標準解讀
GB/T 28786-2012 是關于真空技術領域中,采用膠帶粘貼法測量真空鍍膜層與基體之間結合強度的標準。該標準詳細規(guī)定了使用膠帶(通常為透明或半透明的壓敏膠帶)來評估薄膜附著力的方法。適用于金屬、陶瓷等硬質(zhì)材料表面的薄膜,以及塑料和玻璃表面上的涂層。
按照此標準進行測試時,首先需要準備待測樣品,并確保其表面清潔無塵。然后選取一段長度適當?shù)哪z帶平鋪在試樣表面,通過手動或者工具施加一定的壓力以確保膠帶與樣品表面充分接觸。保持一定時間后迅速將膠帶從樣品上剝離,觀察并記錄下剝落情況,包括是否有涂層被帶走及其面積大小。根據(jù)這些信息可以對鍍膜層的結合力做出評價。
整個過程強調(diào)操作的一致性和可重復性,對于不同類型的材料可能還需要調(diào)整具體的操作參數(shù),如施壓時間和力度等。此外,還應注意選擇合適的膠帶類型,因為不同的膠帶可能會對測試結果產(chǎn)生影響。通過遵循本標準提供的指導原則,能夠較為準確地測定出各種條件下制備的真空鍍膜層與其基底之間的結合強度。
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....
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- 現(xiàn)行
- 正在執(zhí)行有效
- 2012-11-05 頒布
- 2013-03-01 實施




文檔簡介
ICS23160
J78.
中華人民共和國國家標準
GB/T28786—2012
真空技術真空鍍膜層結合強度測量方法
膠帶粘貼法
Vacuumtechnology—Methodsofbondingstrengthmeasurementforvacuum
coatingfilm—Measuringadhesionbytapetest
2012-11-05發(fā)布2013-03-01實施
中華人民共和國國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫總局發(fā)布
中國國家標準化管理委員會
中華人民共和國
國家標準
真空技術真空鍍膜層結合強度測量方法
膠帶粘貼法
GB/T28786—2012
*
中國標準出版社出版發(fā)行
北京市朝陽區(qū)和平里西街甲號
2(100013)
北京市西城區(qū)三里河北街號
16(100045)
網(wǎng)址
:
服務熱線
/p>
年月第一版
20133
*
書號
:155066·1-45998
版權專有侵權必究
GB/T28786—2012
前言
本標準按照給出的規(guī)則起草
GB/T1.1—2009。
本標準由中國機械工業(yè)聯(lián)合會提出
。
本標準由全國真空技術標準化技術委員會歸口
(SAC/TC18)。
本標準負責起草單位東莞勁勝精密組件股份有限公司
:。
本標準參加起草單位合肥工業(yè)大學成都南光機器有限公司安徽皖儀科技股份有限公司沈陽真
:、、、
空技術研究所
。
本標準主要起草人王長明張學章歐胤胡冰王旭迪胡煥林彭宏靳毅黃文平劉磊李春影
:、、、、、、、、、、、
王玲玲
。
Ⅰ
GB/T28786—2012
真空技術真空鍍膜層結合強度測量方法
膠帶粘貼法
1范圍
本標準規(guī)定了用膠帶粘貼檢測真空鍍膜膜層結合強度的測試方法對試驗工具樣本的采集要求和
,、
步驟結果評估與評定等內(nèi)容作了規(guī)定適用于膜層與塑料基片之間的結合強度測試
、,。
本標準適用于在-4的壓力范圍內(nèi)用蒸發(fā)濺射離子鍍等真空鍍膜方式在聚甲基丙
10Pa~10Pa,、、
烯酸甲酯聚對苯二甲酸乙二醇脂和聚碳酸酯等塑料基片上制備金屬膜層和非金
(PMMA)、(PET)(PC)
屬膜層也適用于其他真空鍍膜方法制備的膜層
,。
2規(guī)范性引用文件
下列文件對于本文件的應用是必不可少的凡是注日期的引用文件僅注日期的版本適用于本文
。,
件凡是不注日期的引用文件其最新版本包括所有的修改單適用于本文件
。,()。
塑料取樣方法
GB/T2547—2008
塑料試樣狀態(tài)調(diào)節(jié)和試驗的標準環(huán)境
GB/T2918—1998(ISO291:1997)
真空技術術語
GB/T3163—2007(ISO3529:1981)
電工用壓敏粘帶第部分試驗方法
IEC60454-2:20072:(Pressure-sensitiveadhesivetapesfor
electricalpurposes—Part2:Methodsoftest)
3術語和定義
界定的以及下列術語和定義適用于本文件
GB/T3163—2007。
31
.
真空鍍膜vacuumcoating
真空環(huán)境下在基片上制取膜層的一種方法
,。
32
.
基片substrate
膜層承受體
。
33
.
膜層樣本coatedsample
已制備的真空鍍膜膜層測試樣品或產(chǎn)品
。
34
.
真空蒸鍍vacuumevaporationcoating
使膜層材料蒸發(fā)到基片上的真空鍍膜過程
。
35
.
真空濺射vacuumsputtering
真空環(huán)境下
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