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文檔簡介
微電子技術(shù)專業(yè)《半導(dǎo)體器件》單元三雙極型晶體管小結(jié)講授教師:馬穎第
3
章晶體管的直流特性
3.1概述掌握晶體管的基本結(jié)構(gòu)及分類熟悉晶體管雜質(zhì)分布特點(diǎn)熟悉晶體管載流子濃度分布特點(diǎn)掌握晶體管的直流放大系數(shù)及特性曲線3.2平面晶體管的電流放大系數(shù)及影響電流放大系數(shù)的原因(略)3.3晶體管的反向電流了解各反向電流的特點(diǎn)3.4晶體管的擊穿電壓了解各擊穿電壓的特點(diǎn)3.5晶體管的基極電阻了解基極電阻的危害,及其減小方法一、晶體管的概述簡述晶體管的結(jié)構(gòu)、基本形式掌握晶體管2種基本形式的圖形符號(hào)晶體管按制作工藝和管芯結(jié)構(gòu)形式分類晶體管基區(qū)雜質(zhì)分布的兩種形式均勻分布(如合金管),稱為均勻基區(qū)晶體管。均勻基區(qū)晶體管中,載流子在基區(qū)內(nèi)的傳輸主要靠擴(kuò)散進(jìn)行,故又稱為擴(kuò)散型晶體管?;鶇^(qū)雜質(zhì)是緩變的(如平面管),稱為緩變基區(qū)晶體管。這類晶體管的基區(qū)往往以漂移運(yùn)動(dòng)為主。所以又稱為漂移型晶體管。一、晶體管的概述晶體管具有放大能力需具備哪些條件?(1)發(fā)射區(qū)雜質(zhì)濃度比基區(qū)雜質(zhì)濃度高得多,即NE遠(yuǎn)大于NB,以保證發(fā)射效率γ≈1;(2)基區(qū)寬度WB遠(yuǎn)小于LnB,保證基區(qū)輸運(yùn)系數(shù)β*≈1;(3)發(fā)射結(jié)必須正偏,使re很?。患娊Y(jié)反偏,使rc很大,rc遠(yuǎn)大于re。晶體管的共基極與共發(fā)射極直流放大系數(shù)之間的關(guān)系二、晶體管的反向電流關(guān)于反向電流ICB0與IEB0的特點(diǎn)鍺晶體管的反向電流主要是反向擴(kuò)散電流(少子電流)硅晶體管的反向電流主要是勢(shì)壘區(qū)的產(chǎn)生電流(多子電流)引起反向電流過大的原因往往是表面漏電流太大。因此,在生產(chǎn)過程中,搞好表面清潔處理及工藝規(guī)范是減小反向電流的關(guān)鍵。ICEO=,減小ICEO的方法:▲要減小ICE0,必須減小ICB0?!娏鞣糯笙禂?shù)β不要追求過高。
BVEB0的大小由發(fā)射結(jié)的雪崩擊穿電壓決定,BVCB0的大小由集電結(jié)的雪崩擊穿電壓決定BVCE0與BVCB0之間滿足關(guān)系:對(duì)于NPN的Si管,n=4,PNP的Ge管n=6
什么是負(fù)阻擊穿現(xiàn)象?當(dāng)VCE達(dá)到BVCE0時(shí)發(fā)生擊穿,擊穿后電流上升,電壓卻反而降低。
三、晶體管的擊穿電壓第
4
章晶體管的頻率特性與功率特性
4.1晶體管的頻率特性(理解3個(gè)頻率的概念、提高特征頻率的途徑,掌握交流αβ的公式及特點(diǎn))4.2高頻等效電路(理解3個(gè)參數(shù)及其特點(diǎn))4.3高頻功率增益和最高振蕩頻率(理解最高功率增益、高頻優(yōu)值的概念、提高功率增益的途徑)4.4晶體管的大電流特性(熟悉三個(gè)效應(yīng)的機(jī)理)4.5晶體管的最大耗散功率PCm和熱阻RT(熟悉特點(diǎn)及分類)4.6功率晶體管的二次擊穿和安全工作區(qū)(掌握二次擊穿的概念及其兩個(gè)機(jī)理,理解安全工作區(qū)圖形中各線條、區(qū)域表示的含義)一、晶體管的頻率特性當(dāng)頻率升高時(shí),晶體管的結(jié)電容變大,使晶體管的放大能力下降。請(qǐng)列出4個(gè)主要的高頻參數(shù)截止頻率、特征頻率高頻功率增益、最高振蕩頻率fα稱為共基極截止頻率,反映了電流放大系數(shù)α的幅值|α|隨頻率上升而下降的快慢。fα表示共基極短路電流放大系數(shù)的幅值|α|下降到低頻值α0的
