2023電鍍污染防治可行技術指南

電鍍污染防治可行技術指南HJ1306—2023HJ1306—2023目 次前 言 ⅱ適用范圍 1規(guī)范性引用文件 1術語和定義 2行業(yè)生產(chǎn)與污染物的產(chǎn)生 3污染預防技術 5污染治理技術 6環(huán)境管理措施 12污染防治可行技術 15附錄A（資料性附錄） 典型電鍍生產(chǎn)工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié) 19附錄B（資料性附錄） 電鍍廢水的來源、主要成分和濃度范圍 21附錄C（資料性附錄） 電鍍廢水分類收集處理及監(jiān)測點位 22iHJHJ1306—2023HJHJ1306—2023PAGEPAGE11PAGEPAGE10電鍍污染防治可行技術指南適用范圍本標準提出了電鍍廢水、廢氣、固體廢物和噪聲污染防治可行技術。本標準適用于含電鍍工藝、化學鍍工藝、陽極氧化工藝的獨立/非獨立電鍍企業(yè)或生產(chǎn)設施，以及電鍍污水集中處理設施。本標準不適用于鋼鐵化學氧化工藝，磷化、鋯化、硅烷化等涂裝前處理工藝以及GB39731規(guī)定的電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設施或研制線涉及的電鍍工藝。規(guī)范性引用文件本標準引用了下列文件或其中的條款。凡是注明日期的引用文件，僅注日期的版本適用于本標準。凡是未注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本標準。GB12348工業(yè)企業(yè)廠界環(huán)境噪聲排放標準GB14554惡臭污染物排放標準GB15562.1環(huán)境保護圖形標志 排放口（源）GB15562.2環(huán)境保護圖形標志 固體廢物貯存（處置）場GB15577粉塵防爆安全規(guī)程GB16297大氣污染物綜合排放標準GB18484GB18597危險廢物焚燒污染控制標準危險廢物貯存污染控制標準GB18598危險廢物填埋污染控制標準GB18599一般工業(yè)固體廢物貯存和填埋污染控制標準GB21900電鍍污染物排放標準GB30485水泥窯協(xié)同處置固體廢物污染控制標準GB/T30760水泥窯協(xié)同處置固體廢物技術規(guī)范GB/T33055含鋅廢料處理處置技術規(guī)范GB/T33073含鎳廢料處理處置技術規(guī)范GB/T34626.1金屬及其他無機覆蓋層 金屬表面的清洗和準備第1部分：鋼鐵及其合金GB/T34626.2金屬及其他無機覆蓋層 金屬表面的清洗和準備2GB/T38066電鍍污泥處理處置 分類GB/T38101含銅污泥處理處置方法GB39731電子工業(yè)水污染物排放標準GB39800.1個體防護裝備配備規(guī)范 第1部分：總則GB50136電鍍廢水治理設計規(guī)范HJ576 厭氧-缺氧-好氧活性污泥法污水處理工程技術規(guī)范HJ577 序批式活性污泥法污水處理工程技術規(guī)范HJ579 膜分離法污水處理工程技術規(guī)范HJ662 水泥窯協(xié)同處置固體廢物環(huán)境保護技術規(guī)范HJ1095 芬頓氧化法廢水處理工程技術規(guī)范HJ1209 工業(yè)企業(yè)土壤和地下水自行監(jiān)測技術指南HJ1276 危險廢物識別標志設置技術規(guī)范HJ2002 電鍍廢水治理工程技術規(guī)范HJ2006 污水混凝與絮凝處理工程技術規(guī)范HJ2007 污水氣浮處理工程技術規(guī)范HJ2010 膜生物法污水處理工程技術規(guī)范HJ2020 袋式除塵工程通用技術規(guī)范HJ2025 危險廢物收集、貯存、運輸技術規(guī)范HJ2034 環(huán)境噪聲與振動控制工程技術導則HG/T5015 含鎳廢液處理處置方法HG/T5309 電鍍含銅廢水處理及回收技術規(guī)范WS721 電鍍工藝防塵防毒技術規(guī)范《國家危險廢物名錄》《危險廢物轉移管理辦法》（生態(tài)環(huán)境部、公安部、交通運輸部令第23號）《重點監(jiān)管單位土壤污染隱患排查指南（試行）》（生態(tài)環(huán)境部公告2021年第1號）《企業(yè)環(huán)境信息依法披露管理辦法》（生態(tài)環(huán)境部令第24號）《企業(yè)環(huán)境信息依法披露格式準則》（環(huán)辦綜合〔2021〕32號）術語和定義下列術語和定義適用于本標準。