華工半導(dǎo)體器件物理-課件chapter_第1頁
華工半導(dǎo)體器件物理-課件chapter_第2頁
華工半導(dǎo)體器件物理-課件chapter_第3頁
華工半導(dǎo)體器件物理-課件chapter_第4頁
華工半導(dǎo)體器件物理-課件chapter_第5頁
已閱讀5頁,還剩37頁未讀, 繼續(xù)免費(fèi)閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請(qǐng)進(jìn)行舉報(bào)或認(rèn)領(lǐng)

文檔簡(jiǎn)介

平衡狀態(tài)

---PN

結(jié)內(nèi)溫度均勻、穩(wěn)定,不存在外加電壓、光照、磁場(chǎng)、輻射等外作用。本節(jié)主要介紹PN結(jié)空間電荷區(qū)的形成,PN結(jié)的內(nèi)建電場(chǎng)、內(nèi)建電勢(shì),及平衡時(shí)的PN結(jié)空間電荷區(qū)寬度。2.1熱平衡PN結(jié)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理1、空間電荷區(qū)的形成平衡少子:P區(qū):N區(qū):ni利用

no

po

=n

2的關(guān)系,可得:平衡多子:可見:aN

-,pp0P

區(qū)

N

區(qū)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理dN

+,nn0no

Nd

nippo

Na

niNdNappoN區(qū):pno

i

i

niP區(qū):npo

i

i

nin2

n2n2

n2nnoppo

ni

pnonno

ni

npo擴(kuò)散電流:P區(qū)漂移電流:P區(qū)N區(qū)N區(qū)

P區(qū)留下

Na

,N區(qū)留下

Nd

,形成空間電荷區(qū)??臻g電荷區(qū)產(chǎn)生的電場(chǎng)稱為內(nèi)建電場(chǎng),方向?yàn)橛蒒區(qū)指向P區(qū)。電場(chǎng)的存在會(huì)引起漂移電流,方向?yàn)橛蒒區(qū)指向P區(qū)。達(dá)到平衡時(shí),凈電流=0。于是就形成一個(gè)穩(wěn)定的有一定寬度的空間電荷區(qū)??昭〝U(kuò)散:P區(qū)電子擴(kuò)散:P區(qū)N區(qū)N區(qū)擴(kuò)散電流方向?yàn)椋篜

區(qū) N

區(qū)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理內(nèi)建電場(chǎng)空間電荷區(qū)P

區(qū)N

區(qū)N

-AN

-AND+ND

+pp0nn0電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理空間電荷區(qū):PN結(jié)中,電子由N區(qū)轉(zhuǎn)移至P區(qū),空穴由P區(qū)轉(zhuǎn)移至N區(qū)。電子和空穴的轉(zhuǎn)移分別在N區(qū)和P區(qū)留下了未被補(bǔ)償?shù)氖┲麟x子和受主離子。它們是荷電的、固定不動(dòng)的,稱為空間電荷??臻g電荷存在的區(qū)域稱為空間電荷區(qū)。內(nèi)建電場(chǎng):P區(qū)和N區(qū)的空間電荷之間建立了一個(gè)電場(chǎng)——空間電荷區(qū)電場(chǎng),也叫內(nèi)建電場(chǎng)。能級(jí):平衡PN結(jié)有的

能級(jí)。電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理畫熱平衡PN結(jié)能帶圖。能帶圖的依據(jù)是:

能級(jí)恒定。于是N側(cè)中性區(qū)

能級(jí)EFn相對(duì)P側(cè)中性區(qū)

能級(jí)向下移動(dòng)EFn-EFp。N側(cè)各個(gè)能級(jí)(EC、EV及真空能級(jí)E0等)與EFn平行地向下移動(dòng)EFn-EFp。在空間電荷區(qū),真空能級(jí)連續(xù)。除

能級(jí)外,各個(gè)能級(jí)與真空能級(jí)平行。2、熱平衡PN結(jié)能帶圖和空間電荷分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理pnECEFEiEV漂移漂移擴(kuò)散q0擴(kuò)散Enp(a)在接觸前分開的P型和N型硅的能帶圖(b)接觸后的能帶圖圖2-3電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理p電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理型電中性區(qū)邊界層邊界層n型電中性區(qū)耗盡區(qū)(c)與(b)相對(duì)應(yīng)的空間電荷分布圖2-3PN結(jié)的三個(gè)區(qū)耗盡區(qū)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理中性區(qū)邊界層3、耗盡層近似中性近似---中性指的是電中性,PN結(jié)空間電荷區(qū)以外的區(qū)域(P區(qū)和N區(qū))的電阻與空間電荷區(qū)的電阻相比可以忽略,加偏壓時(shí)它們承受的電壓降可以忽略故稱為“中性區(qū)”。耗盡近似---認(rèn)為空間電荷區(qū)內(nèi)的載流子完全擴(kuò)散掉,即完全耗盡,空間電荷僅由電離雜質(zhì)提供。這時(shí)空間電荷區(qū)又可稱為