時(shí)的頻率?;蛘哒f是|α|比低頻α0下降3dB時(shí)的頻率。一、晶體管的頻率特性fβ稱為共發(fā)射極截止頻率表示共基極短路電流放大系數(shù)的幅值|β|下降到低頻值β0的
時(shí)的頻率?;蛘哒f是|β|比低頻β0下降3dB時(shí)的頻率。fT稱為特征頻率表示共射短路電流放大系數(shù)的幅值下降到|β|=1時(shí)的頻率。是晶體管在共射運(yùn)用中具有電流放大作用的頻率極限。
幾個(gè)頻率參數(shù)間的關(guān)系
fm稱為最高振蕩頻率,表示最佳功率增益GPm=1時(shí)的頻率,是晶體管具有功率增益的頻率極限。
交流放大系數(shù)α=
,說明α是一個(gè)復(fù)數(shù),其幅值隨著頻率的升高而下降,相位差隨著頻率的升高而增大。α截止頻率fα=
。τe為發(fā)射極延遲時(shí)間τb對(duì)發(fā)射結(jié)處,基區(qū)側(cè)擴(kuò)散電容CDe的充電延遲時(shí)間。τc集電極延遲時(shí)間τd為集電結(jié)空間電荷區(qū)延遲時(shí)間m
為超相移因子(剩余相因子)。一、晶體管的頻率特性交流放大系數(shù)β=
,說明β是一個(gè)復(fù)數(shù),其幅值隨著頻率的升高而下降,相位差隨著頻率的升高而增大。β截止頻率fβ=
。τe0為載流子從發(fā)射極到集電極總的傳輸延遲時(shí)間
fβ與fα的關(guān)系:
可以看出
。說明:共射短路電流放大系數(shù)β比共基短路電流放大系數(shù)α下降更快。因此,共基電路比共射電路頻帶更寬。
一、晶體管的頻率特性晶體管的特征頻率fT=
。提高特征頻率的途徑有哪些?
一、晶體管的頻率特性減小基區(qū)寬度Wb
;縮小結(jié)面積A;適當(dāng)降低集電區(qū)電阻率ρc
;適當(dāng)減小集電區(qū)厚度Wc
;盡量減小延伸電極面積。三、高頻功率增益和最高振蕩頻率功率增益表示晶體管對(duì)功率的放大能力。等于輸出功率和輸入功率的比值。最佳功率增益GPm指信號(hào)源所供給的最大功率與晶體管向負(fù)載輸出的最大功率之比,即是輸入輸出阻抗各自匹配時(shí)的功率增益。最高振蕩頻率是最佳功率增益GPm=1時(shí)的頻率,它是晶體管真正具有功率放大能力的頻率限制。高頻優(yōu)值又稱增益-帶寬乘積,反映了晶體管的功率和頻率性能,而且只與晶體管本身的參數(shù)有關(guān)。三、高頻功率增益和最高振蕩頻率提高功率增益的途徑●提高晶體管的特征頻率;●適當(dāng)提高基區(qū)雜質(zhì)濃度,以減小基極電阻rb;●盡量縮小集電結(jié)和延伸電極面積,以減小勢(shì)壘電容和延伸電極電容;●盡量減小發(fā)射極引線電感和其他寄生參數(shù);●選用合適的管殼,以獲得最佳高頻優(yōu)值。四、晶體管的大電流特性集電極最大電流IcM指共發(fā)射極直流短路電流放大系數(shù)下降到其最大值βM的一半時(shí)所對(duì)應(yīng)的集電極電流。要提高晶體管的輸出功率就必須提高集電極最大電流ICM。提高工作電流的唯一方法是增加電流密度。大電流工作時(shí)產(chǎn)生的三個(gè)效應(yīng)。基區(qū)電導(dǎo)調(diào)制效應(yīng)有效基區(qū)寬度擴(kuò)展效應(yīng)[kirk(克而克)效應(yīng)]
發(fā)射極電流集邊效應(yīng)又稱為基區(qū)電阻自偏壓效應(yīng)
