鍍膜工藝技術(shù)

鍍膜技術(shù)鍍膜概要?玻璃工業(yè)中的鍍膜技術(shù)--在線鍍膜--離線鍍膜?鍍膜應(yīng)用--低輻射--太陽能控制鍍膜--自動清潔鍍膜?玻璃行業(yè)應(yīng)用了許多種鍍膜技術(shù)--噴霧熱解法--噴粉系統(tǒng)--化學(xué)氣相淀積法--濺射鍍膜--熱蒸發(fā)鍍膜--凝膠鍍膜法?這些技術(shù)應(yīng)用于：--在線，如浮法線生產(chǎn)出的玻璃（CVD）--離線，如配料工藝（PVD）化學(xué)氣相淀積法（CVD）化學(xué)氣相淀積法又稱熱解鍍膜法，是一種在線鍍膜法，當(dāng)熱玻璃還在浮法線上時就將膜直接涂在上面。在CVD方法中，原始化學(xué)物(氣體和液體)在一反應(yīng)器中蒸發(fā)，蒸發(fā)產(chǎn)生的氣體混合物都附著在正在生成的新玻璃帶上。在玻璃上面和不斷增加的沉積膜表面的氣體會發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。用這種方法生成的第一次鍍膜的是氧化錫，氧化錫來自一種有機(jī)化合物如((CH3)2SnCl2)和氧氣。在線CVD工藝迅速而且便宜，因?yàn)椴Ａ歉鶕?jù)其形成而鍍膜的。溫度控制也簡便，因?yàn)橄到y(tǒng)的大量的熱量使得玻璃帶的溫度相對統(tǒng)一。在線鍍膜玻璃平整，并能適當(dāng)退火，使得后加工程序最小化。CVD方法鍍的膜比濺射鍍膜法鍍的膜牢固，因?yàn)槭窃诟邷?600-700°C)下沉積形成的。這樣玻璃彎曲和鋼化時膜也能夠保持其完整性。但是，CVD目前還沒有廣泛應(yīng)用磁控濺射來使大量材料和化學(xué)物沉積。因?yàn)椴ＡЩ逶诟》ň€向下移動時速度為1英尺/秒，只有1--1.5秒時間鍍膜。這就要求沉積非常快的化學(xué)物(600-1000A/S),至今為止只有有限的幾種材料可以做到。CVD鍍膜的光學(xué)特性雖然在多數(shù)建筑應(yīng)用中很好，但是目前還不能滿足應(yīng)用需求。而濺射鍍膜可以實(shí)現(xiàn)低太陽能穿透率。因此，汽車太陽能控制中主要使用濺射鍍膜法。在線CVD或熱解工藝?當(dāng)玻璃還在浮法玻璃生產(chǎn)線退火爐上熱著(600-700C)的時候就將金屬氧化物直接涂在上面。?優(yōu)點(diǎn)：低成本，高產(chǎn)量(300+t/d),硬、高密度鍍膜且附著力好，大部分成分可為沉淀統(tǒng)一的、廣泛的微結(jié)構(gòu)材料。?缺點(diǎn)：復(fù)雜的難懂的化學(xué)物，在線鍍膜要求極快的沉積(60T00nm/s),有些基板受化學(xué)物和溫度的影響，其光學(xué)特性不如濺射鍍膜的效果，不容易成形。離線PVD或真空法?玻璃成品在真空條件下涂一層或多層金屬氧化物。?優(yōu)點(diǎn)：能夠使純金屬物和金屬化合物（氧化物、氮化物等）、容易獲取的原始物質(zhì)，UV和IR的較好的反射器等附著。?浸沒工藝?金屬薄片?屏蔽鍍膜在線鍍膜主要問題包括：需要設(shè)計(jì)對厚度無要求的薄膜，使4m寬玻璃帶的產(chǎn)量最大化。開發(fā)新型CVD化學(xué)物，使其能夠與較短的停留時間相適應(yīng)（浮法線玻璃帶速度很快）。設(shè)計(jì)靈活的反應(yīng)器，產(chǎn)生高效率淀積，同時允許產(chǎn)品之間靈活的交換。要實(shí)現(xiàn)未來在線鍍膜技術(shù)產(chǎn)品必須研發(fā)新的鍍膜材料，這就要開發(fā)新型原始材料、更快的淀積方法（CVD和建設(shè)鍍膜），提高對淀積工藝的理解。同時要求在更高溫度下能夠進(jìn)行好的工藝控制。但是要完成這些目標(biāo)還存在不少技術(shù)阻礙，包括缺少鍍膜工藝需要的關(guān)鍵資料，對鍍膜特性理解不夠，以及需要有雙重在線