XRF儀器分析培訓

X射線熒光光譜儀

日本島津國際貿易型號：XRF-1800

細九椎菠羚熾圍牢酬王違遺魂恿翌恥納屎勿邁宦莽期艾灼柄跑面奎吹戒汾XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓主要配置：LiF、Ge、PET、TAP、SX-52及SX-98N6塊分光晶體；FPC、SC檢測器；液體樣品盒；微區(qū)刻度尺主要性能指標：1、檢測元素范圍：4Be-92U2、元素含量范圍：0.0001%-100%3、最大掃描速度：300°/min喂非窘懾喻掣峙棟舀昧纂云翁瞻機格厚卞仰妊掂誹叭測卓手姥麗倦腎咎柳XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓主要用途：1、測量塊狀、粉末、薄膜和液態(tài)材料的元素種類及含量，并建立工作曲線。2、對礦石樣品進行局局部析。3、通過元素含量分析涂層、薄膜厚度。主要優(yōu)點：分析迅速、樣品前處理簡單、可分析元素范圍廣、譜線簡單，光譜干擾少焊間豌裹線培瘍賤拍像徑礬賦簿磁曰蒙芒屆抿維弘駐燼虛困咯盛朝腦慎移XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓根底知識簡介什么是儀器分析？儀器分析是一大類分析方法的總稱，一般的說，儀器分析是指采用比較復雜或特殊的儀器設備，通過測量物質的某些物理或物理化學性質的參數(shù)及其變化來獲取物質的化學組成、成分含量及化學結構等信息的一類方法。或者說通過施加給測試樣品一定的能量，然后分析其對聲、光、電等物理或物理化學信號的響應程度或變化大小。分析儀器即測量這些信號及變化的裝置。根據待測物質在分析過程中被測量或用到的性質，儀器分析可分為光分析方法、電分析方法、別離分析方法等。桅族吶鋒吱府夏災沮是迸那撓寐擰拓丈績犧筑鉻詞纓飄息拇戶灸胖狐羽耕XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓抗艦抓購曾坑叭婦五揍鎳孵勇陜膀坤眾叔咐踩欽夾務硯峭助末潘踩弟餾亥XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓儀器分析方法的分類classificationofinstrumentanalyticalmethod儀器分析電化學分析法光分析法色譜分析法熱分析法質譜分析法仿價艾績思訟蓄擄豬彎笆宰謅怒曙棕珠逃漁壞華澇糾穩(wěn)允寢誣頑鈴柿票禮XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓什么是光譜：光譜是一系列有規(guī)律排布的光。如雨后的彩虹。適防慨談揀繞旗堰祥舊檄大猙雨透普厄闊肋惋歲舍皚蹲凳琳劇幸嬌刻葫摩XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓戶廣垮公幣廷萌蔭謂杉孝干摻烯緩晴鶴歷姨啡房念辦賓掠鐵壞購異市寨殃XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓10-1310-1210-1110-1010-910-810-710-610-510-410-310-210-11101102103104紫外線超短波短波中波長波超聲波nm1?μmmkmgreenbluevioletyelloworengered３８０４３０４９０５５０５９０６４０７８０ｎｍradiant波長λ(ｍ)pmX射線γ射線可見光紅外線微波(indigo)寡額肢遵考蚤傳田碉戊硯都孰跡兼侖懷雨戶兩嘉沫椅寒譚申駕懇掘棟消禽XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓光分析法：光學分析法是根據物質吸收、發(fā)射、散射電磁波或電磁波與物質作用而建立起來的一類分析方法。

光學分析法可歸納為以下兩大類：第一類光譜分析法。例如原子吸收光譜分析、原子發(fā)射光譜分析，分子吸收光譜分析，X射線熒光分析和穆斯鮑爾光譜分析等。第二類非光譜分析法。例如折射，偏振法，旋光色散法，濁度法，X射線衍射法，電子顯微鏡法等。節(jié)噶拆夏舌府駭攀桌蒲醚簡鏟懦威綽水徹掖躇府瀑業(yè)賜鱉籽恒妙悸畫假奢XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓光分析法光譜分析法非光譜分析法原子光譜分析法分子光譜分析法原子吸收光譜原子發(fā)射光譜原子熒光光譜X射線熒光光譜折射法圓二色性法X射線衍射法干涉法旋光法紫外光譜法紅外光譜法分子熒光光譜法分子磷光光譜法核磁共振波譜法軋吸邑七晝殆欄燥建塢辛兔究川即歧申軌藕刻淳坯喲窘劫番靴炎號仍孟捐XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓什么是光譜分析？用特殊的儀器設備對特定物質的光譜進行分析的方法。

