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平衡狀態(tài)
---PN
結(jié)內(nèi)溫度均勻、穩(wěn)定,不存在外加電壓、光照、磁場(chǎng)、輻射等外作用。本節(jié)主要介紹PN結(jié)空間電荷區(qū)的形成,PN結(jié)的內(nèi)建電場(chǎng)、內(nèi)建電勢(shì),及平衡時(shí)的PN結(jié)空間電荷區(qū)寬度。2.1熱平衡PN結(jié)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理1、空間電荷區(qū)的形成平衡少子:P區(qū):N區(qū):ni利用
no
po
=n
2的關(guān)系,可得:平衡多子:可見:aN
-,pp0P
區(qū)
N
區(qū)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理dN
+,nn0no
Nd
nippo
Na
niNdNappoN區(qū):pno
i
i
niP區(qū):npo
i
i
nin2
n2n2
n2nnoppo
ni
pnonno
ni
npo擴(kuò)散電流:P區(qū)漂移電流:P區(qū)N區(qū)N區(qū)
P區(qū)留下
Na
,N區(qū)留下
Nd
,形成空間電荷區(qū)??臻g電荷區(qū)產(chǎn)生的電場(chǎng)稱為內(nèi)建電場(chǎng),方向?yàn)橛蒒區(qū)指向P區(qū)。電場(chǎng)的存在會(huì)引起漂移電流,方向?yàn)橛蒒區(qū)指向P區(qū)。達(dá)到平衡時(shí),凈電流=0。于是就形成一個(gè)穩(wěn)定的有一定寬度的空間電荷區(qū)??昭〝U(kuò)散:P區(qū)電子擴(kuò)散:P區(qū)N區(qū)N區(qū)擴(kuò)散電流方向?yàn)椋篜
區(qū) N
區(qū)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理內(nèi)建電場(chǎng)空間電荷區(qū)P
區(qū)N
區(qū)N
-AN
-AND+ND
+pp0nn0電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理空間電荷區(qū):PN結(jié)中,電子由N區(qū)轉(zhuǎn)移至P區(qū),空穴由P區(qū)轉(zhuǎn)移至N區(qū)。電子和空穴的轉(zhuǎn)移分別在N區(qū)和P區(qū)留下了未被補(bǔ)償?shù)氖┲麟x子和受主離子。它們是荷電的、固定不動(dòng)的,稱為空間電荷??臻g電荷存在的區(qū)域稱為空間電荷區(qū)。內(nèi)建電場(chǎng):P區(qū)和N區(qū)的空間電荷之間建立了一個(gè)電場(chǎng)——空間電荷區(qū)電場(chǎng),也叫內(nèi)建電場(chǎng)。能級(jí):平衡PN結(jié)有的
能級(jí)。電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理畫熱平衡PN結(jié)能帶圖。能帶圖的依據(jù)是:
能級(jí)恒定。于是N側(cè)中性區(qū)
能級(jí)EFn相對(duì)P側(cè)中性區(qū)
能級(jí)向下移動(dòng)EFn-EFp。N側(cè)各個(gè)能級(jí)(EC、EV及真空能級(jí)E0等)與EFn平行地向下移動(dòng)EFn-EFp。在空間電荷區(qū),真空能級(jí)連續(xù)。除
能級(jí)外,各個(gè)能級(jí)與真空能級(jí)平行。2、熱平衡PN結(jié)能帶圖和空間電荷分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理pnECEFEiEV漂移漂移擴(kuò)散q0擴(kuò)散Enp(a)在接觸前分開的P型和N型硅的能帶圖(b)接觸后的能帶圖圖2-3電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理p電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理型電中性區(qū)邊界層邊界層n型電中性區(qū)耗盡區(qū)(c)與(b)相對(duì)應(yīng)的空間電荷分布圖2-3PN結(jié)的三個(gè)區(qū)耗盡區(qū)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理中性區(qū)邊界層3、耗盡層近似中性近似---中性指的是電中性,PN結(jié)空間電荷區(qū)以外的區(qū)域(P區(qū)和N區(qū))的電阻與空間電荷區(qū)的電阻相比可以忽略,加偏壓時(shí)它們承受的電壓降可以忽略故稱為“中性區(qū)”。耗盡近似---認(rèn)為空間電荷區(qū)內(nèi)的載流子完全擴(kuò)散掉,即完全耗盡,空間電荷僅由電離雜質(zhì)提供。這時(shí)空間電荷區(qū)又可稱為
“耗盡區(qū)”。為了簡(jiǎn)化分析,做如下假定:PN結(jié)為突變結(jié);耗盡區(qū)的
