(huán)保和新一代信息技術(shù)等六大新興產(chǎn)業(yè)。在這些產(chǎn)業(yè)中,新型顯示、固體照明、納米印刷與柔性光電子等是國(guó)家中長(zhǎng)期科技進(jìn)展規(guī)劃、江蘇省科技規(guī)劃中的重點(diǎn)進(jìn)展領(lǐng)域，與“柔性微納材料與制造技術(shù)”緊密相關(guān)。蘇州工業(yè)

43、園區(qū)布局了國(guó)際科技園、蘇州納米城等載體,提供了孵化等系列服務(wù)，是蘇州納米技術(shù)產(chǎn)業(yè)化基地。蘇州納米城將占地約10公頃,規(guī)劃建筑面積約30萬(wàn)平方米，于200年1月啟動(dòng)建設(shè)，重點(diǎn)進(jìn)展納米新材料、納米光電子、微納制造、納米生物醫(yī)藥和納米環(huán)保等五大產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域,以構(gòu)建產(chǎn)業(yè)生態(tài)圈。蘇大維格在高端微納裝備上的自主研發(fā)能力,無(wú)疑提高了自身的競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)和可持續(xù)進(jìn)展性，差不多不依靠于國(guó)外的設(shè)備限制。為此，國(guó)家、省部相關(guān)領(lǐng)導(dǎo)和業(yè)內(nèi)專家多次視察和調(diào)研本項(xiàng)目申請(qǐng)單位的高端裝備和平板顯示關(guān)鍵器件的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化進(jìn)展和做法。國(guó)家發(fā)改委副主任朱之鑫、工信部副部長(zhǎng)蘇波、科技部副部長(zhǎng)曹健林等重要領(lǐng)導(dǎo)視察后,均給予充分確信和鼓舞。 國(guó)家發(fā)

44、改委的祁司長(zhǎng)等領(lǐng)導(dǎo)視察,對(duì)申請(qǐng)單位在高端微納光刻設(shè)備和平板顯示領(lǐng)域研發(fā)創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)化給予確信。工信部蘇波部長(zhǎng)考察蘇大維格人大副委員長(zhǎng)視察蘇大維格并題詞 科技部曹健林副部長(zhǎng)視察維格公司圖6 領(lǐng)導(dǎo)確信四、項(xiàng)目建設(shè)方案項(xiàng)目建設(shè)的要緊內(nèi)容、建設(shè)規(guī)模、采納的工藝路線與技術(shù)特點(diǎn)、設(shè)備選型及要緊技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)、產(chǎn)品市場(chǎng)預(yù)測(cè)、建設(shè)地點(diǎn)、建設(shè)周期和進(jìn)度安排、建設(shè)期治理等。(一）建設(shè)的要緊內(nèi)容、建設(shè)規(guī)模面向平板顯示和大尺寸電容觸控屏、周密柔性電路、周密PCB及封裝、MEMS、公共安全、科研等不同行業(yè)應(yīng)用，用3年時(shí)刻建設(shè)達(dá)產(chǎn)業(yè)化時(shí)期,開發(fā)出相對(duì)應(yīng)的、具有國(guó)際先進(jìn)水平及滿足工廠產(chǎn)業(yè)需求的微納加工裝備，完成四種型號(hào)設(shè)備的研

45、發(fā)及產(chǎn)業(yè)化：1、大幅面掩模版制版光刻設(shè)備:大型紫外高速圖形化直寫設(shè)備,用于5英寸以上平板顯示、大尺寸電容觸控屏生產(chǎn)用掩模版制備。要緊技術(shù)指標(biāo):典型線寬um,圖形化光刻速度4000m2/。2、MEM、封裝光刻機(jī):中小型紫外圖形化直寫設(shè)備，用于68英寸MEM、封裝等工藝制程,可適用于厚膠工藝?？捎糜诳蒲性核钠骷に囇芯亢托∨恐苽?。要緊技術(shù)指標(biāo)：典型線寬1um,周密圖形的光刻速度50mm/in，可適用厚膠光刻工藝大于1um。3、周密柔性電路、PC無(wú)掩模光刻機(jī)：高速無(wú)掩模曝光機(jī)，用于下一代0um以下周密電路生產(chǎn)。要緊技術(shù)指標(biāo)：最小線寬5um，光刻速度大于20000m/in。、背光模具光刻機(jī):大幅面

