PVD應用技術介紹課件

PVD應用技術介紹

1ppt課件.PVD應用技術介紹1ppt課件.薄膜沉積技術在機械、電子、半導體、光學、航空、交通等領域，為了對所使用的材料賦予某種特性(如耐熱、耐磨、耐蝕、裝飾性等)而在材料表面制備或沉積一層薄膜。薄膜沉積技術(ThinFilmDeposition)最常見的兩個制程是物理氣相沉積(PhysicalVaporDepositiont簡稱“PVD”)和化學氣相沉積(ChemicalVaporDepositiont簡稱“CVD”)。2ppt課件.薄膜沉積技術在機械、電子、半導體、光學、航空、交通等領域，為物理氣相沉積--PVDPVD是以某種物理機制，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)或在受到粒子轟擊時物質(zhì)表面原子的濺射等現(xiàn)象，實現(xiàn)物質(zhì)原子從源物質(zhì)到薄膜的可控轉(zhuǎn)移的過程。相對于化學氣相沉積—CVD而言在PVD過程中固態(tài)或熔融態(tài)的源物質(zhì)經(jīng)過物理過程進入氣相，在氣相及襯底表面不發(fā)生化學變化。PVD包括蒸鍍(Evaporation)、濺射鍍(Sputtering)和離子鍍(IonPlating)3ppt課件.物理氣相沉積--PVDPVD是以某種物理機制，如物質(zhì)的熱蒸發(fā)蒸鍍(Evaporation)MaterialSubstrateHeaterVacuumchamberCloud4ppt課件.蒸鍍(Evaporation)MaterialSubstra蒸鍍(Evaporation)5ppt課件.蒸鍍(Evaporation)5ppt課件.蒸鍍(Evaporation)6ppt課件.蒸鍍(Evaporation)6ppt課件.蒸鍍(Evaporation)7ppt課件.蒸鍍(Evaporation)7ppt課件.蒸鍍(Evaporation)8ppt課件.蒸鍍(Evaporation)8ppt課件.蒸鍍(Evaporation)9ppt課件.蒸鍍(Evaporation)9ppt課件.濺射鍍(Sputtering)MaterialSubstratePlasma10ppt課件.濺射鍍(Sputtering)MaterialSubstra濺射鍍(Sputtering)

11ppt課件.濺射鍍(Sputtering)

11ppt課件.等離子體(Plasma)12ppt課件.等離子體(Plasma)12ppt課件.磁控濺射(Magnetronsputtering)13ppt課件.磁控濺射(Magnetronsputtering)13pp磁控濺射(Magnetronsputtering)14ppt課件.磁控濺射(Magnetronsputtering)14ppIn-lineSputteringSystemSputteringchamberBufferchamberUnloadingchamberPlasmatreatmentLoadingchamberrobotInrobotOut15ppt課件.In-lineSputteringSystemSputt離子鍍(IonPlating)

16ppt課件.離子鍍(IonPlating)

16ppt課件.主要物理氣相沉積方法的特點蒸鍍法濺鍍法離子鍍法粒子能量/eV0.1-11-100.1-1沉積速率/μm·min-10.1-700.01-500.1-50附著力較差較好良好密度低較高高17ppt課件.主要物理氣相沉積方法的特點蒸鍍法濺鍍法離子鍍法粒子能量/e裝飾性薄膜鐘表工業(yè)鍍TiN呈金黃色，Cr2N呈銀色。手機部件（外殼、按鍵、鏡片等）化狀品瓶蓋、兒童玩具、節(jié)日禮物、家電汽車的按鈕、穿戴飾件18ppt課件.裝飾性薄膜鐘表工業(yè)鍍TiN呈金黃色，Cr2N呈銀色。18pp光學薄膜（1）減反射膜：相機、攝像機、投影儀、望遠鏡等MgF2，SiO2，ZrO2，Al2O3

紅外設備鏡頭上的ZnS，CeO2，SiO（2）增反射膜：太陽能接收器、鍍膜反射鏡、激光器用的高反射率膜（3）分光鏡和濾波片：如彩色擴印設備上19ppt課件.光學薄膜（1）減反射膜：相機、攝像機、投影儀、19ppt課件光學薄膜（4）鍍膜玻璃：建筑、汽車的隔熱(減少紅外線的反射)（5）光存儲薄膜：光盤、唱片(TbFeCo)20ppt課件.光學薄膜（4）鍍膜玻璃：建筑、汽車的隔熱(減少紅外線的反射)保護膜（1）硬質(zhì)膜，刀具、磨具表面的TiN，TiC，金剛石、C3N4，c-BN（2）耐腐蝕膜：不銹鋼及各種鎳鉻合金膜，抗熱腐蝕的NiCrAlY，陽極防護膜，（3）潤滑膜：MoS2，MoS2-Au，MoS2-Ni，

Au，Ag，Pb（4）熱防護膜：如ZrO221ppt課件.保護膜（1）硬質(zhì)膜，刀具、磨具表面的TiN，TiC，金21p電學薄膜（1）半導體器件與集成電路中的導電材料與介質(zhì)薄膜材料Al,Cr,Pt,Au,Cu,硅化物，SiO2,Si3N4，Al2O3（2）超導薄膜YBaCuO，BiSrCaCuO，

TlBaCuO等高溫超導材料（3）光電子器件中使用的功能薄膜

GaAs/GaAlAs、HgTe/CdTe、a-Si:Ha-SiGe:H,a-SiC:H等晶態(tài)和非晶態(tài)薄膜（4）透明導電薄膜(太陽能電池、液晶顯示器的透明電極和低壓電加熱器的電加熱薄膜）22ppt課件.電學薄膜（1）半導體器件與集成電路中的導電材料與22ppt課磁記錄薄膜復合磁頭：對于磁頭材料，要求具有典型的軟磁性能，即飽和磁化強度高、矯頑力低、磁導率高，磁致伸縮系數(shù)低。傳統(tǒng)的燒結鐵氧體磁體具有很好的軟磁性能和耐磨能，但其磁化強度遠低于合金軟磁材料，因而采用PVD工藝在鐵氧體磁頭表面沉積一層厚度幾個微米的軟磁性能較好的合金薄膜。薄膜磁頭：將磁性材料和磁場線圈都沉積在特定的襯底上，構成薄膜磁頭，與鐵氧體磁頭相比，薄膜磁頭具有更高的靈敏度，可以有效縮小磁頭尺寸，提高磁記錄密度。23ppt課件.磁記錄薄膜復合磁頭：對于磁頭材料，要求具有典型的軟磁性能，PVD技術在BYD的應用裝飾性鍍膜：手機外殼、按鍵、顯示視窗防護面板的Al，Sn，Cr鍍層功能性鍍膜：防電磁干擾（ElectromagneticInterference，簡稱“EMI”）

24ppt課件.PVD技術在BYD的應用裝飾性鍍膜：手機外殼、按鍵、顯示視窗裝飾性鍍膜25ppt課件.裝飾性鍍膜25ppt課件.裝飾性鍍膜26ppt課件.裝飾性鍍膜26ppt課件.EMI27ppt課件.EMI27ppt課件.PVD車間28ppt課件.PVD車間28ppt課件.PVD車間29ppt課件.PVD車間29ppt課件.PVD車