鍍膜操作員試題庫

鍍膜操作員試題庫.不定項(xiàng)選擇題SiO2料面的哪些因素對(duì)鍍膜曲線有影響？（A、B、D）平整度B.高度C.潔凈度D.硬度真空度的單位有哪些？（A、C、D）A.Pa B.N C.Torr D.mbar用普通加熱工藝鍍膜時(shí)，烘烤的恒溫時(shí)間最少要求是多少？（A）A.20分鐘 B.30分鐘 C.40分鐘 D.50分鐘普通IR膜系，哪兩個(gè)波長(zhǎng)段最容易掉坑？（A、B）A.400nm B.500nm C.600nm D.900nm用分光光度計(jì)檢測(cè)光譜曲線的中心波長(zhǎng)時(shí)，鏡片放傾斜了，則測(cè)量值與真實(shí)值比較，會(huì)（C）A.相等B.偏長(zhǎng)C.偏短D.不一定流程卡表面質(zhì)量＜20um,是指（A）A、點(diǎn)子大小 B點(diǎn)子比例C、點(diǎn)子間隔D、道子寬度穿脫凈化服流程（A）A、 手套一浴帽一凈化帽一凈化服一凈化鞋一口罩B、 浴帽一凈化帽一凈化服一凈化鞋一口罩一手套C、 手套f口罩D、 手套一口罩一浴帽一凈化帽一凈化服一凈化鞋在鍍膜過程中，石英晶振可以顯示以下哪些數(shù)值?（AD）A、蒸發(fā)速率B、蒸發(fā)溫度C、真空度D、膜層厚度材料蒸發(fā)時(shí)，充氧的主要目的有哪些？（AB）A、補(bǔ)充材料失去的氧原子，使材料氧化更充分，降低膜層吸收B、使每次鍍膜時(shí)，真空室內(nèi)的真空狀態(tài)相接近C、使蒸發(fā)更穩(wěn)定D、使控制更精確。鍍膜機(jī)球罩的轉(zhuǎn)動(dòng)架須高速轉(zhuǎn)動(dòng)的目的是（ABCD）A、使同圈的膜層厚度分布均勻B、使內(nèi)外排膜層厚度分布均勻C、使同圈溫度分布均勻D、使內(nèi)外排溫度分布均勻現(xiàn)在我們生產(chǎn)Ir-cut（中心波長(zhǎng)650nm）平板濾色片，從反射看平板的顏色是（A）A、紅色B、綠色C、藍(lán)色D、沒有規(guī)律油擴(kuò)散泵上面加冷阱，其作用是（AD）.A.防止擴(kuò)散油分子回流到真空室B.加快排麻速度.C.防止雜物掉入擴(kuò)散泵.D、提高膜層附著力為使蒸發(fā)材料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基板時(shí)基本不和殘余氣體分子發(fā)生碰撞，故真空室內(nèi)真空度要到達(dá)10-3Pa以下,以滿足（B）條件A、氣體分子平均自由程小于蒸發(fā)距離.B、氣體分子平均自由程遠(yuǎn)大于蒸發(fā)距離C、氣體分子平均自由程等于蒸發(fā)距離。D、氣體分子平均自由程的平方大于蒸發(fā)距離。對(duì)鍍膜材料進(jìn)行預(yù)熔的目的是（AC）A、去除材料內(nèi)部的雜質(zhì)B、改變材料的表面形狀C、減少材料的放氣D、提高材料的溫度真空鍍膜時(shí)真空度范圍應(yīng)在（C）A、低真空B、中真空C、高真空D、超高真空電子槍"FIL”燈變紅，故障原因是（C）A、電子槍高壓線路故障B、真空室底下門沒有關(guān)好C、電子槍燈絲有問題D、電子槍電流回路故障。提高膜層聚集密度工藝有（AD）A、提高離子源功率B、降低溫度C、降低真空度D、提高溫度黃色互補(bǔ)色是（B）A、綠色B、藍(lán)色C、紅色D、紫紅色增強(qiáng)膜層和鏡片附著強(qiáng)度，以下那些因素有關(guān)（ABCD）A、鏡片表面清潔度B、鏡片表面溫度C、真空室內(nèi)清潔度D、膜層材料鍍650+10IR-CUT濾色片，請(qǐng)問鍍出在哪個(gè)波長(zhǎng)范圍內(nèi)合格（B）A、640~660nmB、640~655nmC、630-660nmD、635-660nm在可見光光譜中，綠色波長(zhǎng)范圍是（D）A、600-570B、500-450C、630-600D、570-500RF離子源中和器正常工作時(shí),需要下列哪些氣體？（AC）冷卻時(shí)需要什么氣體？（C）A、氧氣（O2）B、氮?dú)猓∟2）C、氬氣（Ar）D、氦氣（He）鍍膜鏡片表面產(chǎn)生雜質(zhì)，以下哪些是可能原因？（ABCD）A、材料本身不純，有雜質(zhì)B、預(yù)熔時(shí)沒熔透，鍍膜時(shí)有飛濺C、光斑打到邊緣或外邊，將其它物質(zhì)鍍到鏡片上D、坩堝蓋板太臟，預(yù)熔時(shí)有膜料殘?jiān)暨M(jìn)坩堝鍍膜機(jī)抽速慢，以下哪些可能會(huì)引起？