ICP-Interference參考資料說(shuō)明

OpticalSpectroscopyInstrumentsICP-AES

Interference

&

BackgroundCorrection

干擾及背景校正ICP-OES為相對(duì)量測(cè)方法

(Relative

Method)●

定量分析時(shí)待測(cè)樣品濃度,為相對(duì)於根據(jù)校正標(biāo)準(zhǔn)品之儀器訊號(hào)所製作之檢量線(校正曲線)對(duì)應(yīng)而得●

假設(shè):相同濃度之校正標(biāo)準(zhǔn)品與待測(cè)樣品會(huì)產(chǎn)生相同之儀器訊號(hào)反應(yīng)●

實(shí)際狀況:由於干擾之存在,上述假設(shè)常有出入常見(jiàn)干擾(1)●

基質(zhì)(Matrix)或物理(physical)干擾

由於不同之表面張力surfacetension,固態(tài)溶解 量dissolvedsolidscontent,粘度viscosity,以及溶 液密度density將導(dǎo)致霧化器吸取速率及效率 之改變.

常見(jiàn)干擾(2)化學(xué)(Chemical)干擾

ICP-OES由於電漿之高溫,因此為相對(duì)化學(xué)干 擾較不嚴(yán)重之檢測(cè)方法常見(jiàn)干擾(3)●

離子化(Ionization)干擾

因?yàn)殡姖{中存在大量更容易游離物種而 改變電漿 中電子/離子組成,因而影響分 析物離子或原子於電漿中之濃度常見(jiàn)干擾(4)光譜(Spectral)及/或背景(Background)干擾

其他同時(shí)存在元素之發(fā)射光譜太接近分析物光譜或背景發(fā)射強(qiáng)度變化而影響定 量分析克服物理干擾●

基質(zhì)匹配(Matrixmatching)

●樣品溶液中存在之試劑,亦須添加相同濃 度於校 正標(biāo)準(zhǔn)溶液中●

稀釋

(Dilution)●

內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)法(Internalstandardization)●

標(biāo)準(zhǔn)添加法(Standardadditions)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)法(1)

InternalStandardMethod●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品為用來(lái)補(bǔ)償待測(cè)物元素之離子或原子數(shù)量之改變,而造成之可能訊號(hào)強(qiáng)度增強(qiáng)或減弱.●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品法是由測(cè)量待測(cè)元素與另一等量加入所有標(biāo)準(zhǔn)品/樣品中之元素(內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品,InternalStandard,IS)的信號(hào)強(qiáng)度比值(ratiooftheintensity)來(lái)進(jìn)行定量分析.選擇內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品條件(1)●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品之濃度必須於各溶液中均保持一樣.

--高純度●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品加入溶液的體積應(yīng)愈少愈好.

●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品之添加濃度,應(yīng)產(chǎn)生足夠訊號(hào)強(qiáng)度,以提供良好之訊噪比(goodsignaltonoiseratio)選擇內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品條件(2)●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品及待測(cè)元素在電漿中應(yīng)具有類似之激發(fā)能量(excitationpotentials)

●

較能配合電子轉(zhuǎn)移能階形式及波長(zhǎng)選擇內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品條件(3)●

Scandium(Sc),yttrium(Y)andindium(In)為常用之內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品

●

這些均不常見(jiàn)於樣品基質(zhì)之中.●

須確定各波長(zhǎng)均無(wú)光譜干擾.

●分析元素不會(huì)對(duì)內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品波長(zhǎng)產(chǎn)生干擾

●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品不會(huì)對(duì)分析元素波長(zhǎng)產(chǎn)生干擾●

為求最佳精確性,最好選擇多重波長(zhǎng)校正結(jié)果說(shuō)明(1)結(jié)果說(shuō)明(2)●內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品於樣品中測(cè)試時(shí),Internalstandardratio比值應(yīng)接近1.●

當(dāng)比值不為1,則分析元素之訊號(hào)強(qiáng)度將採(cǎi)取適當(dāng)之修正

●Ratios>1,分析物濃度結(jié)果將調(diào)低

●Ratios<1,分析物濃度結(jié)果將調(diào)高

Ratio=IIS(sample)/IIS(std1)

