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1、電子科技大學二零一零至二零一一學年第一 學期期 末 考試1對于大注入下的直接輻射復合,非平衡載流子的壽命與(D )A. 平衡載流子濃度成正比C. 平衡載流子濃度成反比B. 非平衡載流子濃度成正比D. 非平衡載流子濃度成反比2有3個硅樣品,其摻雜情況分別是:甲 含鋁110 cm 乙.含硼和磷各110 cm 丙.含鎵110 cm-3-15-3-17-3-17室溫下,這些樣品的電阻率由高到低的順序是(C )A. 甲乙丙 B. 甲丙乙 C. 乙甲丙D. 丙甲乙3題2中樣品的電子遷移率由高到低的順序是( B )4題2中費米能級由高到低的順序是( C )5. 歐姆接觸是指( D )的金屬一半導體接觸A.
2、W = 0msC. W 0B. W 0msD. 阻值較小且具有對稱而線性的伏安特性ms6有效復合中心的能級必靠近( A )A. 禁帶中部B.導帶C.價帶D.費米能級n)pn0n8半導體中載流子的擴散系數(shù)決定于其中的( A )p0A.散射機構(gòu)C.雜質(zhì)濃變梯度B. 復合機構(gòu)D.表面復合速度9MOS 器件絕緣層中的可動電荷是( C )A. 電子 B. 空穴10以下4種半導體中最適合于制作高溫器件的是( D )A. Si B. Ge C. GaAsC. 鈉離子D. 硅離子D. GaN得分二、解釋并區(qū)別下列術語的物理意義(30 分,共4 題)1. 有效質(zhì)量、縱向有效質(zhì)量與橫向有效質(zhì)量(7 分)答:有效質(zhì)
3、量:由于半導體中載流子既受到外場力作用,又受到半導體內(nèi)部周期性勢場作用。有效概括了半導體內(nèi)部周期性勢場的作用,使外場力和載流子加速度直接聯(lián)系起來。在直接由實驗測得的有效質(zhì)量后,可以很方便的解決電子的運動規(guī)律。(3分)k縱向有效質(zhì)量、橫向有效質(zhì)量:由于 空間等能面是橢球面,有效質(zhì)量各向異性,在回旋共振實驗中,當磁感應強度相對晶軸有不同取向時,可以得到為數(shù)不等的吸收峰。我們引入縱向有效質(zhì)量跟橫向有效質(zhì)量表示旋轉(zhuǎn)橢球等能面縱向有效質(zhì)量和橫向有效質(zhì)量。(4分)2. 擴散長度、牽引長度與德拜長度(7 分)答:擴散長度:指的是非平衡載流子在復合前所能擴散深入樣品的平均距離。由擴散系數(shù)和材料非平衡載流子的壽
4、命決定,即L= (2分)牽引長度:指的是非平衡載流子在電場 作用下,在壽命 時間內(nèi)所漂移的距離,即L ( )=(2分)德拜長度:它是徳拜在研究電解質(zhì)表面極化層時提出的理論上的長度,用來描寫正離子的電場所能影響到電子的最遠距離。對于半導體,表面空間電荷層厚度隨襯底摻雜濃度介電常數(shù)、表面電勢等多種因素而改變,但其厚度的數(shù)量級用一個特稱長度德拜長度LD表示。(3分)3. 費米能級、化學勢與電子親和能(8 分)答:費米能級與化學勢:費米能級表示等系統(tǒng)處于熱平衡狀態(tài),也不對外做功的情況下,系統(tǒng)中增加一個電子所引起系統(tǒng)自由能的變化,等于系統(tǒng)的化學勢。處于熱平衡的系統(tǒng)有統(tǒng)一的化學勢。這時的化學勢等于系統(tǒng)的費
5、米能級。費米能級和溫度、材料的導電類型雜質(zhì)含量、能級零點選取有關。費米能級標志了電子填充能級水平。費米能級位置越高,說明較多的能量較高的量子態(tài)上有電子。隨之溫度升高,電子占據(jù)能量小于費米能級的量子態(tài)的幾率下降,而電子占據(jù)能量大于費米能級的量子態(tài)的幾率增大。(6分)電子親和能:表示要使半導體導帶底的電子逸出體外所需的的最小能量。(2分)4. 復合中心、陷阱中心與等電子復合中心(8 分)答:復合中心:半導體中的雜質(zhì)和缺陷可以在禁帶中形成一定的能級,這些能級具有收容部分非平衡載流子的作用,雜質(zhì)能級的這種積累非平衡載流子的作用稱為陷阱效應。把產(chǎn)生顯著陷阱效應的雜質(zhì)和缺陷稱為陷阱中心。(4分)等電子復合
6、中心:在III-V族化合物半導體中摻入一定量與主原子等價的某種雜質(zhì)原子,取代格點上的原子。由于雜質(zhì)原子與主原子之間電性上的差別,中性雜質(zhì)原子可以束縛電子或空穴而成為帶電中心。帶電中心吸引與被束縛載流子符號相反的載流子,形成一個激子束縛態(tài)。這種激子束縛態(tài)叫做等電子復合中心。(4分)得分三、 問答題(共20 分,1010,共二題)1. 如金屬和一p 型半導體形成金屬半導體接觸,請簡述在什么條件下,形成的哪兩種不同電學特性的接觸,說明半導體表面的能帶情況,并畫出對應的I-V10 分)答:在金屬和p 型半導體接觸時,如金屬的功函數(shù)為W , 半導體的功函數(shù)為W 。ms當W W 3 分)sm當W W 3
7、分)sm對應的 I-V曲線分別為:IIVV222.在一維情況下,描寫非平衡態(tài)半導體中載流子(空穴)運動規(guī)律的連續(xù)方程為: Expt2ppxpg ,請說明上述等式兩邊各個單項所代表的物理意 DE px2ppppp10 分)p答: 在 x 處,t 2 分)t p2D2 分)x2p Expx p2 分) Eppp2 分)pg 2 分)p得 分四、 計算題(共 30 分,1515,共 2 題)1 、 有 一 金 屬 與 n 型 S 單 晶 接 觸 形 成 肖 特 基 二 極 管 , 已 知 Wm= , Xs= ,i-3 cm ,N cm 。若忽略表面態(tài)的影響,試計19-315D 10 ,10 C)-1
8、4-190 半導體 Si 的費米能級的位置;(3 分) 在零偏壓時勢壘高度與接觸電勢差;(4 分) 勢壘寬度;(4 分) 在正偏壓為時熱電子發(fā)射電流,設A*/A=, A=120A/cm . (4分)21)由N =n =N可得:D0CE E =K T=(eV)C- F0(2)W =X +(E -E (eV)SSCF所以勢壘高度:qV =W -W 接觸電勢差:V =(eV)DmsD(3)X =d(4)金屬一邊的勢壘高度:q =qV +E =+=(eV)Dn所以在時,J=A*T2-1)120300210 ( )-22.有一金屬板與n型Si相距m =1,ra當金屬端加負電壓時,半導體處于耗盡狀態(tài)。如圖所示。N =10 cm 。16-3D(15分) 求耗盡層內(nèi)電勢的分布V(x);(7分) 當 時的耗盡層寬度 和最大耗盡寬度 的表達式;(8分)XdXdm qN解1)根據(jù)耗盡層近似,空間電荷區(qū)的電荷密度為 (x)= ,故泊松方程可寫為 :D(1)因半導體內(nèi)電場強度為零,并假設體內(nèi)電勢為零,則右邊界條件x x-xx x( ) = - = = 0
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