四、晶體管的大電流特性發(fā)射極電流集邊效應(yīng)由基區(qū)電阻的不均勻所導(dǎo)致。發(fā)射極條寬越寬,距離發(fā)射極中心越遠(yuǎn),則基區(qū)橫向壓降越大,發(fā)射極電流集邊效應(yīng)就越明顯。工作電流越大,基區(qū)橫向壓降也越大,發(fā)射極電流集邊效應(yīng)也就越明顯。防止發(fā)射極電流集邊效應(yīng)產(chǎn)生的方法是盡量縮小發(fā)射極寬度。五、晶體管的最大耗散功率和熱阻晶體管的功率主要耗散在集電結(jié)上。熱阻表示晶體管散熱能力的大小,等于任意兩點(diǎn)間的溫差與其熱流之比。熱阻分為穩(wěn)態(tài)熱阻(直流工作狀態(tài)下的熱阻RT)和瞬態(tài)熱阻(在開關(guān)和脈沖電路中,隨時(shí)間變化的晶體管的熱阻RTs)。提高晶體管最大耗散功率的主要措施有哪些?盡量降低晶體管的熱阻RT;選用最高結(jié)溫Tjm高的材料;盡量降低使用時(shí)的環(huán)境溫度Ta。六、功率晶體管的二次擊穿和安全工作區(qū)二次擊穿的概念兩種二次擊穿的機(jī)理晶體管的安全工作區(qū)的概念器件承受的電壓突然降低,電流繼續(xù)增大,器件由高壓小電流狀態(tài)突然躍入低壓大電流狀態(tài)的一種現(xiàn)象。
●熱型又稱熱不穩(wěn)定型,是局部溫度升高和電流集中往復(fù)循環(huán)的結(jié)果。熱型二次擊穿的觸發(fā)時(shí)間較長屬于慢速型?!耠娏餍陀址Q雪崩注入型由雪崩注入引起,是快速型的二次擊穿。
晶體管能安全可靠地工作,并具有較長壽命的工作范圍。由最大集電極電流ICM,極限電壓BVCE0,最大功耗線和二次擊穿臨界線PsB所限定的區(qū)域。第
5
章晶體管的開關(guān)特性
5.1二極管的開關(guān)作用和反向恢復(fù)時(shí)間5.2開關(guān)晶體管的靜態(tài)特性(會(huì)通過計(jì)算判斷晶體管的開關(guān)工作類型)5.3晶體管開關(guān)的動(dòng)態(tài)特性(掌握四個(gè)動(dòng)態(tài)過程及其時(shí)間)一、二極管的開關(guān)作用和反向恢復(fù)時(shí)間雙極型器件與場效應(yīng)晶體管的導(dǎo)電機(jī)理有何不同?晶體管的開關(guān)特性包括哪些?儲(chǔ)存時(shí)間ts和下降時(shí)間tf之和稱為P-N結(jié)的關(guān)斷時(shí)間,又稱反向恢復(fù)時(shí)間。要保持良好的開關(guān)作用,脈沖持續(xù)時(shí)間要比二極管反向恢復(fù)時(shí)間長得多,也就意味著脈沖的重復(fù)頻率不能太高。雙極型器件是一種電子與空穴皆參與導(dǎo)電過程的半導(dǎo)體器件。場效應(yīng)晶體管是只由一種載流子參與傳導(dǎo)的半導(dǎo)體器件。晶體管處于開態(tài)和關(guān)態(tài)時(shí)端電流電壓間的靜態(tài)特性;在開態(tài)和關(guān)態(tài)之間轉(zhuǎn)換時(shí),電流電壓隨時(shí)間變化的瞬態(tài)特性。二、開關(guān)晶體管的靜態(tài)特性
晶體管各工作區(qū)的結(jié)電壓偏置情況如何?工作區(qū)結(jié)電壓放大區(qū)倒向放大區(qū)截止區(qū)飽和區(qū)臨界飽和狀態(tài)過驅(qū)動(dòng)狀態(tài)集電結(jié)反偏正偏反偏零偏正偏發(fā)射極正偏反偏反偏正偏正偏晶體管工作在放大區(qū)的開關(guān)電路,稱為非飽和開關(guān)。這種工作模式,一般用在高速開關(guān)電路中。將晶體管導(dǎo)通后,工作在飽和區(qū)的開關(guān)電路,稱為飽和開關(guān),此類開關(guān)接近于理想開關(guān)。二、開關(guān)晶體管的靜態(tài)特性