Corr.ConcValue

analyte=Canalyte/Ratio內(nèi)標(biāo)準(zhǔn)品添加方法1.事先於所有樣品及標(biāo)準(zhǔn)品中加入---技術(shù)?。?！2.於第三泵通道中直接吸入標(biāo)準(zhǔn)添加法

StandardAdditionMethod標(biāo)準(zhǔn)添加法(1)●

當(dāng)校正標(biāo)準(zhǔn)品無(wú)法有效匹配樣品複雜基質(zhì)時(shí)使用.例如:廢液槽,lubricatingoil…●

將樣品分成完全相同之三(或四)等份,並由此三(或四)等份進(jìn)行校正曲線之製作.

●addition0=sample+NOSpike

●addition1=sample+StandardSpike

●addition2=sample+StandardSpike標(biāo)準(zhǔn)添加法(2)●

由於樣品存在於各標(biāo)準(zhǔn)添加瓶中為等量,因此基質(zhì)影響抵銷.●樣品濃度是由檢量線外插至X軸截距取負(fù)值而得.●

若所有樣品均為同一基質(zhì),則接續(xù)之樣品可繼續(xù)沿用此檢量線.●若樣品基質(zhì)改變,則添加曲線必須依不同之基質(zhì)而重新製作!!!標(biāo)準(zhǔn)添加法檢量線圖標(biāo)準(zhǔn)添加法規(guī)劃範(fàn)例克服離子化干擾●

影響:

原子光譜線信號(hào)增強(qiáng),離子光譜線減弱●

調(diào)整最佳化觀測(cè)高度(垂直式電漿)

●

Avoidareasintheplasmawhereeasilyionizableelements (Ca,Mg,Na,K)caninterfere●

加入游離抑制劑,e.g.,LiorCs(通常用於水平式電漿)●

基質(zhì)匹配

●

Consistencyinstandardandsamplesolutionmatriceswill makealterationsinionandatompopulationnegligible

●

Concentrationofelementsinstandardsshouldbe equaltothesample光譜干擾-影響常見(jiàn)光譜干擾源Concomitantbands Argon 300-600nm OH 281.0-294.5nm&306.0-324.5nm NH 302.2-380.4nm(336.0mostintense) NO 195.6-345.9nm(200to280mostintense)克服光譜干擾●

更換分析使用波長(zhǎng)●

選用另一級(jí)(order)光譜

●Avoidoverlapfromnearbypeakswhenpossible●

尋找最佳化循跡視窗.Optimizepeaktrackingwindow●

稀釋樣品

●

僅適用於分析物濃度遠(yuǎn)高於干擾物濃度時(shí).克服背景干擾●

背景校正

Backgroundcorrection

●OffPeak

●PolynomialPlotted●觀測(cè)高度選擇Viewingheightselection

●AvoidOHandNOstructurebyoptimizing viewingheight●更換分析使用波長(zhǎng)●選用另一級(jí)(order)光譜單點(diǎn)校正

Off-PeakBCtruebgdmeasured兩點(diǎn)(Linear)

Off-PeakBCPolynomialPlottedBackgroundCorrection(PPB)於波峰左右兩邊各取六點(diǎn),擬合成曲線.FitsarangeofcurvestothebackgrounddataAllowsacontingencyforsignalnoiseinthemodelIntelligentlyselectspointsandcurveorderuntilerrorisminimized於波峰掃描過(guò)程中完成背景校正資訊收集noadditionalscantimeneededreducesmeasurementtimeby30-50%PolynomialPlottedBackgroundCorrectionpointsselectedingroupsofsixuntilcurvefitsuitsbothsidesofpeakrejectedcurvesnotsuitableforbothsides空白值Blank所有非來(lái)自於樣品本身而在分析時(shí)能被偵測(cè)到的元素或化合物都是空白值來(lái)源分析環(huán)境試劑實(shí)驗(yàn)用器皿分析者疏忽或不良之分析技術(shù)克服干擾方式:●Selectanalternatewavelength●Changegratingordertoeliminateoverlappi