鍍膜機(jī)的基本結(jié)構(gòu)-課件

介紹Optorun光學(xué)鍍膜設(shè)備設(shè)備型號講解設(shè)備型號舉例：OTFC

1300

DBI設(shè)備種類大小配置設(shè)備種類分為OTFC和Gener真空室大小分為600、900、1300、1550、1800、2350配置說明：

C:冷凝泵

D:擴(kuò)散泵

B:電子槍

I:離子源設(shè)備機(jī)構(gòu)總成真空腔體抽氣以及排氣系統(tǒng)真空測量儀器全自動蒸發(fā)控制系統(tǒng)真空室加熱、基板系統(tǒng)基板高速旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)電子束蒸發(fā)系統(tǒng)RF射頻離子源高精度光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)石英晶振以及速率監(jiān)控系統(tǒng)真空壓力自動控制系統(tǒng)冷卻水壓縮空氣系統(tǒng)冷凝器

一、真空腔體1.觀察基板窗口觀察基板窗口成膜時通過觀察窗可了解真空室內(nèi)的情況觀察蒸發(fā)源2.遙控盒功能MASKNO下降、EX抬起SHUTTER

IB:離子源擋板開關(guān)

EB1:電子槍1擋板開關(guān)

EB2:電子槍2擋板開關(guān)HEARTH

HEARTH1:左坩堝臺旋轉(zhuǎn)

HEARTH2:右坩堝臺旋轉(zhuǎn)DOMEROTATION

工件盤順時針方向旋轉(zhuǎn)工件盤逆時針方向旋轉(zhuǎn)3.真空室內(nèi)部4.坩堝種類點坩堝環(huán)形坩堝確認(rèn)坩堝位置標(biāo)準(zhǔn)確認(rèn)坩堝臺中心、坩堝、電子束蒸發(fā)源是否在一條直線上松開聯(lián)軸器螺絲，調(diào)整編碼器位置，直到補(bǔ)償數(shù)字為0，然后鎖緊螺絲5.電子槍原理及作用電子束蒸發(fā)示意圖電子槍是加速電子轟擊靶并發(fā)光的一種裝置，它發(fā)射出具有一定能量、一定束流以及速度和角度的電子束，電子受柵極電位的影響，在陽極加速電壓下形成匯聚的電子束，在磁場作用下電子束得到進(jìn)一步聚焦并偏轉(zhuǎn)180°或270°射入裝有鍍膜料的坩堝中，其動能變成熱能使蒸鍍材料蒸發(fā)沉積于基片上形成薄膜電子槍總裝圖

真空室電子槍

1電子槍

2高壓導(dǎo)入端子

掃描控制器電子槍電控柜低壓導(dǎo)入端子

控制系統(tǒng)電子槍種類電子束蒸發(fā)源種類:電子束偏轉(zhuǎn)角度180°，運(yùn)行軌跡為“C”的C型槍電子束偏轉(zhuǎn)角度270°，運(yùn)行軌跡為“e”的e型槍e

型槍C型槍e型槍U字形燈絲c型槍蚊香形燈絲鍍膜前確認(rèn)上、下犄角是否平行，水平標(biāo)準(zhǔn)標(biāo)準(zhǔn)松開此螺絲調(diào)節(jié)犄角平行度松開螺絲后犄角下方墊銅片，確保犄角的水平鍍膜前電子槍注意事項確認(rèn)坩堝擋板高度是否80mm坩堝擋板打開角度90左右坩堝擋板架子需要包鋁箔鍍膜之前用吸塵器吸取灰塵，確保真空室內(nèi)部清潔80mm擋板角度打開90左右鋁箔包住6.離子源的作用離子源輔助電子束示意圖1.清潔基片表面2.夯實膜層，使其致密3.提高膜牢固度離子源種類RF離子源GL離子源中和器鍍膜前離子源注意事項用角度儀確認(rèn)離子源的水平及內(nèi)外角度確認(rèn)坩堝擋板高度離子源擋板打開角度離子源擋板架子需要包鋁箔確認(rèn)地線是否連接（共三根）接地線7.輔正板（MASK）的作用mask通過輔正板遮擋部分蒸發(fā)材料，調(diào)整整片傘架的均勻性，使所有基板物理厚度一致。調(diào)節(jié)MASK升降速度的快慢鍍膜前MASK注意事項MASK設(shè)定角度18°。當(dāng)角度不是18°時調(diào)節(jié)此螺絲確認(rèn)MASK支桿是否卡在MASK槽上8.石英晶振以及速率監(jiān)控系統(tǒng)XTC/3膜厚控制儀水晶holder水晶探頭水晶旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)