圖示電路,用硅晶體管做為開關(guān)管使用接入電路中,已知其β,VBB,VCC,RL,RB,輸入正脈沖信號(hào)幅值VI等參數(shù);①試判斷晶體管的工作狀態(tài)如何?②試判斷該電路為飽和開關(guān)電路還是非飽和開關(guān)電路?③若為過驅(qū)動(dòng)狀態(tài),會(huì)計(jì)算其過驅(qū)動(dòng)電流、飽和深度。分析若IB=IBS,則晶體管處于
狀態(tài)。若IB>IBS,則晶體管處于
狀態(tài)。若IB<IBS,則晶體管處于
狀態(tài)。臨界飽和過驅(qū)動(dòng)放大通過基極驅(qū)動(dòng)電流的大小來判斷。二、開關(guān)晶體管的靜態(tài)特性
圖示電路,用硅晶體管做為開關(guān)管使用接入電路中,已知其β,VBB,VCC,RL,RB,輸入正脈沖信號(hào)幅值VI等參數(shù);①試判斷晶體管的工作狀態(tài)如何?②試判斷該電路為飽和開關(guān)電路還是非飽和開關(guān)電路?③若為過驅(qū)動(dòng)狀態(tài),會(huì)計(jì)算其過驅(qū)動(dòng)電流、飽和深度。計(jì)算基極驅(qū)動(dòng)電流和基極臨界飽和電流三、晶體管開關(guān)的動(dòng)態(tài)特性晶體管的開關(guān)過程有那幾個(gè)動(dòng)態(tài)過程?
延遲過程、上升過程、超量儲(chǔ)存電荷消失過程、下降過程右圖中的td、tr、ts、tf分別代表什么時(shí)間?
td為延遲時(shí)間、tr為上升時(shí)間
ts為儲(chǔ)存時(shí)間、tf為下降時(shí)間晶體管的開啟時(shí)間
。關(guān)斷時(shí)間
。若晶體管的開關(guān)時(shí)間比輸入脈沖持續(xù)時(shí)間短,它就有良好的開關(guān)作用。三、晶體管開關(guān)的動(dòng)態(tài)特性(1)ICE0小,使開關(guān)電路截止時(shí)接近于斷路(開路),關(guān)斷性良好;(2)VCES小,使開關(guān)電路接通時(shí)接近于短路狀態(tài),接通性良好;(3)開關(guān)時(shí)間盡可能短,要比輸入脈沖持續(xù)時(shí)間短,使晶體管的關(guān)斷性良好;(4)啟動(dòng)功率小,啟動(dòng)功率是晶體管從截止態(tài)轉(zhuǎn)變?yōu)轱柡蛻B(tài)時(shí)所需的功率IBVBES;(5)開關(guān)功率大,即要求在截止態(tài)時(shí)能承受較高的反向電壓,在導(dǎo)通時(shí),允許通過較大的電流;
為使晶體管具有良好的開關(guān)狀態(tài),需具備哪些要求?第6章
雙極型晶體管的設(shè)計(jì)簡述晶體管設(shè)計(jì)時(shí)應(yīng)考慮哪3方面的參數(shù)?各有什么分類和哪些具體的參數(shù)?結(jié)構(gòu)參數(shù)工藝參數(shù)電學(xué)參數(shù)直流參數(shù)反向飽和電流(ICBO、IEBO、ICEO)直流電流放大系數(shù)(α、β)發(fā)射結(jié)正向壓降(VBE)飽和壓降(VCES)交流參數(shù)特征頻率(fT)、功率增益(GP)噪聲系數(shù)(NF)、開關(guān)時(shí)間(ton、toff)極限參數(shù)
最大集電極電流(ICM)擊穿電壓(BVCBO、BVEBO、BVCEO)最大集電極耗散功率(PCM)二次擊穿臨界功率(VsB)縱向結(jié)構(gòu)參數(shù)基區(qū)寬度(Wb)外延層的電阻率(ρc)和厚度(W’C)集電結(jié)和發(fā)射結(jié)結(jié)深(xjc、xje)各區(qū)的雜質(zhì)濃度橫向結(jié)構(gòu)參數(shù)發(fā)射極總周長(LE)
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