進(jìn)入濺射靶材行業(yè)的主要壁壘分析

進(jìn)入濺射靶材行業(yè)的主要壁壘分析進(jìn)入濺射靶材行業(yè)的主要壁壘（一）濺射靶材行業(yè)技術(shù)壁壘高性能濺射靶材是典型的技術(shù)密集型行業(yè)。濺射靶材的性能影響下游客戶的鍍膜質(zhì)量，濺射靶材的純度、致密度和成分均勻性、晶粒等對靶材性能都有一定影響，但不同應(yīng)用的材料品種和性能要求各有側(cè)重。如平面顯示靶材面積大對均勻性、綁定率要求高；半導(dǎo)體靶材對純度要求高等。以上相關(guān)的技術(shù)要求都對應(yīng)了較高的技術(shù)門檻，包括粉末制備、塑性加工、熱處理和機(jī)械加工等技術(shù)環(huán)節(jié)，都對生產(chǎn)廠商的生產(chǎn)技術(shù)、機(jī)器設(shè)備、工藝流程和工作環(huán)境都提出了非常嚴(yán)格的要求。長期以來，以美國、日本為代表的高性能濺射靶材生產(chǎn)商在掌握核心技術(shù)以后，執(zhí)行非常嚴(yán)格的保密和專利授權(quán)措施，這對新進(jìn)入行業(yè)的企業(yè)設(shè)定了較高的技術(shù)門檻。（二）濺射靶材行業(yè)客戶認(rèn)證壁壘高性能濺射靶材技術(shù)含量高，其產(chǎn)品質(zhì)量、性能指標(biāo)直接決定了終端產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性，屬于下游客戶在生產(chǎn)中使用的關(guān)鍵材料。因此，高性能濺射靶材行業(yè)存在嚴(yán)格的供應(yīng)商認(rèn)證機(jī)制，同時滿足下游客戶的質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)和性能要求，方能成為合格供應(yīng)商。通常情況下，半導(dǎo)體芯片、平面顯示器、太陽能電池等下游客戶對濺射靶材供應(yīng)商的認(rèn)證過程主要包括供應(yīng)商初評、產(chǎn)品報價、樣品檢測、小批量試用、穩(wěn)定性檢測、批量生產(chǎn)等幾個階段，認(rèn)證過程較為苛刻，認(rèn)證周期較長。以平面顯示行業(yè)為例，在客戶一條世代線上完成濺射靶材的認(rèn)證，一般至少需要2-3年的時間。如果該客戶擁有多條世代線的，供應(yīng)廠商若想批量供應(yīng)至其他世代線，則每一條都必須經(jīng)過認(rèn)證，但在沒有完成第一條世代線的認(rèn)證前，無法同時對該客戶其他世代線進(jìn)行認(rèn)證。因此，在認(rèn)證過程中供應(yīng)廠商投入的資金和時間成本，對多數(shù)行業(yè)內(nèi)中小企業(yè)而言，往往難以承受。由于平面顯示行業(yè)固定資產(chǎn)投入金額巨大，往往一條高世代線的建設(shè)成本為200-300億元，考慮到產(chǎn)線折舊等因素，引入新合格供應(yīng)商的成本及風(fēng)險遠(yuǎn)高于收益，客戶一般傾向于與已通過認(rèn)證的供應(yīng)商長期合作，不斷加大對該類供應(yīng)商產(chǎn)線的開放認(rèn)證。因此，新進(jìn)入行業(yè)內(nèi)企業(yè)面臨著較高的客戶認(rèn)證壁壘。（三）濺射靶材行業(yè)資金壁壘高性能濺射靶材行業(yè)亦屬于資金密集型產(chǎn)業(yè)。一方面，靶材生產(chǎn)企業(yè)的固定資產(chǎn)投資較大。除廠房投入外，企業(yè)需要投入大量的資金購置不同種類的生產(chǎn)設(shè)備，同時需要配套先進(jìn)的檢測設(shè)備以保障產(chǎn)品質(zhì)量；另一方面，隨著下游應(yīng)用領(lǐng)域的發(fā)展速度不斷加快，尤其是終端電子消費品的市場競爭加劇，生產(chǎn)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)越來越嚴(yán)格，行業(yè)內(nèi)企業(yè)需要不斷加大對產(chǎn)品研發(fā)、技術(shù)裝備的投資力度，才能在激烈的市場競爭中持續(xù)發(fā)展。（四）濺射靶材行業(yè)人才壁壘高性能濺射靶材的技術(shù)及生產(chǎn)工藝涉及到材料學(xué)、物理學(xué)、化學(xué)、工程學(xué)等多個學(xué)科，技術(shù)含量高、工藝復(fù)雜，研發(fā)和制造需要大批具有深厚專業(yè)背景、豐富實踐經(jīng)驗的復(fù)合型技術(shù)人才。