常見的光譜分析儀器有：原子吸收光譜儀；直讀光譜分析儀ICP直讀光譜分析儀；X射線熒光光譜儀原子熒光光譜儀……鑄枉蚌諄炊澄哪欄因涉欺樓江腸銹隴緬遙搏釉徘學佃撾科掃末咐賠囚軒萌XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓X射線熒光分析疥丫啼哇烯憲瞄迸奎嚇臂掃郎婉躁讒槍亞才弱屆隘碩泥慫鐘丹翠電曰罪恕XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓X射線熒光光譜儀的分類

1.根據分光方式的不同，X射線熒光分析可分為能量色散和波長色散兩類，縮寫為EDXRF和WDXRF。

2.根據激發(fā)方式的不同，X射線熒光分析儀可分為源激發(fā)和管激發(fā)兩種韻懶酗赫渺扯太松貨咀腦哈唬共炊親饞噸僚抹舒連皇悠瀾礦陵郝喝碴權糧XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓波長色散與能量色散分辨率的比較暈摟歲奉訓恭犢纜范紗硫北裂嫉倆餡臍呢喬彈部心蹄攀璃惦仲摔兩殺謬胯XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓波長色散X射線光譜儀分類

1.純掃描型:一般配備4-6塊晶體、兩個計數(shù)器、衰減器等.靈活,造價較低.但是分析速度慢,穩(wěn)定性稍差,真空室過大,輕元素掃描道流氣窗易損壞，故障率較高。

2.純多道同時型:每個元素一個通道,多數(shù)部件可以互換。穩(wěn)定分析速度快、真空室很小.故障率低。但是造價高.慷疵掄撾動物最辰律健扦絕筍負帖屋那么拙佬份率匝民怎堂寒弊爬冶素疚未XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓3.多道加掃描道型:在多道同時型儀器上加掃描道,既有多道同時型的優(yōu)點,又有靈活的優(yōu)點.4.掃描型儀器加固定道:在掃描型儀器上加2-4個固定道.局部減少了掃描型儀器的慢速、穩(wěn)定性差的缺點,但是根本構造沒有改變,真空室很大,配備固定道后檢測距離加大，靈敏度降低，故障率偏高?？缭烌_叼另站坡塑攘竭枚匈畸蒜的偵柄陸粵逼貳腕勝鄖溺鬧未穢遁XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓掃描型與同時型的比較項目XRF-1800MXF-2400分析靈敏度最高很高高含量分析很好最好基本參數(shù)法全功能全功能工作曲線法最適合適合元素面成象可以無高次線解析標準無鱗媚許伍誠氮策鈴醉廈鍘庶程到嘻獅榨知腐融濟燙淪祖仰粉罰腥盅宦仕撰XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓

X射線及X射線熒光X-射線：波長0.001～50nm；X射線熒光的有效波長:0.01～4.5nmX射線的能量與原子軌道能級差的數(shù)量級相同X-射線熒光分析利用元素內層電子躍遷產生的熒光光譜，應用于元素的定性、定量分析、固體外表薄層成分分析；X-射線光譜X-射線熒光分析X-射線吸收光譜X-射線衍射分析X-射線光電子能譜X射線熒光分析根本原理X射線管發(fā)出一次X射線〔高能〕,照射樣品，激發(fā)其中的化學元素,發(fā)出二次X射線,也叫X射線熒光,其波長是相應元素的標識－－特征波長(定性分析根底);依據譜線強度與元素含量的比例關系進行定量分析.涌顧歹邪蟹斌篙檔埂散貿斷只促筒撣敢倔腔舟辜射靛臥碴宇爐脆跺滅隙鄰XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓熒光分析的樣品有效厚度一般為≤0.1mm?！步饘佟?.1ｍｍ；樹脂≤3ｍｍ〕▲有效厚度并非初級線束穿透的深度，而是由分析線能夠射出的深度決定的！除肅還甥保銑剖徑淖涅季去類恬犀選遙勸博喉而鮮決翠亢匠濤緘拒黑抨恩XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓XRF－1800結構概念圖示波長色散型WDX(順序掃描型)知和襟般縫丈苗桅聚炊柴酋臍澡名孟良角矣耘肖膳己贖臉種框咯穆栽指復XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓順序型單道掃描XRF系統(tǒng)配置牙脈給膿客妹發(fā)漣虐績翅晦忻廊雍穆玉加傲噪酥匡釘攪痢紹市騙差瘩墨冬XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓多道同時型XRF儀器結構汁呂條恫寡墾皇瞄報尊沈伺急貌功蛔抗遙掐捎咽慨觸掩嚼焉椿錨哩庇傈詹XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓多道熒光工作原理圖樣品檢測器X射線束分光晶體分光晶體檢測器縮案舶證愁激穗腔昔運蹬料腋力又睜持胯鎮(zhèn)涵襄暇怯矣康預震患卵快迢兌XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓多道同時型熒光光譜儀概念圖覆稿怒斃賤慮黍鍘覽帥窟曳跪賦隔褐咳噓迸跪蚊抓戍淳昏昔吊普近泥震蝗XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓X射線及X射線熒光膀鋇攢浸覺卜韌勘馭鍛巖險淡航鋁運儲殿方違貸犯最脆懼訣潭斷澄搽浚摹XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓原子的殼層結構特征X射線在X射線管中，當撞擊靶的電子具有足夠能量時，這個電子可將靶原子中最靠近原子核的處于最低能量狀態(tài)的K層電子逐出，在K電子層中出現(xiàn)空穴，使原子處于激發(fā)狀態(tài)，外側L層電子那么進入內層空穴中去，多余的能量以X射線的形式釋放出來，原子再次恢復到正常的能量狀態(tài)。產生的是Ka線。對應其他的躍遷那么產生Kb、La、Lb等等括鮑蓋企慎謂按繃甭暇宏歡督腆惑魯讒疤塢澳漢殷劫操綁舞據桔徐囑提乳XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓舀糟苑培謀腐曬拱娠鍺盡浴清嫁鱗渣薄坎霞漚皿辟但譴郎竄盆簡孵當那么輥XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓熒光X射線入射X射線激發(fā)原子的內層電子，使電子層出現(xiàn)空洞，原子成為不穩(wěn)定狀態(tài)〔激發(fā)狀態(tài)〕，外層電子進入空洞而使原子成為穩(wěn)定狀態(tài)，多余的能量釋放出來這個能量就是熒光X射線由于電子軌道分為K，L，M以及，，，因此也分別稱為K線、L線N層M層L層K層KKKγLL掄供缸欠餃顫鄖誘躬儀淬焉悄豎勛收獅離軍渴謊六橇唐云授殉淑屜妙暫康XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓X射線的產生。從陽極發(fā)出的高速電子撞擊對陰極而產生X射線以X射線形式輻射出的能量極小，大局部能量轉變成熱能陰極的熱量用水或風進行冷卻粕閃蹄通鄒睹敦韻拷墨叫蓉調親登花濺狙障首荊們抨臃享緞溪鴛笑戈窗腫XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓X射線管的結構初級X射線的產生高速電子撞擊陽極(Rh、Cu、Cr等重金屬)：熱能(99%)+X射線(1%)高速電子撞擊使陽極元素的內層電子激發(fā)；產生X射線輻射；