“耗盡區(qū)”。為了簡(jiǎn)化分析,做如下假定:PN結(jié)為突變結(jié);耗盡區(qū)的

載流子密度為零;N型中性區(qū)、P型中性區(qū)和耗盡區(qū)之間的轉(zhuǎn)變是突變的。電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理非本征德拜長(zhǎng)度LD突變結(jié)在邊界層上,泊松方程和載流子濃度不能得到解析解,在計(jì)算機(jī)計(jì)算的基礎(chǔ)上,得到邊界層的寬度約為一特征長(zhǎng)度的3倍,此特征長(zhǎng)度稱為非本征德拜長(zhǎng)度LD。21d

a

q

N

NLD

0

T

k

V

電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理16

3

10

cmNd

Na在凈雜質(zhì)濃度為硅中,LD

3106

cm因此,邊界層的厚度小于耗盡區(qū)的寬度。邊界層完全可以忽略。PN結(jié)可劃分為中性區(qū)耗盡區(qū)PN電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理內(nèi)建電勢(shì)差:由于內(nèi)建電場(chǎng),空間電荷區(qū)兩側(cè)存在電勢(shì)差,這個(gè)電勢(shì)差叫做內(nèi)建電勢(shì)差(用

0

表示)。利用中性區(qū)電中性條件和能級(jí)恒定兩種方法可以導(dǎo)出空間電荷區(qū)內(nèi)建電勢(shì)差公式。(2-7)

0

n

pT

V

lnid

an2N

N3、熱平衡PN結(jié)內(nèi)建電勢(shì)差電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理方法一:(中性區(qū)電中性條件)由一維泊松方程和取

勢(shì)為零基準(zhǔn)時(shí),電子空穴密度公式:d

2

q0dx2

k

0k

(

p

n

Nd

Na

)

Vn

ni

e

T

Vp

ni

e

T(2-1)(2-2a)(2-2b)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理由中性區(qū)電中性條件,即電荷的總密度為零??傻玫剑篸

2

0電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理dx

2p

n

Nd

Na

0(2-3)(2-4)在N型中性區(qū),Na=0,p<<n。令(2-4)中Na=p=0,代入到(2-2a),得到N型中性區(qū)的電勢(shì)(2-5)in

Tn

V

ln

Ndi電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理Tpn

V

ln

Na類似地,在P型中性區(qū),令(2-4)中Nd=n=0,代入到(2-2a),得到P型中性區(qū)的電勢(shì)(2-6)因而,N型中性區(qū)與P型中性區(qū)之間的電勢(shì)差為(2-7)

0

n

電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理in2T

V

ln

Nd

Nap方法二:(

能級(jí)恒定)從

能級(jí)恒定的觀點(diǎn)來看,熱平衡PN結(jié)具有的比P區(qū)能級(jí)。形成PN結(jié)之前N區(qū)能級(jí)高。形成PN結(jié)之后,能級(jí)比能級(jí)恒定要求N區(qū)

能級(jí)相對(duì)P區(qū)

能級(jí)下降,則原電勢(shì)差即PN結(jié)中N型與P型中性區(qū)間電勢(shì)差

0

。

EFp

qEFn電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理可以得到分別的能級(jí)為:再由熱電勢(shì)

V,即得(2-7)式:iFn

inE

E

KT

ln

NdiFpinE

E

KT

ln

N

p0FnFp

Tin2

E

)

V

ln

Nd

Naq

1

(Eq

KTT(2-7)未形成PN結(jié)之前的N區(qū)(P區(qū))的電子(空穴)濃度為:a

id

in

Np

N

n

e(

EFn

Ei

)

/

KT

n

e(

Ei

EEp

)

/

KT電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理區(qū)空穴進(jìn)入N區(qū)也需要克服勢(shì)壘q

