有機硅化學(xué):第四章 有機硅化學(xué)起始原料_第1頁
有機硅化學(xué):第四章 有機硅化學(xué)起始原料_第2頁
有機硅化學(xué):第四章 有機硅化學(xué)起始原料_第3頁
有機硅化學(xué):第四章 有機硅化學(xué)起始原料_第4頁
有機硅化學(xué):第四章 有機硅化學(xué)起始原料_第5頁
已閱讀5頁,還剩27頁未讀, 繼續(xù)免費閱讀

下載本文檔

版權(quán)說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內(nèi)容提供方,若內(nèi)容存在侵權(quán),請進行舉報或認領(lǐng)

文檔簡介

第四章有機硅化學(xué)起始原料元素硅四氯化硅三氯硅烷三烷氧基硅烷四烷氧基硅烷其它起始無機硅原料有機氯硅烷原料所有的有機硅起始原料都來自于石英19:322有機硅化學(xué)

第四章硅(工業(yè)硅)有機硅合金(鋁、鐵等)太陽能級晶體硅電子級半導(dǎo)體硅(沉淀、氣相)白炭黑、硅微粉石英材料和器件、光纖硅溶膠單質(zhì)硅的應(yīng)用19:323有機硅化學(xué)

第四章單質(zhì)硅的冶煉過程單質(zhì)硅的純度大約在98%左右19:324有機硅化學(xué)

第四章單質(zhì)硅的冶煉過程19:325有機硅化學(xué)

第四章SiCl4應(yīng)用制備有機硅化合物;如硅酸酯、有機硅油、高溫絕緣漆、有機硅樹脂、硅橡膠和耐熱襯墊等。制造半導(dǎo)體用多晶硅、高純SiO2、無機硅化物(如氮化硅、碳化硅等);生產(chǎn)大比表面積白炭黑、合成酰肼及用作烯烴類聚合催化劑;制造光導(dǎo)纖維內(nèi)芯材料和作為生產(chǎn)高純石英玻璃的原料等;在軍事工業(yè)中用于制造煙幕劑;在冶金工業(yè)中用于制造耐腐蝕硅鐵;在鑄造工業(yè)中用作脫模劑。19:326有機硅化學(xué)

第四章SiCl4的制備硅鐵氯化法硅鐵加人氯化爐內(nèi),然后加熱到300oC左右,通人Cl2進行反應(yīng),生成SiCl4,經(jīng)冷凝后得到粗品SiCl4。廢觸體氯化法硅氫氯化法SiCl4是作為HSiCl3的副產(chǎn)物制備的,需進行精密精餾提純。SiO2氯化法碳化硅為原料生產(chǎn)SiCl4的報道,但碳化硅成本較高,且反應(yīng)須在>1100oC的高溫下進行。因此,通常將碳化硅的合成與氯化一體化進行,即使SiO2與C的混合物在高溫下氯化。該方法所使用的SiO2的包括石英、硅藻土、稻殼灰、鋯英砂。19:327有機硅化學(xué)

第四章HSiCl3應(yīng)用HSiCl3有機硅太陽能級晶體硅電子級半導(dǎo)體硅HSiCl3制備19:328有機硅化學(xué)

第四章HSi(OR)3應(yīng)用HSi(OR)3有機硅烷偶聯(lián)劑太陽能級晶體硅電子級半導(dǎo)體硅HSi(OR)3制備19:329有機硅化學(xué)

第四章Si(OR)4應(yīng)用Si(OR)4有機硅烷交聯(lián)劑太陽能級晶體硅二氧化硅(粉體、薄膜、溶膠)Si(OR)4制備涂層成膜物19:3210有機硅化學(xué)

第四章其它無機起始原料SiCH2SiCl2(SiF2)nH2SiF6SiH4Si+CHSiCl3+3H2+2AlSiF4+SiSiF4+2HFSiCl4+4H219:3211有機硅化學(xué)

第四章有機氯硅烷原料直接法合成有機氯硅烷反應(yīng)過程合成有機硅單體的一種最有價值的方法,由Rochow在1941年提出的其中R為甲基、乙基、苯基、乙烯基、烯丙基等。19:3212有機硅化學(xué)