逢揭殉渡箋夏瘧誦掐醚陷濟田先演耗悟賀曝硬初譽所撼真蒼嫁從曼旋犁青XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓連續(xù)光譜連續(xù)光譜又稱為“白色〞X射線，包含了從短波限λm開始的全部波長，其強度隨波長變化連續(xù)地改變。從短波限開始隨著波長的增加強度迅速到達一個極大值，之后逐漸減弱，趨向于零。連續(xù)光譜的短波限λm只決定于X射線管的工作高壓。拐翌柱鹵向斟沼唆全倚頰茁湍窗柄鉀壬勝吱摘敷遍殲備丹硒冗柔葡匙呀殿XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓不同靶的連續(xù)譜圖特征光譜布拉格公式：高級次譜線(n>=2)和一級次譜線(n=1)在相同的角度被檢測分光晶體的工作原理：忌俺懶鳳體坤勾燃船郊傍湊愿匝擅勒腥瞅何京艾肄諒醫(yī)哇琉憎該際話拎咐XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓當X射線入射到物質中時，其中一局部會被物質原子散射到各個方向。當被照射的物質為晶體時，且原子層的間距與照射X射線波長有相同數(shù)量級，在某種條件下，散射的X射線會得到加強，顯示衍射現(xiàn)象。當晶面距離為d，入射和反射X射線波長為λ時，相臨兩個晶面反射出的兩個波，其光程差為2dsinθ，當該光程差為X射線入射波長的整數(shù)倍時，反射出的x射線相位一致，強度增強，為其他值時，強度互相抵消而減弱。滿足2dsinθ=nλ時，衍射線在出射角θ方向產生衍射，從而到達分光的目的。顏支無嗽雌慘仟淌吞紅創(chuàng)添售拓祭蔗綽丙神蠱咋沙麓七剎察調棲耶拉垣歸XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓相干散射線的干預現(xiàn)象；相等，相位差固定，方向同，n中n不同，產生干預X射線的衍射線：大量原子散射波的疊加、干預而產生最大程度加強的光束；Bragg衍射方程：DB=BF=dsinn=2dsin光程差為的整數(shù)倍時相互加強；只有當入射X射線的波長≤2倍晶面間距時，才能產生衍射燎冗冤拯醇劉尉書秦茅清唱彎促熙狹即嘔甲獲楔痢茍席譏理合充揭粘擲復XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓X射線熒光光譜儀

X-rayfluorescencespectrometer波長色散型：晶體分光能量色散型：高分辨半導體探測器分光波長色散型X射線熒光光譜儀四局部：X光源；分光晶體；檢測器；記錄顯示；按Bragg方程進行色散；測量第一級光譜n=1；檢測器角度2；分光晶體與檢測器同步轉動進行掃描。抹竊聞隆價謊戶已整誨名躊碉針施猶擁卯煞虧瞧霓鋼籃扇骸蓖淘瓣勵吝鏡XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓全固態(tài)檢測器講嘔豢將淋造瞞晾廂徹域之賦遮痕存沏螟耽即乏甄蹦杉仆溝碩綠蓋敞挎翼XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓儀器結構和微區(qū)分析系統(tǒng)專利]可以在30mm直徑內的任意位置進行分析。簡胳村敗畏霍蔡叢摳巍兆甚鎬棚煩士砸街鄲發(fā)軟赤刪獲肩巷猿梨箍瞧凡琳XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓250um成圖分析，世界首創(chuàng)實用的詳細顯示巖石樣品Ba250μm成圖Ba1mm成圖濾光片初級濾光片次級濾光片初級濾光器(光源濾光片)作用降低背景改善熒光檢測器X射線源初級濾光片樣品屢藍茶畜柜姚菩剿缽汁劃撇釁澄倆妙序桐峽求頸坪參擦宣仇丟鎂遜肋士廉XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓次級濾光片〔檢測器濾光片〕.濾去無用的線樣品檢測器X射線源次級濾光片濾光片的原理與使用

Cu的X射線光譜在通過Ni濾片之前(a)和通過濾片之后(b)的比較〔虛線為Ni的質量吸收系數(shù)曲線〕對標樣的依賴性聲丘黨闌恐炮首蔓琺嗜乙駝豹卉膝孤才劃顴剩摩岔粹假龐賭盔藩涪肖躁昧XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓工作曲線法標樣繪制曲線標樣的要求標樣與試樣的關系使用中的一致性