（ABCD）A、各類泵油使用時(shí)間太長(zhǎng)，已變質(zhì)B、POLYCOLD有問題C、真空室的清潔不到位D、機(jī)器有漏氣真空室內(nèi)部清掃不干凈，可能會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果？（ABCD）A、機(jī)器抽速慢B、產(chǎn)品表面質(zhì)量差C、機(jī)器效率降低D、分光特性不重復(fù)下列哪些因素影響內(nèi)外排的均勻性？（ABD）A、電子槍光斑的位置B、電子槍光斑的形狀、大小C、真空度不穩(wěn)定D、修正板的形狀和上升高度.正常情況下，真空室內(nèi)部清洗干凈后，機(jī)器的抽氣速度將（B）A、變慢B、變快C、不變D、無法判斷。電子槍燈絲變形，可能有以下哪些結(jié)果？（ABCD）A、電子槍光斑變形，位置打偏B、內(nèi)外排分布不均勻C、分光特性不良D、產(chǎn)生雜質(zhì)在相同光斑大小和蒸發(fā)速率的情況下，AL2O3電子槍功率（A）SiO2電子槍功率A、大于B、小于C、等于D、不知道下列屬于鍍膜機(jī)粗抽閥門符號(hào)是（C）A、LVB、SLVC、RVD、SRV30.1Torr=（BC）A、1PaB、133PaC、1.33MbarD、1Mbar光馳OTFC鍍膜機(jī)離子源有（C）片柵極片A、1B、2C、3D、4如果你鍍出來一罩產(chǎn)品有的圈產(chǎn)品合格，有的圈產(chǎn)品不合格，與下列（ABC）因素有關(guān)A、光斑不在中心位置B、修正板變形C、電子槍檔板松掉D、蒸發(fā)速率不穩(wěn)在鍍IR-CUT時(shí)，鍍出產(chǎn)品表面發(fā)黑，其原因是（D）A、鍍膜材料受到污染B、內(nèi)外排分布不均勻C、溫度沒有加D、充氧不夠下列那個(gè)符號(hào)代表高閥（C）A、FVB、MBPC、MVD、DP下列那個(gè)符號(hào)代表光控（A）A、OPMB、EBC、MBP D、PFC關(guān)門抽真空，一般當(dāng)真空度抽到（B）時(shí)開始自動(dòng)預(yù)熔膜料A、1.5E-3PaB、5.0E-3PaC、2.0E-3PaD、5.0E-5Pa目前控制膜厚種類有（AC）A、光學(xué)膜厚儀控制B、電子槍控制C、晶振膜厚儀控制D、電腦控制MgF2材料，我們可以采用是哪種蒸發(fā)方式：（AD）A、電子槍蒸發(fā)B、鉬舟蒸發(fā)（阻蒸法）C、都不是D、離子輔助蒸發(fā)正?？缮敌拚宓腻兡C(jī)，若EB2正在鍍膜,EB1,EB2上方的修正板，處于何種狀態(tài)？（BC）A、EB1上方的修正板升起B(yǎng)、EB2上方的修正板升起C、EB1上方的修正板下降D、EB2上方的修正板下降萊寶鍍膜機(jī)在鍍膜過程中，需要操作員工關(guān)注以下哪些情況?（ABCD）A、蒸發(fā)速率穩(wěn)定情況B、APC充氧情況C、電子槍光斑位置及大小情況D、光控曲線的走向及形狀.手動(dòng)預(yù)熔材料時(shí)，應(yīng)注意下列哪些事項(xiàng)？ （ABCD）A、真空室內(nèi)達(dá)到一定的真空度，開始加電流預(yù)熔材料B、光斑不能打到坩堝邊上，更不能打到坩堝外邊C、預(yù)熔時(shí)的最高電流一定要高于蒸發(fā)時(shí)的電流D、不同材料不同的預(yù)熔電流下列哪些部件在機(jī)器運(yùn)行時(shí)需要冷卻水？（BCD）A、電子槍B、擴(kuò)散泵C、坩堝盤D、晶振頭對(duì)于AR膜而言，下列哪個(gè)波段反射率偏高時(shí)，鏡片的反射光呈現(xiàn)紅色？（D）A、400~420nm B、500~530nm C、580~620nm D、630~760nm每臺(tái)機(jī)器安裝修正板的目的是（C）A、調(diào)整內(nèi)外排溫度分布B、調(diào)整機(jī)器內(nèi)的真空度分布C、調(diào)整內(nèi)外排膜厚分布D、調(diào)整同圈厚度分布.