0間電荷區(qū)又叫做勢(shì)壘區(qū)。。于是空耗盡區(qū)、空間電荷區(qū)、勢(shì)壘區(qū)。及溫度T

)由上式可見,0

與摻雜濃度、ni

(或Eg有關(guān)。在常用的摻雜濃度范圍和室溫下,硅的

0約為0.75V

,鍺的約為0.35V

。勢(shì)壘區(qū):N區(qū)電子進(jìn)入P區(qū)需要克服勢(shì)壘

q

0

,P4、熱平衡PN結(jié)內(nèi)建電場(chǎng)

xp

x

00adx2

k

00

x

xndx2電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理kd

2

qNdd

2

qN

空間電荷區(qū)的電中性要求在PN結(jié)的兩邊電荷相等。Na

xp

Nd

xn(2-10a)PN結(jié)空間電荷區(qū)內(nèi)Poisson方程簡(jiǎn)化為:(2-10b)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理對(duì)于單邊突變結(jié)P+N結(jié)W

xn耗盡區(qū)主要分布在低摻雜一側(cè),重?fù)诫s一邊的空間電荷層的厚度可以忽略。整個(gè)空間電荷層的寬度W表示為:W

xp

xn圖2-4(a)空間電荷分布單邊突變結(jié)電荷分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理式(2-10)也可寫成:d

qNddx

k0積分一次,得:

xk電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理qdN x

C0由邊界條件:可求得常數(shù)C

為:于是可得內(nèi)建電場(chǎng)ε的表達(dá)式為:在x

xn

處,

(x)0d

nN

xkqC

00電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理0式中

m

k

kqNd

xnxmn

d

n

x

q

x

x N

0

x

x

n

x

1(2-14)(2-15)εm為PN結(jié)中的最大電場(chǎng)。單邊突變結(jié)電場(chǎng)分布圖2-4(b)電場(chǎng)分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理

q

(x)即為空間電荷區(qū)能帶E(x)。x

21

xn

qNx

2

d

n2k

0P+N單邊突變結(jié):200d

nqN

x2k

電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理1

2

0 0

W

xnqNd2k

5、熱平衡PN結(jié)內(nèi)建電勢(shì)對(duì)(2-14)從

xn

至x

求積分,可推導(dǎo)出電勢(shì):(2-16)(2-17)(2-18)單邊突變結(jié)電勢(shì)分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理圖2-4(c)電勢(shì)分布Nd

Nax0

W2W2邊界條件為:6、線性緩變結(jié)的耗盡層寬度和自建電壓性緩變結(jié)中,雜質(zhì)分布為:Nd

Na

ax耗盡近似下的泊松方程為:Nd

Na

axkqdx

kd

q00

(

W

)

(W

)

02

2電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理2

W2W0x積分并應(yīng)用邊界條件后得電場(chǎng)分布為:1

W

2x

2

W

2x

2

1

max

x

aqW

2

8k0上式中:0電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理2

aqWmax8k內(nèi)建電勢(shì)ψ0

為:W2ψ0

3

xdx

2

max

W2W

aqaq230112

max

8

k0

1

aq

3將上面關(guān)于

max

W

的兩個(gè)方程聯(lián)立,可解得:1

1W

8k0max

2

12k0

0

3電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理半導(dǎo)體器件物理電子與信息學(xué)本征

能級(jí)表示為:7、平衡PN結(jié)的載流子濃度KTE

E

n

ni

exp

i F

KTE

Ei

Fip

n

exp

Ei

x

可Eix

Ei

xn

q

xq

0iEiEFEcEFvEEEvN區(qū)Ec

P區(qū)

平衡載流子濃度可表示為:x

0

x電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理用n,p表示半導(dǎo)體的型號(hào),0表示熱平衡。有:nn0——n區(qū)平衡電子濃度pn0——n區(qū)平衡空穴濃度np0——p區(qū)平衡電子濃度pp0——p區(qū)平衡空穴濃度

T

nono

V

KT

x

n

exp

q

x

n

exp

KTKTFi

nE

x

Ei

n

exp

expnx電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理q

xKTFi

nE

x

q

x

Ein

exp

將Ei

x代入載流子濃度表達(dá)式中,得:Tpo

ppoVexp

xKTexp

q

0

q

x

pKTKTEF

Ei

xp

q

q

x

exp0

ni

exp

KTFE

Ei

xn

q

0

q

0

q

xi

n

exp

電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理KTFE

Ei

xn

q

xipx

n

exp

電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理n在x

=x

處:在x

=-xp

處:

xn

0nxn

nnopxn

ppoe

0

/VT

xp

0p

xp

ppon

xp

nnoe

0

/VT

npo

pno電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理npo

nnoe0

/VTpno

ppoe0

/VT這兩個(gè)表達(dá)式在下一節(jié)推導(dǎo)載流子濃度的邊界條件時(shí)要用到。上面得到的:平衡PN結(jié)中載流子濃度分布p

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請(qǐng)下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請(qǐng)聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會(huì)有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲(chǔ)空間,僅對(duì)用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護(hù)處理,對(duì)用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對(duì)任何下載內(nèi)容負(fù)責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請(qǐng)與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時(shí)也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對(duì)自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評(píng)論

0/150

提交評(píng)論