46、激光周密微加工設(shè)備，用于超薄V背光源金屬模具制備。要緊技術(shù)指標(biāo)：導(dǎo)光結(jié)構(gòu)最小尺寸um，加工幅面大于70英寸。建設(shè)期內(nèi)新增場(chǎng)地建設(shè)2000平米，累計(jì)完成銷售1.2億元,利潤(rùn)64萬(wàn)元，稅收1165萬(wàn)元。項(xiàng)目建設(shè)完成后,形成年銷售規(guī)模大于億元的高端微納光刻直寫裝備制造和銷售能力,同時(shí)帶動(dòng)下游相關(guān)應(yīng)用行業(yè),產(chǎn)生10億左右的經(jīng)濟(jì)效益?；诠驹诟叨酥悄苎b備研發(fā)和應(yīng)用的技術(shù)積存，整合資源,合理利用自有和外部資金、人才資源,建立高端成套微納光刻裝備的研發(fā)、產(chǎn)業(yè)化、銷售、服務(wù)條件,面向國(guó)際市場(chǎng)，擴(kuò)充面向多領(lǐng)域的產(chǎn)品線，建設(shè)國(guó)際一流的綜合性微納裝備公司，與德國(guó)Heieberg nsruments、瑞典conic

47、、以色列Orbotc等進(jìn)行市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)，成為國(guó)際微納裝備領(lǐng)域的重要供應(yīng)商。（二）工藝技術(shù)路線與技術(shù)工藝特點(diǎn)1、設(shè)備制造工藝路線：總體方案設(shè)計(jì)光、機(jī)、電分解設(shè)計(jì)設(shè)計(jì)綜合評(píng)審圖紙加工采購(gòu)設(shè)備組裝編程調(diào)試測(cè)試檢驗(yàn)交付。、技術(shù)工藝特點(diǎn):技術(shù)和知識(shí)密集型工藝。無(wú)化學(xué)試劑、無(wú)排放、無(wú)污染。低能耗。場(chǎng)地占用面積小。(三)設(shè)備選型及要緊技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)1、檢測(cè)設(shè)備選型（1)共焦顯微鏡:型號(hào)：奧林巴斯OLS410要緊技術(shù)指標(biāo)：最高橫向分辨率0.12m、縱向分辨率nm。(2)激光干涉儀型號(hào)：雷尼紹XL80要緊技術(shù)指標(biāo)：線性測(cè)量精度0.5pp、分辨率1nm。(3)激光功率計(jì)型號(hào)：VegaA30A要緊技術(shù)指標(biāo)：103w/20

48、mw-0w（4)自動(dòng)圖形檢測(cè)儀型號(hào):I712要緊技術(shù)指標(biāo):檢測(cè)分辨率0.m;檢測(cè)速度0.19 sc/ cm2。（）掃描電鏡型號(hào)：Sigma/V要緊技術(shù)指標(biāo):分辨率.3n 2V、1515K、 2.8nm KV。2、技術(shù)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)（依舊要補(bǔ)充一下技術(shù)指標(biāo)）：(）技術(shù)指標(biāo)：1、大幅面掩模版制版光刻設(shè)備:要緊技術(shù)指標(biāo):典型線寬2,圖形化光刻速度4000m2min。、MEM、封裝光刻機(jī):要緊技術(shù)指標(biāo)：典型線寬1u,周密圖形的光刻速度50mm2/min,可適用厚膠光刻工藝大于10um。3、周密柔性電路、CB無(wú)掩模光刻機(jī)：要緊技術(shù)指標(biāo)：最小線寬um，光刻速度大于2000m2n。4、背光模具光刻機(jī)：要緊技術(shù)指標(biāo)

49、:導(dǎo)光結(jié)構(gòu)最小尺寸5um,加工幅面大于70英寸。（2)經(jīng)濟(jì)指標(biāo)項(xiàng)目面向不同行業(yè)市場(chǎng)需求,完成四種型號(hào)的高端微納制造裝備的研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化，執(zhí)行期內(nèi)累計(jì)完成銷售額125億元，凈利潤(rùn)，665萬(wàn)元，稅收15萬(wàn)元。(四）產(chǎn)品市場(chǎng)預(yù)測(cè)國(guó)內(nèi)市場(chǎng)：（1）高?？蒲性核脱芯拷Y(jié)構(gòu)，各大測(cè)試加工平臺(tái)。目前差不多成功推廣的代表性客戶有哈工大、南開大學(xué)、蘇州大學(xué)、中科院納米所、上海通用識(shí)不研究所等。而近年來(lái),隨著各大高校和研究機(jī)構(gòu)對(duì)微納學(xué)科加大投入，本項(xiàng)目將有更大的應(yīng)用市場(chǎng)替代國(guó)外進(jìn)口設(shè)備。（2）企業(yè):由于目前國(guó)內(nèi)的企業(yè)升級(jí)轉(zhuǎn)型自身的進(jìn)展需求，也在研發(fā)與測(cè)試儀器上加大了投入,同時(shí),企業(yè)端的客戶認(rèn)證需要,對(duì)產(chǎn)品本身的測(cè)試要

