2023金屬及其他無機(jī)覆蓋層 工程用直流磁控濺射銀涂層涂層附著力的測量

金屬及其他無機(jī)覆蓋層工程用直流磁控濺射銀涂層涂層附著力的測量II44目 次前 言 II引 言 III范圍 4規(guī)范性引用文件 4術(shù)語和定義 4濺射 4附著力 4需方應(yīng)向鍍件生產(chǎn)方提供的信息 5必要信息 5附著力試驗(yàn)方法 5摩擦拋光試驗(yàn) 5滾筒拋光試驗(yàn) 5剝離試驗(yàn) 5彎曲試驗(yàn) 5熱震試驗(yàn) 6納米劃痕試驗(yàn) 6概述 6劃痕試驗(yàn)設(shè)備 6試樣 6劃痕試驗(yàn)參數(shù) 6評價方法 6劃痕試驗(yàn)報告 6金屬及其他無機(jī)覆蓋層工程用直流磁控濺射銀涂層涂層附著力的測量范圍本文件未規(guī)定沉積前基材材料的狀態(tài)和表面粗糙度。因此，采購方有責(zé)任指定基材的表面粗糙度，以符合產(chǎn)品要求。本文件規(guī)定了板材和平面物體上涂層的測試方法，但不適用于螺紋、帶材或線材上的涂層。規(guī)范性引用文件（包括所有的修改單適用于本文件。GB/T3138金屬及其他無機(jī)覆蓋層表面處理術(shù)語（ISO2080:2008IDT）GB/T12334（ISO2064:1996,IDT）ISO4521Metallicandotherinorganiccoatings—Electrodepositedsilverandsilveralloycoatingsforengineeringpurposes—Specificationandtestmethods術(shù)語和定義GB/T3138、GB/T12334界定的以及下列術(shù)語和定義適用于本文件。3.1濺射Sputtering用高速離子轟擊靶材，使靶材金屬材料粒子沉積到基材表面。3.2附著力Adhesion5566需方應(yīng)向生產(chǎn)方提供的信息必要信息需方應(yīng)在合同或訂購單上提供以下信息：GB/TXXXX；可能影響涂層的可用性/外觀時，應(yīng)提供基材金屬的性質(zhì)、狀態(tài)和表面粗糙度；所要求的表面粗糙度，最好由需方提供符合表面粗糙度要求的樣品；厚度和附著力測試的要求；對過渡層的任何特殊要求；涂層的電性能和測試方法；如果厚度計算要求進(jìn)行密度校正，應(yīng)提供銀涂層的密度。附著力試驗(yàn)方法摩擦拋光試驗(yàn)?zāi)Σ翏伖庠囼?yàn)方法應(yīng)按照ISO4521規(guī)定的方法使用。6cm215s6mm、末此方法不適用于厚度超過10μm的濺射銀涂層。滾筒拋光試驗(yàn)40mm25r/min剝離試驗(yàn)剝離試驗(yàn)方法應(yīng)按照ISO4521規(guī)定的方法使用。在不高于一般焊接溫度下，將尺寸約為10mm×75mm×0.5mm的鍍錫鋼帶或黃銅帶平直地焊接到15mm60%38%該方法適用于厚度大于10μm的涂層。彎曲試驗(yàn)將試樣放在曲率半徑為4mm的彎曲測試裝置中(或放在臺鉗的鉗口中熱震試驗(yàn)將試樣放入溫度為200℃至300℃的烤箱中加熱約30min，然后在室溫下用水浸泡淬火。用低倍顯微鏡檢查涂層是否起泡或剝離的現(xiàn)象。涂層不應(yīng)出現(xiàn)起泡或剝離的現(xiàn)象。納米劃痕試驗(yàn)概述該測試方法適用于評價厚度為0.5μm到1.5μm的濺射銀涂層在鋼或銅基材上的附著力。結(jié)果僅供定性試驗(yàn)參考。該試驗(yàn)方法可能會破壞涂層載體部件。劃痕試驗(yàn)設(shè)備使用半徑為2μm的金剛石圓錐壓頭進(jìn)行納米劃痕測試。試樣5.0μm。劃痕20mm×20mm。因?yàn)樵嚇涌赡軐囟然驂毫γ舾?，不建議將試樣嵌入到冷或熱的介質(zhì)中，如丙烯酸樹脂。在進(jìn)行劃痕測試前，測試試樣應(yīng)去除表面污染物，如油脂、水分等。應(yīng)避免在測試區(qū)域留下指紋。劃痕試驗(yàn)參數(shù)0.1μm至2.0μm時，起始載荷為1mN，最終載荷為100mN，加載速率最大為10