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文檔簡介
電子有效質(zhì)量: 能帶極值附近電子速度:淺能級雜質(zhì)電離能的簡單計算: 硅、鍺的相對介電常數(shù)分別為16和12;鍺,硅導(dǎo)帶底的狀態(tài)密度: 硅,鍺價帶頂?shù)臓顟B(tài)密度: 硅,鍺費米分布函數(shù)(對于能量為的一個量子態(tài)被電子占據(jù)的概率): 玻耳茲曼分布函數(shù)(適用范圍,): 導(dǎo)帶中的電子濃度: 價帶中的空穴濃度: 本征半導(dǎo)體, 費米能級: 載流子濃度: “單”雜質(zhì)半導(dǎo)體,電子(空穴)占據(jù)施主(受主)能級的概率: 施主(受主)能級上電子(空穴)濃度: 電離施主(受主)濃度: n型 p型電中性方程: 弱電離區(qū) 強電離區(qū) , ,過渡區(qū) 在有雜質(zhì)補償情況下, n型 p型極低溫情況下 低溫下,與“單”雜質(zhì)半導(dǎo)體低溫下弱電離相同強電離,以 當(dāng)(或)與相近時,(或) 載流子的漂移運動 ,, 遷移率: 電導(dǎo)率: , 半導(dǎo)體電導(dǎo)率:半導(dǎo)體的主要散射機構(gòu):電離雜質(zhì)散射 (散射概率) 晶格震動散射 (聲學(xué)波散射) (光學(xué)波散射) 平均自由時間: 電子、空穴遷移率: ,存在多種散射機構(gòu)時: ,隨非平衡載流子注入產(chǎn)生的附加電導(dǎo)率: 單位時間單位體積內(nèi)凈復(fù)合消失的電子—空穴對數(shù)稱為非平衡載流子的復(fù)合率。準(zhǔn)費米能級: 非平衡載流子越多,準(zhǔn)費米能級偏離就越遠。直接復(fù)合: ,其中表示電子—空穴復(fù)合概率分情況有:當(dāng)時,當(dāng)間接復(fù)合: 復(fù)合中心濃度,復(fù)合中心能級上電子濃度電子俘獲系數(shù),電子激發(fā)概率,空穴俘獲系數(shù),空穴激發(fā)概率①電子俘獲率,②電子產(chǎn)生率,③空穴俘獲率,④空穴產(chǎn)生率,有①+④=②+③,得,在小注入情況下,壽命只取決于,,,;且主要分別由,,和決定。(詳見P137-P138)陷阱效應(yīng):雜質(zhì)能級(施主、受主、復(fù)合中心或任何其它雜質(zhì)能級)的積累非平衡載流子的作用。(詳見5.5)載流子
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