如果加熱板下方的溫度探頭移位，比正常時(shí)要低許多，結(jié)果鏡片溫度將會(huì)：（B）A、比正常時(shí)低B、比正常時(shí)高C、基本不變D、劃破鏡片在蒸鍍膜料時(shí)，電子槍電流有，但加不高的原因是（AD）A、裝電子槍燈絲螺絲松了B、電子槍燈絲壽命到期C、燈絲斷了D、高壓引線松動(dòng)鍍膜機(jī)中EB代表的含義（C）A、電腦B、擴(kuò)散泵C、電子槍D、光斑下列（B）符號(hào)代表Y方向的光斑大小A、YPB、YS C、XPD、EB下列（A）符號(hào)代表X方向的光斑位置A、XPB、XSC、YP D、EB以下材料折射率最高的是（C），折射率最低的是（D）A、SIO2B、AL2O3C、TIO2 D、MGF2晶振不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（AC）A、整罩分光特性超差B、均勻性不好C、表面不好D、膜層牢固度不好充氧不穩(wěn)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（A）A、整罩分光特性超差B、均勻性不好C、表面不好D、膜層牢固度不好光控曲線不好會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（A）A、整罩分光特性超差B、均勻性不好C、表面不好D、膜層牢固度不好溫度不對(duì)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ABD）A、整罩分光特性超差B、均勻性不好C、表面不好D、膜層牢固度不好真空度不對(duì)會(huì)導(dǎo)致以下哪些結(jié)果（ABD）A、整罩分光特性超差B、均勻性不好C、表面不好D、膜層牢固度不好填空題鍍膜膜層厚度監(jiān)控方法有晶控和光控兩種。產(chǎn)品規(guī)格為77*77的晶片，鍍膜一罩可以裝120片，下片時(shí)由于不小心弄碎了1片，那么該罩的碎片率為0.8%。目前GENER機(jī)的透亮工藝其烘烤溫度是250/150/150。目前規(guī)定的防污板更換周期為12罩。更換防污板空鍍時(shí)要鍍鉻 。光學(xué)厚度=物理厚度X折射率。測(cè)量真空的器械稱為真空計(jì)。一般分為 電離規(guī)真空計(jì)和電阻式真空計(jì)兩種。修正板有R記號(hào)的是槍2（填槍1或槍2）修正板。烘烤時(shí)間在原有基礎(chǔ)上加長(zhǎng)半小時(shí)，中心波長(zhǎng)會(huì)偏長(zhǎng)（填偏長(zhǎng)或偏短）。電子槍的高壓是7千伏。光源燈使用壽命一般為：2000小時(shí)。11.1個(gè)標(biāo)準(zhǔn)大氣壓=1.01*10+5Pa。按照目前工藝要求，鍍膜三罩后需更換鋁板和修正板的鋁箔。放片盒上的標(biāo)示，該標(biāo)示跟蹤號(hào)、產(chǎn)品規(guī)格、材料、圈數(shù)、數(shù)量。當(dāng)某罩產(chǎn)品良品數(shù)低于40%判定為報(bào)廢。15.1Torr^133Pa；1標(biāo)準(zhǔn)大氣壓=760Torr；1A（安）=1000mA（毫安）；16.10毫米=1000S（絲）=10000um（微米）=10000000nm（納米）=100000000A（埃）；鍍膜時(shí)蒸發(fā)速率的單位是A/s；鍍膜機(jī)的系統(tǒng)可分為抽真空系統(tǒng)、蒸發(fā)系統(tǒng)、膜厚控制系統(tǒng)和輔助系統(tǒng)四個(gè)系統(tǒng)。光是沿直線傳播；它是一種頻率極高的電磁波；一般可見光范圍在 400?700納米之間。光學(xué)低通濾波器，簡(jiǎn)稱OLPF，它是使通過數(shù)碼相機(jī)的或數(shù)碼攝象機(jī)鏡頭后的光濾去其高頻波段，只讓一定范圍內(nèi)的低頻光波通過頻率控制器件，對(duì)于高像素的的CCD或CMOS圖象傳感器，為了提高彩色CCD或CMOS圖象傳感器有效分辨率和彩色還原性，必須在鏡頭和CCD或CMOS圖象傳感器之間加上光學(xué)水晶低通濾波器，使圖象更清晰和穩(wěn)定。離子輔助IAD原理：IAD技術(shù)是在電子束蒸發(fā)的同時(shí)用離子束轟擊，離子由離子源 產(chǎn)生，離子束由柵極引出，電子槍和離子源各自獨(dú)立工作。膜層在離子的轟擊作用下獲得能量，使結(jié)構(gòu)得到改善。次品片標(biāo)示卡要標(biāo)示的內(nèi)容有跟蹤號(hào)、規(guī)格、材料、數(shù)量、膜系。電子槍的XS指光斑上下大小,XP指光斑上下位置，YS指光斑左右大小,YP指光斑左右位置萊寶機(jī)電子槍的高壓是8千伏。萊寶機(jī)陶瓷加熱片的O形觸點(diǎn)的方向?yàn)橄蛳拢ㄌ钕蛏匣蛳蛳拢?。