載流子密度為零;N型中性區(qū)、P型中性區(qū)和耗盡區(qū)之間的轉(zhuǎn)變是突變的。電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理非本征德拜長(zhǎng)度LD突變結(jié)在邊界層上,泊松方程和載流子濃度不能得到解析解,在計(jì)算機(jī)計(jì)算的基礎(chǔ)上,得到邊界層的寬度約為一特征長(zhǎng)度的3倍,此特征長(zhǎng)度稱為非本征德拜長(zhǎng)度LD。21d
a
q
N
NLD
0
T
k
V
電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理16
3
10
cmNd
Na在凈雜質(zhì)濃度為硅中,LD
3106
cm因此,邊界層的厚度小于耗盡區(qū)的寬度。邊界層完全可以忽略。PN結(jié)可劃分為中性區(qū)耗盡區(qū)PN電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理內(nèi)建電勢(shì)差:由于內(nèi)建電場(chǎng),空間電荷區(qū)兩側(cè)存在電勢(shì)差,這個(gè)電勢(shì)差叫做內(nèi)建電勢(shì)差(用
0
表示)。利用中性區(qū)電中性條件和能級(jí)恒定兩種方法可以導(dǎo)出空間電荷區(qū)內(nèi)建電勢(shì)差公式。(2-7)
0
n
pT
V
lnid
an2N
N3、熱平衡PN結(jié)內(nèi)建電勢(shì)差電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理方法一:(中性區(qū)電中性條件)由一維泊松方程和取
勢(shì)為零基準(zhǔn)時(shí),電子空穴密度公式:d
2
q0dx2
k
0k
(
p
n
Nd
Na
)
Vn
ni
e
T
Vp
ni
e
T(2-1)(2-2a)(2-2b)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理由中性區(qū)電中性條件,即電荷的總密度為零??傻玫剑篸
2
0電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理dx
2p
n
Nd
Na
0(2-3)(2-4)在N型中性區(qū),Na=0,p<<n。令(2-4)中Na=p=0,代入到(2-2a),得到N型中性區(qū)的電勢(shì)(2-5)in
Tn
V
ln
Ndi電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理Tpn
V
ln
Na類似地,在P型中性區(qū),令(2-4)中Nd=n=0,代入到(2-2a),得到P型中性區(qū)的電勢(shì)(2-6)因而,N型中性區(qū)與P型中性區(qū)之間的電勢(shì)差為(2-7)
0
n
電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理in2T
V
ln
Nd
Nap方法二:(
能級(jí)恒定)從
能級(jí)恒定的觀點(diǎn)來看,熱平衡PN結(jié)具有的比P區(qū)能級(jí)。形成PN結(jié)之前N區(qū)能級(jí)高。形成PN結(jié)之后,能級(jí)比能級(jí)恒定要求N區(qū)
能級(jí)相對(duì)P區(qū)
能級(jí)下降,則原電勢(shì)差即PN結(jié)中N型與P型中性區(qū)間電勢(shì)差
0
。
EFp
qEFn電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理可以得到分別的能級(jí)為:再由熱電勢(shì)
V,即得(2-7)式:iFn
inE
E
KT
ln
NdiFpinE
E
KT
ln
N
p0FnFp
Tin2
E
)
V
ln
Nd
Naq
1
(Eq
KTT(2-7)未形成PN結(jié)之前的N區(qū)(P區(qū))的電子(空穴)濃度為:a
id
in
Np
N
n
e(
EFn
Ei
)
/
KT
n
e(
Ei
EEp
)
/
KT電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理區(qū)空穴進(jìn)入N區(qū)也需要克服勢(shì)壘q
0間電荷區(qū)又叫做勢(shì)壘區(qū)。。于是空耗盡區(qū)、空間電荷區(qū)、勢(shì)壘區(qū)。及溫度T
)由上式可見,0
與摻雜濃度、ni
(或Eg有關(guān)。在常用的摻雜濃度范圍和室溫下,硅的
0約為0.75V
,鍺的約為0.35V
。勢(shì)壘區(qū):N區(qū)電子進(jìn)入P區(qū)需要克服勢(shì)壘
q
0
,P4、熱平衡PN結(jié)內(nèi)建電場(chǎng)
xp
x
00adx2
k
00
x
xndx2電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理kd
2
qNdd
2
qN
空間電荷區(qū)的電中性要求在PN結(jié)的兩邊電荷相等。Na
xp
Nd
xn(2-10a)PN結(jié)空間電荷區(qū)內(nèi)Poisson方程簡(jiǎn)化為:(2-10b)電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理對(duì)于單邊突變結(jié)P+N結(jié)W