由于前期美國、日本、韓國等跨國集團(tuán)壟斷了高性能濺射靶材的核心技術(shù)和關(guān)鍵設(shè)備，導(dǎo)致國內(nèi)高性能濺射靶材產(chǎn)業(yè)起步較晚，行業(yè)內(nèi)符合以上條件的專業(yè)人才數(shù)量較少，對新進(jìn)入行業(yè)的企業(yè)形成了一定的人才壁壘。濺射靶材中游分析（一）濺射靶材市場規(guī)模在經(jīng)濟(jì)快速發(fā)展以及技術(shù)創(chuàng)新推動下，我國芯片、光伏高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)獲得快速發(fā)展，隨著市場需求不斷釋放，濺射靶材行業(yè)規(guī)模將進(jìn)一步擴(kuò)大。在應(yīng)用需求帶動下，我國濺射靶材市場規(guī)模不斷擴(kuò)大。2021年我國濺射靶材市場規(guī)模達(dá)375．8億元，同比增長9．7％。（二）高性能濺射靶材市場規(guī)模中國高性能濺射靶材行業(yè)在國家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動高性能濺射靶材市場規(guī)模不斷擴(kuò)大。中國高性能濺射靶材市場規(guī)模由2016年的98．9億元增長至2020年的201．5億元，年均復(fù)合增長率為19．47%，預(yù)計2022年市場規(guī)模將達(dá)288．1億元。（三）ITO靶材市場規(guī)模中國已成為世界上最大的銦靶材需求國。2019年至2021年，我國ITO靶材市場容量從639噸增長到1002噸，年復(fù)合增長率為25．22%。未來2-3年內(nèi)，雖然國內(nèi)平面顯示行業(yè)的固定資產(chǎn)投資增速將有所放緩，但由于平面顯示行業(yè)存量需求及太陽能光伏電池的增量需求，國內(nèi)ITO靶材市場容量仍將保持一定幅度的增長。預(yù)計2022年能達(dá)到1067噸，2024年達(dá)到1207噸。（四）濺射靶材競爭格局全球靶材市場呈寡頭競爭格局，日美在高端濺射靶材領(lǐng)域優(yōu)勢明顯。目前，全球濺射靶材市場主要有四家企業(yè)，分別是JX日礦金屬、霍尼韋爾、東曹和普萊克斯，市場份額分別為30%、20%、20%和10%，合計壟斷了全球80%的市場份額。濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈中國濺射靶材上游為各種原材料，包括金屬、合金、陶瓷化合物；中游主要為靶材制造、濺射鍍膜；下游廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、平面顯示、信息存儲、太陽能電池、智能玻璃等。中國濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈上游金屬上市企業(yè)包括新疆眾和、天山鋁業(yè)、銅陵有色、安寧股份、中環(huán)股份等，合金企業(yè)包括江贛鋒鋰業(yè)、興業(yè)礦業(yè)、浙富控股、廈門鉤業(yè)、寒銳鉆業(yè)等。中游的濺射靶材企業(yè)主要為日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯、有研新材、金鉬股份、新疆眾和、隆華科技、江豐電子、康達(dá)新材、阿石創(chuàng)、超卓航科等。下游集成電路企業(yè)包括中芯國際、長電科技、韋爾股份、通富微電、華天科技等，太陽能電池企業(yè)包括通威股份、隆基綠能、天合光能、晶科能源、TCL中環(huán)等。濺射靶材發(fā)展趨勢近年來我國對濺射靶材行業(yè)重視程度不斷提升，各類政策出臺推動行業(yè)積極發(fā)展，明確對于國內(nèi)靶材企業(yè)進(jìn)口國內(nèi)不能生產(chǎn)、性能不滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料及消耗品免征進(jìn)口關(guān)稅。在國內(nèi)良好的政策環(huán)境和各細(xì)分市場廣闊的市場空間下，國內(nèi)濺射靶材企業(yè)市占率提升空間大，機(jī)會逐步開啟。此外高性能濺射靶材是顯示面板、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄媒體不可缺少的原材料，進(jìn)而廣泛應(yīng)用于消費電子、智能家電、通信照明、光伏、計算機(jī)、工業(yè)控制、汽車電子等多個下游應(yīng)用領(lǐng)域。我國是全球最大的消費電子產(chǎn)品生產(chǎn)國、出口國和消費國，也是全球最大的集成電路半導(dǎo)體消費國和進(jìn)口國，在最終下游眾多生產(chǎn)及消費領(lǐng)域的需求驅(qū)動了我國高性能濺射靶材行業(yè)快速增長。