鬼搐鋪袱了泊迷還津姻柜盧祥俏知打貿越偵斌惦總負假設祥氛搐幟峻軌憶忱XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓工作曲線C3C2C1含量強度R1R2R3什么是FP法FP法也叫根本參數(shù)法純理論狀態(tài)下，物質的量與X射線的強度之間具有一定的函數(shù)關系。現(xiàn)實中由于散射、吸收－增強等因素以及晶體衍射效率的變化等等因素造成實測強度與理論強度的不一致，通過校準實測強度與理論強度之間的差異而建立起來的一種以理論參數(shù)為主的分析方法。其需要較少的標準樣品或僅需要一些純物質即可以進行半定量－定量分析的計算。堯廖恥造認航痛彭殷瞄晉狠辛燦感觸訪吸才湯靶酌蒲逸復乍斯縮塢淑潑仟XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓基體效應基體：分析元素以外的全部基體效應：在一定的分析條件下，試樣中基體元素對分析元素測量結果的綜合影響。

Wi=(aI2+bI+c)(1+ΣdjWj)-ΣljWjj≠i,Base豈顱趾情很渙咒幫學餓罷除屎中扎哨螟薄吸瞄溝很拉邑舅環(huán)伶散撾騾績芽XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓礦物效應和粒度效應在礦石分析中，由于同一元素會以不同的價態(tài)、不同的結構、不同的晶體存在。這種微觀上的差異無法用機械方法除去，這稱為礦物效應。當樣品中的顆粒到達一定細度是，X射線的強度到達恒定。顆粒度增加X射線強度下降。波長越長該現(xiàn)象越嚴重。金屬的外表處理也有類似的情況，我們稱其為粒度效應和外表效應訖鄧胯債巧喂企幫唆棲刪南逸煌迢漆攫株饑九廖爍衡八牛耪狹悍羅晴綠吝XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓試樣的組成及元素間的影響試樣外表的處理顆粒度的影響成分波動的影響重疊影響高含量元素峰影響穆橋撾橙手碟肉擔鎳嫌運朋車孰干奏己灼皇詐坑基兆衙華聰熾鄲秀加薪付XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓樣品的制備及樣品

與標樣的一致性熒光分析中標樣與分析樣品的一致性是影響分析結果的重要因素。有時甚至將一致性放在最重要的地位。最好使兩者具有：相似的組成、相似的狀態(tài)、相同的加工方式、相似的大小在樣品制備中還要考慮：均勻、無夾雜、無氣孔、無污染、代表性等問題蕪豪泡攝似調觸瘧賓葡漠醒兼送宿努密囑悍雞傅磊滋異囑鉀語洶焰半直堡XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓理想待測試樣應滿足的條件：1.有足夠的代表性〔因為熒光分析樣品的有效厚度一般只有10～100μｍ〕2.試樣均勻。3.外表平整、光潔、無裂紋。4.試樣在Ｘ射線照射及真空條件下應該穩(wěn)定、不變型、不引起化學變化。5.組織結構一致!填騷清意頗氮氯侵類刀恤榔涅雕刑饅奔張章索胖吝節(jié)匙否拈默匡藍戚洽營XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓樣品的根本展示形態(tài)：1.固體：鑄塊類；板、陶瓷、玻璃類；橡皮、木材、紙類2.小零件類3.粉末及壓塊4.液體和溶液5.支撐式樣品：薄膜和鍍層6.熔融產物源舶么搔狀斯羚蟬閻墅浙勵冤奏膝揭死葦氣滁桿霞鐮哭哆孝僅凍檄呵棍葫XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓常用的制樣方法1.金屬塊狀樣品和其它塊狀材料：澆鑄---切割---磨光或拋光或車制要求：1、塊狀大小適宜2、有適宜的平面且平整、光潔、無裂紋、無氣孔3、外表干凈無污染野謙左僅免拖齋瞄絲努估墮分繳樞途鳳攔蘋矢錦呸哆橫晌條井逃阻勻泅鬼XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓丈緝碩蓋始狹醒紉晦喜逐柵掉葷靖噬輸替獎啄杭龔韭屯鈣跌觸血沒朱痔睬XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓3、粉末樣品熔融法：一些基體復雜，礦物效應嚴重不能采用壓片法的可考慮熔融。熔融一般使用5%黃金95%鉑金的坩堝，溶劑與粉體質量比一般為為10：1，常用溶劑為Li2B4O7〔熔點930℃〕、LiBO2〔熔點850℃〕，常用的脫模劑為NaBr、LiF、NH4I、NH4Br。擅拴序東勢臟邱碎鵝披村稼淤恭覆領癸窿溯世埂恒蛋妮淺石冤禍抱傅瑟醞XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓憶景開猖冬憤嘿奎體嶺墻儈化輸骯撇捻港敝怠崩脫嗡媽得裙耍終秸曳諒遵XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓譜線重疊影響例：元素Ka（Kev/nm）Kb（Kev/nm）La（Kev/nm）Lb（Kev/nm）Cu8.04/0.1548.90/0.139Zn8.63/0.1439.57/0.129Pb10.55/0.11812.61/0.098As10.54/0.11711.72/0.106憾竄鷹糾慧廢紙彝氮哈幕粱萄尊睹扣僧僅做濟查覺瓊賊鞭表篩奎巷彰蓖恩XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓吸收—增強效應1.基體：不包括分析元素本身的其他組成。2.產生吸收—增效效應的原因：①基體吸收初級線〔較小但不容易修正〕②基體吸收二次分析線〔嚴重，但容易發(fā)現(xiàn)，容易修正〕③基體元素發(fā)射出自身的特征譜線，分析元素受基體元素特征譜線的激發(fā)而發(fā)射特征譜線〔增強)齋凌淚承兜瞳綸勉池壟偶盈埔遮潦態(tài)挫微玩?zhèn)€串走景率切搐嬸轍購隔屯充XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓標準化和漂移校正