萊寶機(jī)在吹水過程中，吹掉的是離子源加熱系統(tǒng)、離子源發(fā)射系統(tǒng)、Sio2電子槍系統(tǒng)和Tio2電子槍系統(tǒng)這四個(gè)部分的冷卻水。假設(shè)曲線波長(zhǎng)變長(zhǎng)，那應(yīng)該把修正葉加寬（填加寬或減窄）。當(dāng)某罩產(chǎn)品良品數(shù)低于40%判定為報(bào)廢。背反式光控鍍膜機(jī)生產(chǎn)IRCUT濾色片，每層開鍍時(shí)，TiO2材料的起始光控曲線方向向上,SiO2材料的光控曲線方向向下。新科隆機(jī)SID1350中的離子源，有3片柵極，從上到下依次為TOP,MID,BOT;柵極間總共有12片陶瓷片絕緣.（1）看到水中筷子是彎曲的，利用光的折射原理（2）看到鏡子里自已像，利用光的反射原理（3）光學(xué)薄膜利用光的干涉原理.真空可以大致分為四段，分別為初真空、低真空、高真空、超高真空.在真空的定義范圍內(nèi)，高真空度范圍是10-1Pa-10-6Pa目前我們鍍膜機(jī)抽真空系統(tǒng)一般由機(jī)械泵、羅茨泵、擴(kuò)散泵組成保持鍍膜機(jī)開門時(shí)間盡可能的短，是為了防止真空室內(nèi)部的護(hù)板吸附空氣中的水汽，使鍍膜機(jī)的抽速變慢，影響產(chǎn)品的品質(zhì)。普通加熱工藝鍍制的薄膜微觀結(jié)構(gòu)是柱狀結(jié)構(gòu)，為了改善膜層結(jié)構(gòu)，提高聚集密度，分別出現(xiàn)了三種成膜工藝離子輔助鍍、反應(yīng)離子鍍、濺射鍍鍍單層MgF2,目前鍍的是500nm，晶振厚度顯示是1000A，而現(xiàn)在需要鍍550nm，那么輸入晶振厚度約為1100A該層晶振厚度是800A，現(xiàn)已鍍了150A，由于某種原因充氣而需要加鍍，那么加鍍晶振厚度是650A寫出鍍膜機(jī)各控制閥門的中文名稱：MV高閥DP擴(kuò)散泵RV粗抽閥SLV細(xì)充氣閥FV輔助閥光學(xué)玻璃BK7折射率為1.517,則該玻璃表面單面反射率是4.219%。石英晶體控制原理主要是利用了石英晶體的兩個(gè)效應(yīng)，即壓電效應(yīng)和質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)。晶振片和鍍膜材料應(yīng)放在干燥器中的目的是：防止在空氣中受潮。機(jī)器大清洗后應(yīng)進(jìn)行抽真空和加熱處理，才能正常生產(chǎn)。判斷題擴(kuò)散泵油被氧化后，仍然可以使用一段時(shí)間。（X）每次開機(jī)前都需要對(duì)鍍膜機(jī)進(jìn)行全面檢查，但換電時(shí)例外。（X）對(duì)12分積分/年累計(jì)大于12分（含12分）違紀(jì)者，公司有權(quán)給予解除勞動(dòng)合同（V）工作時(shí)間上網(wǎng)玩游戲，看影視劇，聽耳機(jī)是可以原諒的 （X）上片過程中，有人從球罩邊上快速地走過，但沒碰到片，不會(huì)對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量造成影響。（X）有急事時(shí)，鍍膜車間里可以接聽手機(jī)。（X）坩堝擋板裝偏了會(huì)導(dǎo)致漏料問題。（V）TiO2的充氧量過多會(huì)導(dǎo)致脫膜問題。（V）戴手套的手指可以接觸產(chǎn)品片的表面。（X）曲線要求一樣的前后兩罩產(chǎn)品片可以混到一起，不會(huì)產(chǎn)生不良后果。（X）自動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)不需要考慮真空度就可以直接關(guān)機(jī)（X）自動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)只要把總電源關(guān)掉就可以了（X）關(guān)擴(kuò)散泵后等待30分鐘就可以關(guān)掉設(shè)備總電源（X）手動(dòng)開機(jī)時(shí)，打開擴(kuò)散泵（DP）加熱開關(guān)前先需把MV閥打開，否則會(huì)影響擴(kuò)散泵抽速（X手動(dòng)關(guān)機(jī)時(shí)，關(guān)閉擴(kuò)散泵加熱，等冷卻50分鐘后，需先關(guān)閉MV閥、再關(guān)羅茨泵和機(jī)械泵（X在鍍膜前先需核對(duì)所鍍鏡片與流程卡是否相符（V）添加SIO2膜料藥勺可以拿來添加氟化鎂膜料（X）鍍膜員工可以保管不合格鏡片（X）不合格鏡片非專職人員可以隨便拿取（X）在裝韓一電子槍時(shí)，裝好電子槍燈絲擰緊電子槍燈冒，但擰緊之后又要倒轉(zhuǎn)1/4圈（V）電子槍光斑X方位置偏移不在中心時(shí)，我們只需調(diào)節(jié)XP（V）在相同光斑條件下，電子槍鍍AL2O3電流跟MGF2電流大小差不多（X）鍍膜機(jī)鍍膜結(jié)束，不需要冷卻可直接充氣（X）每次更換晶振，除了我們換上新的晶振，還必須把晶振頭也清冼干凈（V）濾片主要材料是人造光學(xué)水晶（ X）.