因此，未來高性能濺射靶材行業(yè)高速成長的確定性較高，基本不會受到偶發(fā)性或突發(fā)性因素影響。隨著全球平面顯示、半導(dǎo)體、太陽能電池、記錄存儲等行業(yè)生產(chǎn)規(guī)模持續(xù)擴(kuò)張，直接帶動了高性能濺射靶材行業(yè)的發(fā)展，使得中國國內(nèi)濺射靶材使用量快速增長，給國內(nèi)濺射靶材廠商帶來良好的發(fā)展機(jī)遇。濺射靶材指采用物理氣相沉積技術(shù)在基材上制備薄膜的原材料，靶材是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，更換不同的靶材可以得到不同的薄膜。濺射靶材是PVD（物理氣相沉積）領(lǐng)域內(nèi)應(yīng)用量最大的鍍膜材料。濺射是制備薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用荷能粒子（通常是離子），在真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的粒子束流，轟擊固體表面，粒子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基板表面，被轟擊的固體即為濺射靶材。濺射靶材的種類較多，即使相同材質(zhì)的濺射靶材也有不同的規(guī)格。按照不同的分類方法，可將濺射靶材分為不同的類別。濺射技術(shù)作為薄膜材料制備的主流工藝，其應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，如平面顯示、集成電路半導(dǎo)體、太陽能電池、信息存儲、工具改性、光學(xué)鍍膜、電子器件、高檔裝飾用品等行業(yè)。濺射靶材產(chǎn)業(yè)集中度高、技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對較少，國內(nèi)高性能濺射靶材市場尚處于發(fā)展初期，具有規(guī)?；a(chǎn)能力和較強(qiáng)研發(fā)能力的廠商數(shù)量仍然偏少，隨著全球分工及產(chǎn)業(yè)鏈轉(zhuǎn)移，國內(nèi)廠商正處于對國際廠商的加速替代過程中，已有如江豐電子、阿石創(chuàng)、有研新材、隆華科技、先導(dǎo)薄膜、歐萊新材以及映日科技等公司掌握了高性能濺射靶材研發(fā)及生產(chǎn)環(huán)節(jié)的相關(guān)技術(shù)并可以進(jìn)行批量生產(chǎn)。20世紀(jì)90年代以來，隨著消費電子等終端應(yīng)用市場的高速發(fā)展，濺射靶材的市場規(guī)模日益擴(kuò)大，呈現(xiàn)高速增長的勢頭。受到發(fā)展歷史及技術(shù)限制的影響，我國濺射靶材行業(yè)起步較晚，目前多數(shù)濺射靶材企業(yè)產(chǎn)品仍主要應(yīng)用于下游的中低端產(chǎn)品，高端濺射靶材產(chǎn)品則多為國外進(jìn)口。我國高性能濺射靶材行業(yè)在國家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動高性能濺射靶材市場規(guī)模不斷擴(kuò)大。濺射靶材行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀近年來我國對濺射靶材行業(yè)重視程度不斷提升，各類政策出臺推動行業(yè)積極發(fā)展。例如2019年《十四五規(guī)劃和2035年遠(yuǎn)景目標(biāo)剛要》提出集成電路攻關(guān)方面，以重點裝備和高純靶材等關(guān)鍵材料為研發(fā)方向。2021年3月，財政部、海關(guān)總署等聯(lián)合發(fā)布《關(guān)于支持集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)發(fā)展進(jìn)口稅收政策的通知》，明確對于國內(nèi)靶材企業(yè)進(jìn)口國內(nèi)不能生產(chǎn)、性能不滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料及消耗品免征進(jìn)口關(guān)稅。在國內(nèi)良好的政策環(huán)境和各細(xì)分市場廣闊的市場空間下，國內(nèi)濺射靶材企業(yè)市占率提升空間大，機(jī)會逐步開啟。隨著政策利好、以及在技術(shù)創(chuàng)新推動下芯片、光伏高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)需求不斷釋放，我國濺射靶材行業(yè)規(guī)模不斷擴(kuò)大。