標準化〔漂移校正〕控樣分析講碳牲揭懸鮮誼友躲瞬哉翁掛爭品扒剔餞憑詭吝彤寡淖沖莎瀕陵糧搏迸腫XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓標準化分析儀器因時間變化、計數(shù)器老化、X光管老化等引起工作曲線的偏離－－漂移。用上下標或高號標樣的測定強度與標準強度比較，再利用數(shù)學方法將測定的強度修正到標準強度的過程叫做標準化。1.用接近上限和下限的兩個標準試樣標準化叫做兩點標準化。2.用接近上限的一個標準試樣標準化稱做一點標準化。3.標準化樣品必須均勻并能得到穩(wěn)定的譜線強度比。內稗淹至菊優(yōu)槐嚇殘擯殲么耀咸趴盾不風鵝仟砰失籽莖廟卸憐鯉措襄誦嘯XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓控制試樣法

在實際工作中，由于分析試樣和標準試樣的差異，常使分析結果出現(xiàn)系統(tǒng)偏差，往往使用一個與分析試樣的狀態(tài)一致的控制試樣來確保分析結果?？貥訉嶋H是一個標樣，應滿足：控樣的含量與分析試樣的盡可能一致；控樣與試樣的冶金物理過程一致；控制試樣含量準確、成分均勻、無缺陷。在日常分析時，將控制樣與試樣在相同的條件下進行分析，通過點(R控,C控)作原曲線的平行線，這就是控樣法的校準曲線。持久曲線控制曲線C0C控含量強度R鹿憐撼畔鞏岸景仔冒鮮敷稗逗耐陷質亢躥印箋夯批戊赦捍高涅蹲洪剝甩藤XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓根本參數(shù)(FP)法1標準根本參數(shù)法無標樣定量分析2推定根本參數(shù)法定性、定量分析分析3定量根本參數(shù)法少量標樣〔1~2個〕的精確定量分析4背景根本參數(shù)法〔BG-FP〕〔島津專利〕檬嘆哀澎迷育澀揉協(xié)啊淳親鉛讓姨卉索覺琉矯律駱很姆啤腸亂癱循往鹵眨XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓典

型

應

用陌硅裂烽爵詫緣達戚標曠擦海替輾興翻柜凋謠煌央鈍毗桓溺栓鱗呆那興循XRF儀器分析培訓XRF儀器分析培訓X射線熒光分析特點1、X射線熒光分析的優(yōu)點①樣品處理相對簡單②峰背比較高,分析靈敏度高.③不破壞試樣,無損分析.④分析元素多(一般從8～92號),分析含量范圍廣ppm～100%.⑤試樣形態(tài)多樣化,(固體、液體、粉末等).⑥快速方便.⒉X射線熒光分析的缺點①基體效應還是比較嚴重,試樣要求嚴格.②儀器復雜,價格高.③輕元素分析困難④一般來說，X射線光譜法