鍍膜機(jī)冷卻水的水溫越低越好（ X）.換過防污板之后不烘烤就可以上片，這樣可以節(jié)省時(shí)間（X）.倒片時(shí)可以不用戴乳膠手套（X）.換電之后擴(kuò)散泵要重新預(yù)熱50分鐘后才能升高閥（X）.按作業(yè)流程要求在上片之前一定要查看合同評(píng)審單，確認(rèn)是否能上片（V）.鍍膜TI3O5其中一層沒有充氧，這樣對(duì)曲線沒有影響.（X）換電時(shí)先關(guān)機(jī)械泵，再關(guān)預(yù)閥,后關(guān)擴(kuò)散泵.（X）鍍膜凈化間規(guī)定每3小時(shí)記錄一次溫濕度.（X）凈化級(jí)別是千級(jí)的意思是指每立方米空間中含有0.5um的顆粒粉塵小于1000個(gè)。（V）“6S”是整理（Seiri）、整頓（Seito）、清掃（Seizo）、清潔（Seimitsu）、素養(yǎng)（Shitsuke）和安全（Safety）這六個(gè)詞的縮寫。（V）簡(jiǎn)答題簡(jiǎn)述在鍍膜過程中產(chǎn)生雜質(zhì)的原因和對(duì)策？答：原因?qū)Σ?,電子槍周圍沒有打掃干凈用吸塵器、百潔布等清冼電子槍部件2坩鍋沒有清冼干凈坩鍋邊緣用百潔布、酒精、紗布清冼干凈3鍍膜時(shí)電子槍光斑不在中間而打到邊緣鍍膜時(shí)必須把電子槍光斑打到中間而不能打偏4預(yù)熔材料不透徹把膜料充分地預(yù)熔透徹5預(yù)熔膜料電流加得太快加電流要緩慢，不要加的太快6,電子槍檔板不干凈每罩要更換電子槍檔板，以及電子槍檔板要清冼干凈7,膜料污染避免膜料相互污染，以及保存方法8.膜料本身不純更換其它品種膜料從操作角度來看，如何操作和保養(yǎng)才能讓一臺(tái)鍍膜機(jī)的膜系穩(wěn)定？答：本題是員工自由發(fā)揮題目，沒有明確答案，可以從以下三個(gè)方面考慮：1、如何按照作業(yè)指導(dǎo)書進(jìn)行操作？2、如何維護(hù)設(shè)備日常保養(yǎng)？3、在鍍膜時(shí)出現(xiàn)問題時(shí)，怎樣去解決這些問題？簡(jiǎn)述一下鍍金屬膜注意事項(xiàng)？答：高的真空度、低基板溫度、快蒸在使用擴(kuò)散泵應(yīng)注意那些事項(xiàng)？答：1、冷卻水不足，必須關(guān)閉擴(kuò)散泵，否則輕則會(huì)造成返油，重則會(huì)使擴(kuò)散泵過熱造成擴(kuò)散泵油燒焦。（機(jī)器若有自動(dòng)保護(hù)裝置，會(huì)自動(dòng)停止擴(kuò)散泵加熱，并報(bào)警）2、擴(kuò)散泵必須在低真空閥關(guān)閉，預(yù)抽閥開啟，且系統(tǒng)真空高于真空室真空時(shí)才能打開，否則會(huì)造成真空室返油為什么要在高真空下鍍膜？答：1、真空狀態(tài)下，膜料的熔點(diǎn)溫度和蒸發(fā)溫度要比在大氣狀態(tài)下低得多。對(duì)高熔點(diǎn)的氧化物膜料，在真空狀態(tài)下其熔點(diǎn)要低得多。也就容易到蒸發(fā)溫度而不需太高的能量。2、真空狀態(tài)下，真空室中空氣極少，膜料分子從蒸發(fā)源到達(dá)基片表面的路程中幾乎不與殘留在真空室中的氣體分子碰撞，即分子自由程長(zhǎng)。膜料容易沉積在基片上。3、由于真空室中氣體分子少，因而氧分子、硫分子等化學(xué)活潑分子也少，高溫狀態(tài)的膜料分子就不會(huì)與之發(fā)生化學(xué)變化，從而保證膜層的膜料純度。晶振水堵塞后你怎么進(jìn)行疏通？答：把晶振冷卻水管進(jìn)口、出口從連接處斷開，并把閥門關(guān)上，用壓縮空氣氣槍從進(jìn)口處吹入壓縮空氣，看出口處是否有異物流出？鍍膜機(jī)在自動(dòng)鍍膜時(shí)發(fā)生報(bào)警，而作為一名操作員工應(yīng)如何處理報(bào)警？