50、求提升。例如，在平板顯示行業(yè)，需要對(duì)各類材料的表面結(jié)構(gòu)形貌的參數(shù)進(jìn)行測(cè)量,在微加工行業(yè),需要對(duì)加工的微結(jié)構(gòu)的尺寸進(jìn)行標(biāo)定。據(jù)預(yù)測(cè),僅國(guó)內(nèi)就有數(shù)百臺(tái)的市場(chǎng)需求。為此,本項(xiàng)目會(huì)依照客戶對(duì)儀器設(shè)備的具體要求，開發(fā)不同類型的儀器。確保能夠滿足行業(yè)應(yīng)用需求，替代進(jìn)口。國(guó)外市場(chǎng)：由于前期本公司差不多開展了儀器設(shè)備產(chǎn)品開發(fā)工作,通過(guò)市場(chǎng)的反饋能夠看出，由于各國(guó)都將微納制造作為重點(diǎn)進(jìn)展的領(lǐng)域,國(guó)外專門多高校、企業(yè)都對(duì)本公司現(xiàn)有的納米圖形化儀器表現(xiàn)出高度關(guān)注。目前,現(xiàn)有的儀器設(shè)備差不多出口日本、韓國(guó)、以色列的企業(yè),作為研究工具。由于本公司在這方面領(lǐng)先的技術(shù)基礎(chǔ)以及有力的價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì),國(guó)外市場(chǎng)也將作為今后本項(xiàng)目的

51、目標(biāo)市場(chǎng)。項(xiàng)目目標(biāo)產(chǎn)品采取部分型號(hào)市場(chǎng)推廣，部分型號(hào)提供給合作公司新興產(chǎn)業(yè)應(yīng)用方向進(jìn)行產(chǎn)品培育的模式。合作公司的光導(dǎo)膜、大尺寸電容觸摸屏等產(chǎn)品，當(dāng)前服務(wù)的企業(yè)大于0家。公司的技術(shù)積存和新品以及開發(fā)能力得到合作企業(yè)的好評(píng)和認(rèn)可，并與業(yè)內(nèi)一批企業(yè)形成長(zhǎng)期緊密合作關(guān)系。圖7 行業(yè)合作(五）建設(shè)地點(diǎn)、建設(shè)周期和進(jìn)度安排、建設(shè)期治理等1、建設(shè)地點(diǎn):建設(shè)地點(diǎn)位于蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司新廠區(qū)(蘇州工業(yè)園區(qū)新昌路6號(hào))。公司在蘇州工業(yè)園區(qū)擁有110畝建設(shè)用地。目前,建有4.萬(wàn)平米廠房。其中,本項(xiàng)目前期投入已建設(shè)了00平米廠房,擬增加面積200平米凈化面積。其中,黃光凈化區(qū)10平米、檢測(cè)面積500平米

52、。 圖8 項(xiàng)目已建設(shè)場(chǎng)地、建設(shè)工期和進(jìn)度安排:項(xiàng)目完成期限:自項(xiàng)目下達(dá)之日起年內(nèi)完成。進(jìn)度安排:第一年,完成4套工程樣機(jī)制造,二臺(tái)為紫外高速圖形直寫光刻設(shè)備，另二臺(tái)為532nm綠光，大功率微納直接加工設(shè)備。以這些樣機(jī)作為實(shí)驗(yàn)平臺(tái),用于設(shè)備應(yīng)用開發(fā)的性能測(cè)試與驗(yàn)證、產(chǎn)品市場(chǎng)展示與應(yīng)用,以及各個(gè)功能模塊的研發(fā)。建立高水平專業(yè)銷售團(tuán)隊(duì),儲(chǔ)備人才隊(duì)伍。公司現(xiàn)有微納光刻設(shè)備產(chǎn)品,本年度實(shí)現(xiàn)銷售20萬(wàn)元。第二年,持續(xù)開拓新市場(chǎng)，開發(fā)面向-4個(gè)行業(yè)的微納光刻設(shè)備。建立完整的設(shè)備銷售、量產(chǎn)和服務(wù)團(tuán)隊(duì)，實(shí)現(xiàn)設(shè)備在周密柔性電路、大尺寸液晶面板背光源等行業(yè)應(yīng)用,實(shí)現(xiàn)銷售大于400萬(wàn)元。第三年,開拓TFT掩模版、ME