第四章直接法合成甲基氯硅烷19:3213有機硅化學(xué)

第四章直接法合成甲基氯硅烷機理游離基機理[1945年赫德和羅喬提出]該機理不能解釋產(chǎn)物中Me2SiCl2含量高達80%-90%(質(zhì)量分數(shù)),這對游離基反應(yīng)是不可想象的。19:3214有機硅化學(xué)

第四章化學(xué)吸附機理(接觸催化機理)[1956年克列班斯基]二甲基二氯硅烷19:3215有機硅化學(xué)

第四章1/2CH4+1/2H2+1/2CClCH3ClCH3(CH3)2SiCl2ClCH31619:32有機硅化學(xué)

第四章ClCH3甲基三氯硅烷17根據(jù)接觸催化機理理論,當(dāng)CuCl與具有不飽和原子價的表面硅原子相碰撞時,能在Si表面上形成表面活性中心硅的部分氯化物,并改變表面吸附性能,使CH3Cl與SiCl2反應(yīng)形成有機氯硅烷,CH3Cl中的Cl被轉(zhuǎn)移至硅表面,形成新的活性中心。因此控制Si表面很關(guān)鍵。19:32有機硅化學(xué)

第四章二甲基四氯二硅烷19:32有機硅化學(xué)

第四章18甲基氯硅烷的生產(chǎn)反應(yīng)動力學(xué)MeCl向Si-Cu觸體表面擴散MeCl分子在Si-Cu觸體表面化學(xué)吸附MeCl分子在Si-Cu觸體表面反應(yīng)形成生成甲基氯硅烷甲基氯硅烷在觸體表面解析甲基氯硅烷在氣流中擴散,離開反應(yīng)區(qū)硅原子向觸體表面擴散,填補Si-Cu晶格中的硅空隙(I)(II)(III)(IV)(V)(VI)決定性的一步甲基氯硅烷的生產(chǎn)裝置

反應(yīng)在300℃引發(fā)后,再降溫至250℃運行,保持體系中不進入氧氣,且不斷吹入CH3Cl,保持硅粉懸浮。19:3219有機硅化學(xué)

第四章19:3220有機硅化學(xué)

第四章硅粉組成中通常會有些雜質(zhì),對合成影響不大,比如Fe對反應(yīng)活性無害,在0.5%以下還有助催化作用,Al也不是毒物,但對提高Me2SiCl2含量不利,必須控制在0.2%以下。通常認為直接法合成氯硅烷應(yīng)該用有雜質(zhì)指定含量的化學(xué)硅。

硅粉表面控制方法:

a.就宏觀控制來說,與Si粉磨細加工時氧化程度及Si粉的粒度有關(guān);

b.就微觀控制來說,在反應(yīng)速度降低時,可通入HF,使其表面新鮮;

c.在床體結(jié)構(gòu)設(shè)計中,也要避免Si粉嚴(yán)重磨損而產(chǎn)生細小顆粒,使分散性變差,對提高活性表面積和散熱都不利,故需將產(chǎn)生的小顆粒從反應(yīng)器頂部吹出。21影響直接法合成有機氯硅烷的因素硅粉

硅粉,鹵代烷,催化劑,助催化劑,添加劑,反應(yīng)濃度,反應(yīng)壓力,反應(yīng)裝置等。19:32有機硅化學(xué)

第四章不同的金屬及其化合物作為催化劑用于不同烴基鹵硅烷合成Cu及其化合物用于甲(乙基)氯硅烷合成Ag及其化合物用于苯基氯硅烷合成Sn及其化合物用于乙烯基氯硅烷合成銅系催化劑的活性、壽命及選擇性既與催化劑自身化學(xué)組成有關(guān),也與溫度、晶體結(jié)構(gòu)及與硅的緊密接觸程度有關(guān)。銅系催化劑制備或處理方法對催化有很大影響。晨光化工研究院制備10μmCu-Cu2O-CuO三元銅系催化劑具很好催化效果。22催化劑19:32有機硅化學(xué)

第四章23Ag對MeHSiCl2含量提高有顯著效果。Zn加入Si含量的0.1%-1%,可提高Me2SiCl2含量。Al可提高Me3SiCl收率。Ni用于Si-Cu催化劑對生成MeHSiCl2和Me2HSiCl有利。助催化劑