答：首先按報(bào)警暫停按紐，查看報(bào)警內(nèi)容，看自已是否知道？能否自已解決？如不能自已解決，查看作業(yè)指導(dǎo)書是否有，如沒有向組長(zhǎng)匯報(bào)，由組長(zhǎng)再向技術(shù)人員詢問如何解決，直到報(bào)警內(nèi)容消除后才能按繼續(xù)鍍膜的鍵。作為一名交班者，你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該讓接班者清楚哪些事情，同時(shí)作為一個(gè)接班者你個(gè)人認(rèn)為應(yīng)該從前一班中清楚哪些事情？答：本題是員工發(fā)揮題，可以從以下幾個(gè)方面答題1、本班在上班時(shí)，生產(chǎn)那些產(chǎn)品，以及用的什么膜系來鍍膜的？2、在本班期間出現(xiàn)了那些問題，用什么方法來解決的？以及要注意那些問題，這些都要交給下個(gè)班，也需要下個(gè)班來詢問這些問題。3、上個(gè)班有那些試制需要下個(gè)班來完成，把被交待情況詳細(xì)交給下過班。簡(jiǎn)述一下鍍膜機(jī)的開機(jī)及關(guān)機(jī)過程。答:開機(jī)冷卻水和壓縮空氣檢查開穩(wěn)壓電源開機(jī)器總電源加熱擴(kuò)散泵開電子槍電源打開光控電源開記錄儀開關(guān)開晶振開關(guān)打開電腦關(guān)機(jī):打掃機(jī)器抽真空關(guān)擴(kuò)散泵關(guān)電子槍電源關(guān)光控電源關(guān)記錄儀開關(guān)關(guān)晶振開關(guān)關(guān)電腦關(guān)總電源在鍍膜之前為什么要預(yù)熔材料？答：在鍍膜之前要把材料預(yù)熔透徹，主要是為了材料進(jìn)行放氣，消除材料中其它成份，保持鍍膜不產(chǎn)生飛濺和保持真空度穩(wěn)定。在鍍膜上傘鏡片之前，我們應(yīng)注意和確認(rèn)那些項(xiàng)目？答：1流程卡與鍍膜片相符2可否同罩3是否是被鍍膜面4膜料與程序里的坩堝號(hào)是否對(duì)應(yīng)5檔板的平穩(wěn)，有無松動(dòng)6晶片的壽命及活性值。7電子槍壽命及有無異物8光控片是否夠用離子源使用結(jié)束后，機(jī)器會(huì)自動(dòng)充入氬氣對(duì)其冷卻，冷卻的目的是什么？答：主要目的是快速冷卻，由于氬氣是不活潑性氣體，很難與離子源部件發(fā)生氧化。機(jī)器在開鍍之前我們進(jìn)行恒溫的目的是什么？答、使機(jī)器內(nèi)所要鍍制的鏡片溫度均勻。機(jī)器鍍膜結(jié)束，沒有直接充入大氣，而是先冷卻，冷卻的目的是什么？答：其目的是保持鏡片溫度緩慢降低，防止鏡片溫度突然下降，導(dǎo)致鏡片炸裂。如何用簡(jiǎn)單的方法檢驗(yàn)剛換好的氧氣或氬氣瓶各聯(lián)結(jié)處是否漏氣？答：1、先打開瓶閥，在一個(gè)小塑料盒子盛入一些洗衣粉（或洗滌精）和水，攪拌成泡沫，用紗布把這些泡沫攢到各個(gè)聯(lián)結(jié)處，看是否有小汽泡冒出，如有說明該聯(lián)結(jié)處有漏氣。2、先打開瓶閥，之后再關(guān)掉，看各表指針讀數(shù)是否變化。如果晶振速率突然不穩(wěn)你該怎么處理？答：如果是晶振控制的可以按照不穩(wěn)時(shí)間和電流估計(jì)出實(shí)際所蒸鍍的厚度，之后換一片晶振加鍍；如果是光控控制的可以以光控為準(zhǔn)換一片晶振繼續(xù)蒸鍍。作為一名鍍膜員工，為了把工作做得更好，你想學(xué)習(xí)鍍膜工藝技術(shù)中哪些方面的知識(shí)？請(qǐng)列舉一下，你認(rèn)為鍍膜員工容易出現(xiàn)的錯(cuò)誤有哪些？有什么好的預(yù)防和補(bǔ)救措施？擴(kuò)散泵的結(jié)構(gòu)如下圖所示，請(qǐng)標(biāo)示出個(gè)部分名稱，并說明其作用。1） 冷阱：幫助油蒸汽冷卻回流，避免油分子進(jìn)入到真空腔室內(nèi)2） 泵體冷卻水管：幫助油蒸汽冷卻回流，冷卻泵體，3） 三級(jí)噴嘴：通過噴嘴，讓高速向上的油蒸汽轉(zhuǎn)變方向，形成向下的蒸汽流帶動(dòng)水分子向下流動(dòng)達(dá)到抽取真空的目的。4） 擋油板：防止油蒸汽被抽走，有冷卻油蒸汽的作用，讓抽到此處的油蒸汽回流。5） 加熱電爐絲：給擴(kuò)散泵油加溫，使之能達(dá)到較高的溫度。獲得高速向上的油蒸汽。寫出鍍膜過程應(yīng)注意哪些參數(shù)變化？