53、MS等行業(yè),實(shí)現(xiàn)高端光刻設(shè)備的規(guī)模化量產(chǎn)，實(shí)現(xiàn)銷售收入大約600萬(wàn)元。項(xiàng)目建設(shè)完成后，形成年銷售規(guī)模大于1億元的高端微納光刻直寫裝備制造和銷售能力,同時(shí)帶動(dòng)下游相關(guān)應(yīng)用行業(yè),產(chǎn)生10億左右的經(jīng)濟(jì)效益。、建設(shè)期治理：公司已通過(guò)ISO 9001質(zhì)量治理體系認(rèn)證和IO141環(huán)境治理體系認(rèn)證。產(chǎn)品涉及大尺寸觸控屏、光掩模版、高端裝備、國(guó)家公共安全證卡和包裝印刷。公司地處中國(guó)-新加坡合作的蘇州工業(yè)園區(qū)科教創(chuàng)新區(qū)，因此,公司對(duì)產(chǎn)品品質(zhì)與原材料環(huán)保極其關(guān)注，有嚴(yán)格的質(zhì)量保障和檢測(cè)體系,購(gòu)置了先進(jìn)的檢測(cè)儀器,建有凈化車間和檢測(cè)分析實(shí)驗(yàn)室，在原料、生產(chǎn)制程與過(guò)程管控等各個(gè)環(huán)節(jié)均建立了環(huán)保操縱程序。項(xiàng)目實(shí)施將嚴(yán)格

54、按照質(zhì)量治理體系建立標(biāo)準(zhǔn)化工藝流程。建立項(xiàng)目責(zé)任人以及項(xiàng)目進(jìn)展報(bào)告制度。關(guān)于項(xiàng)目工程建設(shè)嚴(yán)格執(zhí)行“四制”,即法人責(zé)任制、工程監(jiān)理制、項(xiàng)目招投標(biāo)制、項(xiàng)目合同制。本項(xiàng)目的建設(shè)將按照公司現(xiàn)有質(zhì)量及環(huán)保體系嚴(yán)格治理。五、項(xiàng)目投資項(xiàng)目總投資規(guī)模，資金來(lái)源及籌措方案、投資使用方案、貸款償還打算。(一）項(xiàng)目總投資規(guī)模、資金來(lái)源、投資使用方案本項(xiàng)目總投資1000萬(wàn)元，前期已投入00萬(wàn)元企業(yè)自籌資金（包括基建和裝配車間，部分樣機(jī)設(shè)備紫外激光直寫光刻設(shè)備、激光簽注設(shè)備、掃描光刻設(shè)備等)。類不投資額（萬(wàn)元)設(shè)備10基礎(chǔ)建設(shè)(廠房、配電、污水、道路、裝修)727原材料2試制費(fèi)940合計(jì)20新增投資800萬(wàn)元,為企業(yè)自

55、籌資金投入。申請(qǐng)專項(xiàng)經(jīng)費(fèi)補(bǔ)助00萬(wàn)元。類不金額(萬(wàn)元)建筑工程費(fèi)(凈化)110設(shè)備購(gòu)置及試制費(fèi)70其他工程和費(fèi)用200鋪底流淌資金5000合計(jì)800附:要緊設(shè)備購(gòu)置清單萬(wàn)元序號(hào)設(shè)備名稱設(shè)備型號(hào)擬引進(jìn)國(guó)不單價(jià)臺(tái)數(shù)總價(jià)1共焦顯微鏡lext4000 日本 751402激光干涉儀xl80 英國(guó)1002203激光功率計(jì)VA 以色列 204自動(dòng)圖形檢測(cè)儀laser x0 日本 10110005掃描電鏡zeis EiGMA 日本 3001300合計(jì)1160(二)資金籌措方案項(xiàng)目總投資10萬(wàn)元,前期企業(yè)自籌已投入2000萬(wàn)元。新增投資0萬(wàn)元,來(lái)源于公司自籌資金。申請(qǐng)專項(xiàng)經(jīng)費(fèi)補(bǔ)助2000萬(wàn)元。公司自籌資金來(lái)源于

56、公司自有資金和利潤(rùn)積存的再投入，公司股東會(huì)議一致通過(guò)該項(xiàng)出資方案。六、項(xiàng)目財(cái)務(wù)分析、經(jīng)濟(jì)分析及要緊指標(biāo)內(nèi)部收益率、投資利潤(rùn)率、投資回收期、貸款償還期等指標(biāo)的計(jì)算和評(píng)估，項(xiàng)目風(fēng)險(xiǎn)分析,經(jīng)濟(jì)效益和社會(huì)效益分析。（一)財(cái)務(wù)分析生產(chǎn)和銷售預(yù)測(cè): 單位：(萬(wàn)元)年度第一年第二年第三年第四年第五年合計(jì)年銷售量（套)505085306銷售單價(jià)(未稅）50.00812515161014銷售收入(未稅）25006001,0015,007,50000生產(chǎn)成本1,52.02,92.4,07056882117.2主營(yíng)業(yè)務(wù)稅金及附加265341633期間費(fèi)用1，0.012001000002007700其中：營(yíng)業(yè)100102000治理15012001,00.00100010050財(cái)務(wù)0營(yíng)業(yè)利潤(rùn)-457.0581.60,54.0,268204，363.008，25.0項(xiàng)目三年財(cái)務(wù)現(xiàn)金流量表: 萬(wàn)元項(xiàng)目第一年第二年第三年第四