石英晶體振蕩法監(jiān)控膜厚，主要是利用石英晶體的兩個效應(yīng)，壓電效應(yīng)和質(zhì)量負(fù)荷效應(yīng)，通過測定固有諧振頻率或與固有諧振頻率有關(guān)的參數(shù)變化來監(jiān)控沉積薄膜的厚度。石英晶體的頻率飄移與附加上的質(zhì)量的關(guān)系：附加上的質(zhì)量增加，振蕩頻率降低

質(zhì)量=密度X面積X厚度9.光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)光量曲線光控電源及數(shù)據(jù)處理器分光器及投光器監(jiān)控片玻璃實時監(jiān)測光反射率（或透射率）的變化，并將實時反射率（或透射率）數(shù)據(jù)提供給主機(jī)，從而實現(xiàn)薄膜的光學(xué)厚度控制。電腦(相當(dāng)于人體大腦)根據(jù)光學(xué)膜厚計提供的反射率實時變化曲線，在反射率變化到事先設(shè)定的停止位置的一瞬間停止材料蒸鍍，從而得到所需要的膜厚。監(jiān)控片罩殼10.加熱絲側(cè)壁加熱真空室門加熱監(jiān)控片及工件盤加熱溫度對膜層原子或分子提供額外能量補(bǔ)充，在膜層折射率、應(yīng)力、附著力、硬度和不溶性都會因基片溫度的不同而有較大差異升溫優(yōu)點：排除基片表面的剩余氣體分子，增加基片與沉積分子之間的結(jié)合力促使膜層物理吸附向化學(xué)吸附轉(zhuǎn)化，增加分子之間相互作用，使膜層緊密，附著力增加，提高機(jī)械強(qiáng)度減少蒸汽分子再結(jié)晶溫度與基片溫度之間的差異，提高膜層致密度，增加硬度，消除內(nèi)應(yīng)力溫度過高弊端：使膜層結(jié)構(gòu)變化或膜料分解11.真空室內(nèi)部相關(guān)部件百葉窗冷凝管主閥蓋工件盤（DOME）防止膜料污染到真空室

二、OTFC電控柜總圖光控投光器電源光控數(shù)據(jù)處理器觸摸屏RF離子源控制器電子槍控制器真空顯示器膜厚控制儀電腦顯示器及主機(jī)Gener電控柜總圖GL離子源控制器緊急停止按鈕監(jiān)控片和工件盤的加熱絲電流充氧壓力控制器其它部分與OTFC電控柜相同光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)1[HOM2-N]分光器將Fiber接受到的光分光后、轉(zhuǎn)變成電信號。[HOM2-L]投光器鹵素?zé)敉豆馄鳌Ｍ豆獾耐瑫r輸出參考信號。[HOM2-F]Fiber將投光器投出的光送LensUnlt。接受到的光送到分光器。[HOM2-N1][HOM2-L2][HOM2-F9C]光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)2[HOM-P]投光器用電源投光器用的電源。在前面表示Lamp電壓、電流、使用時間。[HOM2-D]數(shù)據(jù)處理器從分光器發(fā)出的光量電信號、從投光器發(fā)出的參考信號的光量値（電圧）輸送到PC。[HOM2-U]LensUnlt把光投到監(jiān)控玻璃、接受反射光。[HOM2-P][HOM2-D1][HOM2-U14]離子源總裝圖AMVG-600RUN2MatchingBoxMassFlowController3lineOISC-ⅡIonsourceController中和器電源離子源直流電源AX-300Ⅲ中和器射頻電源AX-1000ⅢRFGenerator離子源射頻電源OIS-TwoRFIonSource(17cm)RFN-3ANeutralizerAM-200RUNMatchingBoxPC氣體控制器目前，我司使用的冷凍機(jī)有兩種，Telemark和Polycold

在一個完全封閉的環(huán)境下，通過壓縮機(jī)制造循環(huán)，并使用特殊配方的介質(zhì)，從而使電能轉(zhuǎn)化為熱能，達(dá)到制冷和化霜的功能。

電子槍控制器離子源控制器真空計種類BPG:熱電離真空計PEG:冷電離真空計SC2：管道真空計SC1：愛發(fā)科真空計抽氣以及排氣硬件系統(tǒng)-（圖1）

機(jī)械泵油吸附塔

羅茨泵

排氣管道

粗抽閥FV閥

油擴(kuò)散泵

高真空閥

高真空閥PLC抽氣以及排氣軟件系統(tǒng)（圖2）真空泵機(jī)械泵羅茨泵擴(kuò)散泵機(jī)械泵作用：前期抽氣,為達(dá)到低真空的設(shè)備.還是羅茨