答：鍍膜過程中應(yīng)注意真空度是否穩(wěn)定、光量走值是否平滑無波動(dòng)、蒸發(fā)速率穩(wěn)定在設(shè)定范圍內(nèi)、電子槍能量是否穩(wěn)定、離子源的各參數(shù)變化。寫出更換防污板和上下片過程中的注意事項(xiàng)。答：更換防污板時(shí)要注意：當(dāng)前罩?jǐn)?shù)鍍制到后幾層時(shí)，由操作人員或副操作電話到輔助房要求準(zhǔn)備防污板，把準(zhǔn)備好的防污板用酒精擦拭干凈，清點(diǎn)數(shù)量是否有少拿或多拿的現(xiàn)象。等待鍍完。鍍完后開始更換防污板，換板過程中要注意拆卸時(shí)由外到里、由下至上，安裝時(shí)由里到外、由上至下的順序。這樣可以減少動(dòng)作的重復(fù)和減少灰塵的殘留。換完污板后要檢查各污板是否安裝到位、是否有螺絲松動(dòng)、是否有錯(cuò)裝或漏裝等現(xiàn)象。防止因此導(dǎo)致的生產(chǎn)事故。上下片注意事項(xiàng)：當(dāng)機(jī)器鍍制完最后一層后，準(zhǔn)備該罩需更換的各部件（比如燈絲、光控片、晶振片、視窗玻璃等）。電話準(zhǔn)備下一罩產(chǎn)品，及時(shí)獲得將鍍制產(chǎn)品的信息。將下片推車準(zhǔn)備好等待開箱。打開箱門后，將推車搖至所需高度（注意一定要升降到位，避免撞到機(jī)器內(nèi)部各部件），將裝片球罩卸下，開始清潔機(jī)器內(nèi)部衛(wèi)生和將產(chǎn)品取出（注意由于剛下片時(shí)溫度較高，所以要戴上手套等防止?fàn)C傷。還要及時(shí)測(cè)試產(chǎn)品的曲線變化）。清潔完畢，檢查各部件是否安裝更換到位。然后開始上片（上片前應(yīng)確認(rèn)該產(chǎn)品生產(chǎn)批號(hào)及規(guī)格要求是否與上罩相符，如異常應(yīng)及時(shí)通知當(dāng)班值機(jī)人員做好調(diào)整準(zhǔn)備）。上片過程中應(yīng)注意輕拿輕放，注意人員走動(dòng)，注意不應(yīng)有幅度過大的行為動(dòng)作。將產(chǎn)品放入機(jī)器后再次確認(rèn)機(jī)器設(shè)備的狀態(tài)，確認(rèn)無誤后關(guān)箱開始抽真空。請(qǐng)寫出鍍膜機(jī)從關(guān)箱到獲得高真空狀態(tài)的抽真空作業(yè)流程，要求寫明步驟和注意事項(xiàng)，可用流程圖表示。（假設(shè)機(jī)器準(zhǔn)備工作都已經(jīng)完成）（8分）答：自動(dòng)狀態(tài)按下“真空室抽氣”鍵一一預(yù)閥關(guān)閉一一微量抽氣閥打開一一低閥打開一一微量抽氣閥關(guān)閉一一等待抽至低真空狀態(tài)一一關(guān)閉低閥一一打開預(yù)閥一一打開高閥一一獲得較高真空手動(dòng)狀態(tài)按下“機(jī)械泵（RP）”此過程羅茨泵（MBP）等待30秒——按下羅茨泵（MBP）——關(guān)閉預(yù)閥（FV）此過程必須在開啟低閥前完成，否則會(huì)導(dǎo)致返油現(xiàn)象一一按下微量抽氣閥（SRV）——按下低閥（RV）——關(guān)閉微量抽氣閥（SRV）等待真空度達(dá)到所需真空（如6.0*10-1PA）——關(guān)閉低閥（RV）——打開預(yù)閥（FV）——打開高閥（MV）獲得所需的高真空。在整個(gè)抽真空過程中，切記勿錯(cuò)誤操作，必須按照此流程進(jìn)行作業(yè)。請(qǐng)簡(jiǎn)述鍍膜光弛機(jī)開、關(guān)機(jī)作業(yè)指導(dǎo)書。答：開機(jī)1、 開機(jī)前確認(rèn)：開機(jī)前先確認(rèn)冷卻水壓力（N0.2MPA）和溫度（＜25°C）、壓縮空氣壓力（0.5MPA）、電壓（200V±15%）是否正常，正常后打開機(jī)器總電源開關(guān)；然后再依次打開電子槍控制柜電源和POLYCOLD的電源。2、 打開機(jī)器總電源后再按下主操作面板上的主電源按鈕，然后在觸摸屏上按下“泵啟動(dòng)/停止”按鈕，啟動(dòng)模式切換為手動(dòng)模式；再按下“泵抽氣”按鈕。啟動(dòng)后，約90分鐘后“泵加熱”按鈕燈自動(dòng)點(diǎn)亮。完成泵的準(zhǔn)備工作。