xn耗盡區(qū)主要分布在低摻雜一側(cè),重?fù)诫s一邊的空間電荷層的厚度可以忽略。整個(gè)空間電荷層的寬度W表示為:W
xp
xn圖2-4(a)空間電荷分布單邊突變結(jié)電荷分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理式(2-10)也可寫成:d
qNddx
k0積分一次,得:
xk電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理qdN x
C0由邊界條件:可求得常數(shù)C
為:于是可得內(nèi)建電場(chǎng)ε的表達(dá)式為:在x
xn
處,
(x)0d
nN
xkqC
00電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理0式中
m
k
kqNd
xnxmn
d
n
x
q
x
x N
0
x
x
n
x
1(2-14)(2-15)εm為PN結(jié)中的最大電場(chǎng)。單邊突變結(jié)電場(chǎng)分布圖2-4(b)電場(chǎng)分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理
q
(x)即為空間電荷區(qū)能帶E(x)。x
21
xn
qNx
2
d
n2k
0P+N單邊突變結(jié):200d
nqN
x2k
電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理1
2
0 0
W
xnqNd2k
5、熱平衡PN結(jié)內(nèi)建電勢(shì)對(duì)(2-14)從
xn
至x
求積分,可推導(dǎo)出電勢(shì):(2-16)(2-17)(2-18)單邊突變結(jié)電勢(shì)分布電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理圖2-4(c)電勢(shì)分布Nd
Nax0
W2W2邊界條件為:6、線性緩變結(jié)的耗盡層寬度和自建電壓性緩變結(jié)中,雜質(zhì)分布為:Nd
Na
ax耗盡近似下的泊松方程為:Nd
Na
axkqdx
kd
q00
(
W
)
(W
)
02
2電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理2
W2W0x積分并應(yīng)用邊界條件后得電場(chǎng)分布為:1
W
2x
2
W
2x
2
1
max
x
aqW
2
8k0上式中:0電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理2
aqWmax8k內(nèi)建電勢(shì)ψ0
為:W2ψ0
3
xdx
2
max
W2W
aqaq230112
max
8
k0
1
aq
3將上面關(guān)于
max
與
W
的兩個(gè)方程聯(lián)立,可解得:1
1W
8k0max
2
12k0
0
3電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理半導(dǎo)體器件物理電子與信息學(xué)本征
能級(jí)表示為:7、平衡PN結(jié)的載流子濃度KTE
E
n
ni
exp
i F
KTE
Ei
Fip
n
exp
Ei
x
可Eix
Ei
xn
q
xq
0iEiEFEcEFvEEEvN區(qū)Ec
P區(qū)
平衡載流子濃度可表示為:x
0
x電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理用n,p表示半導(dǎo)體的型號(hào),0表示熱平衡。有:nn0——n區(qū)平衡電子濃度pn0——n區(qū)平衡空穴濃度np0——p區(qū)平衡電子濃度pp0——p區(qū)平衡空穴濃度
T
nono
V
KT
x
n
exp
q
x
n
exp
KTKTFi
nE
x
Ei
n
exp
expnx電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理q
xKTFi
nE
x
q
x
Ein
exp
將Ei
x代入載流子濃度表達(dá)式中,得:Tpo
ppoVexp
xKTexp
q
0
q
x
pKTKTEF
Ei
xp
q
q
x
exp0
ni
exp
KTFE
Ei
xn
q
0
q
0
q
xi
n
exp
電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理KTFE
Ei
xn
q
xipx
n
exp
電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理n在x
=x
處:在x
=-xp
處:
xn
0nxn
nnopxn
ppoe
0
/VT
xp
0p
xp
ppon
xp
nnoe
0
/VT
npo
pno電子與信息學(xué)院半導(dǎo)體器件物理npo
nnoe0
/VTpno
ppoe0
/VT這兩個(gè)表達(dá)式在下一節(jié)推導(dǎo)載流子濃度的邊界條件時(shí)要用到。上面得到的:平衡PN結(jié)中載流子濃度分布p
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