本身無催化作用,少量加入催化劑中使催化劑活性、選擇性、壽命等顯著提高。19:32有機硅化學(xué)

第四章鹵代烴及其添加劑氯甲烷的制備方法決定了其雜質(zhì)組成氯甲烷甲烷氯化法甲醇氯化法水<50ppm甲醚<50ppm甲醇<50ppm氯化氫氯乙烷不揮發(fā)物水二氯甲烷氯乙烯一氧化碳二氧化碳高沸物氯甲烷純度必須在99.9%以上2419:32有機硅化學(xué)

第四章25N2——提高Me2SiCl2收率,提高散熱效率,減少熱裂解反應(yīng)H2——提高產(chǎn)物中含Si-H化合物的含量(如MeHSiCl2)Cl——提高產(chǎn)物中Si-Cl化合物的含量路易斯酸——增加含Si-Cl硅烷含量,如FeCl3,AlCl3,SnCl4HCl——增加中間物Si-Cl和Si-H化合物含量烴類——苯加入生成MePhSiCl2氯甲烷加入在EtCl和Si/Cu反應(yīng)中生成MeEtSiCl2水——降低反應(yīng)速度,增加產(chǎn)物中Si-H收率和殘渣的量,

ppm級水份可提高(CH3)2SiCl2含量添加劑目的是用來改變反應(yīng)條件或得到理想的目的產(chǎn)物收率。19:32有機硅化學(xué)

第四章直接合成反應(yīng)為放熱反應(yīng),放熱量80kCal/molMe2SiCl2,反應(yīng)溫度對產(chǎn)物組成影響明顯。當(dāng)反應(yīng)溫度大于300℃,隨溫度上升,Si-Cl含量上升而Si-C含量下降,即溫度升高(CH3)2SiCl2含量下降,CH3SiCl3及CH3SiHCl2含量上升;且總的硅轉(zhuǎn)化率下降。溫度控制問題是工程上特別需要注意的問題。26反應(yīng)溫度

19:32有機硅化學(xué)

第四章直接法合成甲基氯硅烷時,副產(chǎn)物多,組份多(41個),沸點差距小,有些化合物還形成共沸物。氯硅烷沸點含量SiMe426.2<1.0HSiCl331.8<1.0Me2SiHCl35.0<1.0MeSiHCl241.83~5SiCl457.6<1.0Me3SiCl57.93~5MeSiCl366.44~20Me2SiCl270.265~80EtSiHCl274.0<0.5甲基氯硅烷主要產(chǎn)物組成27甲基氯硅烷的分離與純化19:32有機硅化學(xué)

第四章共沸物成分質(zhì)量分數(shù)/%沸點(101.3kPa)/℃Me3SiCl-SiCl435.2:64.854.7MeSiHCl2-SiCl436.5:63.553.0甲基氯硅烷中的共沸物2819:32有機硅化學(xué)

第四章用于合成下游產(chǎn)品(特別是硅橡膠)要求純度高(99.95%)。盡量使主要產(chǎn)物Me2SiCl2、MeSiCl3、Me3SiCl、MeHSiCl2、Me2HSiCl、SiMe4,得到較純的產(chǎn)品供下游產(chǎn)品使用。純化方法

a.一般精餾法

b.共沸分餾法

c.萃取分餾法

d.化學(xué)分離法2919:32有機硅化學(xué)

第四章19:32有機硅化學(xué)

第四章3

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯(lián)系上傳者。文件的所有權(quán)益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網(wǎng)頁內(nèi)容里面會有圖紙預(yù)覽,若沒有圖紙預(yù)覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經(jīng)權(quán)益所有人同意不得將文件中的內(nèi)容挪作商業(yè)或盈利用途。
  • 5. 人人文庫網(wǎng)僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內(nèi)容的表現(xiàn)方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內(nèi)容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內(nèi)容負責(zé)。
  • 6. 下載文件中如有侵權(quán)或不適當(dāng)內(nèi)容,請與我們聯(lián)系,我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準(zhǔn)確性、安全性和完整性, 同時也不承擔(dān)用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

評論

0/150

提交評論