關(guān)機(jī)1、 自動(dòng)關(guān)機(jī)：檢查確認(rèn)真空室內(nèi)無其他非使用物品，關(guān)閉真空室門，在泵“啟動(dòng)停止”界面下的泵啟動(dòng)模式內(nèi)按下“自動(dòng)停止”按鈕，顯示確認(rèn)畫面，按“是”按鈕后裝置進(jìn)入排氣狀態(tài)，排氣完成后，約1.5小時(shí)FV、MBP、RP自動(dòng)關(guān)閉，約2小時(shí)后裝置停止，之冷卻閥關(guān)閉。2、 手動(dòng)關(guān)機(jī)：手動(dòng)關(guān)機(jī)可不對(duì)真空室排氣，在“抽氣界面”內(nèi)的抽氣模式下按下“手動(dòng)”按鈕，然后按下“DP”，過1.5小時(shí)以后依次按下“FV—MBP”，間隔30秒再按下“RP”，然后再按下豬操作面板上的主電源“關(guān)”按鈕，在關(guān)閉機(jī)器控制柜總電源開關(guān)，手動(dòng)關(guān)機(jī)完成。請(qǐng)簡(jiǎn)述光弛機(jī)晶振片換裝作業(yè)要點(diǎn)。答：1、拆卸左手托住防污蓋板，右手?jǐn)Q下固定螺絲取下防污板；用左手手指托住晶振絕熱銅罩，右手用內(nèi)六角或一字螺絲刀擰松兩邊固定螺絲，將其取下。（注意：為避免燙傷，拆卸防污罩時(shí)請(qǐng)帶上隔熱手套；擰螺絲時(shí)注意使用力度，避免擰滑螺絲‘內(nèi)六角扳手插到螺絲的底部’）用左手手指托住晶振傳感器托盤，右手用內(nèi)六角扳手?jǐn)Q松中央的六角螺絲，卸下晶振傳感器托盤；用十字螺絲刀拆下托盤后面的3個(gè)螺絲，分離托盤的上下部分，將上部分彈簧朝上放置在桌面上。翻轉(zhuǎn)托盤下半部分，將舊晶振片倒在白紙或綢布上面，然后再放回晶振盒中。（注意：分離晶振傳感器時(shí)，注意上半部分的鍍金彈簧片不能弄站臟、變形，更不可斷裂；保證每一個(gè)彈簧的三個(gè)腳的高度和彎曲度（60度）都相等；放置時(shí)應(yīng)將鍍金彈簧片朝上平放在工作臺(tái)上，嚴(yán)禁反放。取出晶振片時(shí)要小心，不可使其滑動(dòng)或掉落，使之劃傷或破裂）2、 清潔清潔掉托盤底部的絕熱銅罩測(cè)定部開孔處周圍的膜料等污物，把清潔干凈后的部件放到無水酒精中浸泡，然后拿出用干凈綢布擦拭干凈，自然干燥。（注意：清潔工作有輔助房完成，采用氟化氫氨浸泡，各部件每次更換防污板時(shí)更換，在氟化氫氨溶液中浸泡20分鐘后用百潔布清除掉殘留的臟物。）3、 組裝晶振傳感器托盤小心將六片新的晶振片放進(jìn)晶振傳感器托盤下半部分的晶振底座內(nèi)，輕輕蓋上托盤上半部分，將托盤上半部分的六個(gè)彈簧片各個(gè)對(duì)準(zhǔn)底座內(nèi)的每一個(gè)晶振片，上下螺絲孔對(duì)齊，然后用左手手指輕輕壓下，右手用十字螺絲刀擰上固定托盤上下部分的三顆鍍金螺絲，組裝好晶振傳感器托盤。（注意：放如新的晶振片時(shí)要特別小心，可把晶振盒口對(duì)準(zhǔn)晶振底座的晶振片槽輕輕倒進(jìn)晶振片，也可用竹夾夾住晶振片邊緣把其放進(jìn)晶振底座內(nèi)。晶振片不可放反，上下表面更不能劃傷、受污。螺絲不能擰得過緊，避免擰滑擰壞）4、 安裝用手輕拿晶振傳感器托盤的邊緣，把其裝回機(jī)器內(nèi)，調(diào)整位置（使托盤中軸上的缺口卡住擋塊）后擰緊托盤中央的固定螺絲，然后裝上絕熱銅罩，稍微擰緊其兩邊的固定螺絲，裝上防污蓋板。（注意：晶振傳感器托盤中央的固定螺絲和絕熱銅罩兩邊的固定螺絲稍微擰緊即可，避免螺絲擰滑，嚴(yán)禁過度用力。裝好后晶振片應(yīng)全部暴露在絕熱銅罩開孔范圍內(nèi)，否則要拆下絕熱銅罩重新調(diào)整晶振傳感器托盤）5、 檢測(cè)啟動(dòng)ACS系統(tǒng)后，點(diǎn)擊主操作畫面“水晶傳感檢測(cè)”按鈕進(jìn)入檢測(cè)畫面，選擇檢查范圍（1-6）后點(diǎn)擊“檢查開始”。開始檢測(cè)，檢測(cè)結(jié)束后，好的晶振片呈白色，不好的呈黃色。另外滿載檢測(cè)過程中沒檢測(cè)的顯示灰色。檢測(cè)完成后點(diǎn)擊“完成”退出檢測(cè)畫面回到主菜單。（注意：檢測(cè)完成后要記錄檢測(cè)結(jié)果，記錄不良晶振片的編號(hào)，在使用時(shí)跳過不用，避免鍍膜過程事故的發(fā)生）某一TiO2層剛開鍍3秒鐘，突然發(fā)現(xiàn)未充氧，該如何處理？答：某一層發(fā)現(xiàn)未充氧時(shí)，要馬上暫停運(yùn)行中