數(shù)據(jù)顯示，2021年我國濺射靶材市場規(guī)模達(dá)375．8億元，同比增長9．7%。預(yù)計2022年我國濺射靶材市場規(guī)模將達(dá)到410億元。其中高性能濺射靶材市場在國家戰(zhàn)略政策支持以及下游眾多應(yīng)用領(lǐng)域需求的支撐下，行業(yè)技術(shù)不斷突破，產(chǎn)品性能不斷提升，帶動市場規(guī)模不斷擴(kuò)大。數(shù)據(jù)顯示，2021年我國高性能濺射靶材市場規(guī)模由2016年的98．9億元增長至241．8億元，預(yù)計2022年市場規(guī)模將達(dá)288．1億元。ITO靶材市場容量也在不斷擴(kuò)張。有數(shù)據(jù)顯示，2019-2021年，我國ITO靶材市場容量從639噸增長到1002噸，年復(fù)合增長率為25．22%。預(yù)計2022年我國ITO靶材市場容量能達(dá)到1067噸。平板顯示靶材應(yīng)用場景平板顯示主要包括液晶顯示（LCD）、等離子顯示（PDP）、有機(jī)發(fā)光二極管顯示（OLED）等，多由金屬電極、透明導(dǎo)電極、絕緣層、發(fā)光層組成，為了保證大面積膜層的均勻性，提高生產(chǎn)率和降低成本，濺射技術(shù)越來越多地被用來制備這些膜層。平板顯示鍍膜用濺射靶材主要品種有：鉬靶、鋁靶、鋁合金靶、鉻靶、銅靶、銅合金靶、硅靶、鈦靶、鈮靶和氧化銦錫（ITO）靶材等。若根據(jù)工藝的不同，F(xiàn)PD行業(yè)用靶材也可大致分為濺射用靶材和蒸鍍用靶材。其中濺射用靶材主要為Cu、Al、Mo和IGZO等材料。蒸鍍用靶材一般為Ag和Mg兩種金屬。Ag和Mg合金一般用于小尺寸OLED面板產(chǎn)線中的陰極制作。除此以外，Ag也可以作為頂發(fā)射OLED器件中的陽極反射層使用。薄膜晶體管液晶顯示面板TFT-LCD由大量的液晶顯示單元陣列組成（如4K分辨率的屏幕含有800多萬個顯示單元陣列），而每一個液晶顯示單元，都由一個單獨的薄膜晶體管（TFT）所控制和驅(qū)動。薄膜晶體管陣列的制作原理，是在真空條件下，利用離子束流去轟擊靶材，使固體表面的原子電離后沉積在玻璃基板上，經(jīng)過反復(fù)多次的沉積+刻蝕，一層層（一般為7－12層）地堆積制作出薄膜晶體管陣列。OLED典型結(jié)構(gòu)是在氧化銦錫（ITO）玻璃上制作一層幾十納米厚的發(fā)光材料，ITO透明電極作為器件的陽極，鉬或者合金材料作為器件的陰極。從陰陽2極分別注入電子和空穴，在一定電壓驅(qū)動下，被注入的電子和空穴分別經(jīng)過電子傳輸層和空穴傳輸層遷移到發(fā)光層并復(fù)合，形成激子并使發(fā)光分子產(chǎn)生單態(tài)激子，單態(tài)激子衰減發(fā)光。濺射靶材上游分析2021年國內(nèi)共生產(chǎn)高純鋁14．6萬噸，同比增長9．77%，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計，2016年中國的高純鋁產(chǎn)量為11．8萬噸，2020年增至13．3萬噸，年均復(fù)合增長率為3．0%。2021年全球經(jīng)濟(jì)復(fù)蘇疊加新能源汽車需求爆發(fā)，下游需求旺盛，高純鋁產(chǎn)量再創(chuàng)新高。預(yù)計2022年高純鋁產(chǎn)量將繼續(xù)保持增長，將達(dá)15．4萬噸。以純銅或銅合金制成各種形狀包括棒、線、板、帶、條、管、箔等統(tǒng)稱銅材。近年來中國銅材產(chǎn)量整體保持增長趨勢，2022年9月中國銅材產(chǎn)量222．1萬噸，同比增長9．5%；1-9月累計產(chǎn)量1636．6萬噸，同比下降0．5%。濺射靶材應(yīng)用場景半導(dǎo)體芯片是對濺射靶材的成分、組織和性能要求的最高的領(lǐng)域。具體來講，半導(dǎo)體芯片的制作過程可分為硅片制造、晶圓制造和芯片封裝等三大環(huán)節(jié)，其中，在晶圓制造和芯片封裝這兩個環(huán)節(jié)中都需要用到金屬濺射靶材。靶材在晶圓制造環(huán)節(jié)主要被用作金屬濺鍍，常采用PVD工藝進(jìn)行鍍膜，通常使用純度在99．9995%（5N5）及以上的銅靶、鋁靶、鉭靶、鈦靶以及部分合金靶等；靶材在芯片封裝環(huán)節(jié)常用作貼片焊線的鍍膜，常采用高純及超高純金屬銅靶、鋁靶、鉭靶等。具體來看，半導(dǎo)體領(lǐng)域用量較多的濺射靶材主要有鉭靶、銅靶、鋁靶、鈦靶等，其中銅靶和鉭靶多配合起來使用，分別用于生成