電鍍 electroplating利用電解方法在基材表面沉積均勻、致密、結合良好的金屬或合金層的過程?；瘜W鍍 chemicalplating采用化學方法而非電解方法，在基材表面沉積金屬或合金層的過程。陽極氧化 anodizing將金屬或合金的零件作為陽極，采用電解的方法使其表面形成氧化膜的過程。鍍前處理 treatmentbeforeelectroplating鍍覆前修整基材表面，除掉基材上的油污、氧化皮、毛刺等物質，以裸露出基體新鮮、干凈的表面，為后續(xù)鍍覆層的沉積提供良好結合力表面的過程。鍍后處理 treatmentafterelectroplating電鍍污水集中處理設施 concentratedwastewatertreatmentfacilitiesforelectroplating專門為兩家及兩家以上電鍍排污單位提供污水處理服務的污水集中處理設施。電鍍廢水 electroplatingwastewater電鍍生產(chǎn)過程中排放的各種廢水，包括鍍前處理槽清洗廢水、鍍覆槽清洗廢水、鍍后處理槽清洗廢電鍍混合廢水 mixedelectroplatingwastewater車間或生產(chǎn)設施廢水排放口 dischargeoutletofworkshoporproductionfacility3.10污染防治可行技術 availabletechniquesofpollutionpreventionandcontrol行業(yè)生產(chǎn)與污染物的產(chǎn)生生產(chǎn)工藝典型電鍍生產(chǎn)工藝流程及產(chǎn)污環(huán)節(jié)參見附錄A。鍍前處理包括金屬基體材料和非金屬基體材料的鍍前處理。金屬基體材料鍍前處理一般包括脫脂（除油）、GB/T34626.1GB/T34626.2；非金屬基體材料鍍前處理一般包括除油、粗化、中和、敏化、活化、解膠（還原）等工藝。鍍覆鍍覆工藝可分為：——電鍍單金屬、電鍍合金、復合電鍍以及不同鍍種的單層鍍、多層鍍等工藝；——化學鍍工藝；——陽極氧化工藝。鍍后處理（常稱鈍化處理（涂覆或浸一層透明的有機膜層）等單一或組合工藝。退鍍（（退鍍一般在生產(chǎn)線上實施，常采用電解退鍍工藝。不合格產(chǎn)品退鍍一般離線實施，可采用化學法、電解法等退鍍工藝。污染物的產(chǎn)生廢水污染物的產(chǎn)生電鍍工藝廢水污染物的產(chǎn)生電鍍工藝產(chǎn)生的廢水污染物主要來源于工件清洗過程，包括：——從鍍槽帶出的各種酸、堿、表面活性劑、磷酸鹽、石油類、氟化物、金屬離子等；——基體材料、電極（采用電化學處理）等溶解出的金屬離子；——工裝（掛具、滾筒等）循環(huán)使用而帶入的各種金屬離子；——工裝（掛具、滾筒等）被鍍覆的金屬鍍層退鍍過程產(chǎn)生的金屬離子；——除油、除銹、拋光等產(chǎn)生的污染物。其他廢水污染物的產(chǎn)生其他廢水污染物主要來源于：——退鍍清洗廢水，主要污染物為退鍍槽液成分以及退鍍下來的各種金屬離子等；——清槽廢水，主要污染物為槽液成分以及帶入槽液的各種雜質（重金屬離子等）；——槽液過濾廢水，主要污染物為槽液成分以及帶入槽液的各種雜質（重金屬離子等）；——地坪清洗水、極板清洗水；——廢氣處理過程產(chǎn)生的廢水；——化驗室廢水；——受污染的雨水；——廠區(qū)生活污水；——事故廢水。電鍍工藝廢水的來源、主要成分和濃度范圍參見附錄B。廢氣污染物的產(chǎn)生1。表1 電鍍工藝廢氣污染物及來源種類產(chǎn)污環(huán)節(jié)主要污染物酸性廢氣酸洗、出光和酸性鍍液電鍍等工藝氟化物、氯化氫、硫酸霧、氮氧化物等光等工藝鉻酸霧含氰廢氣含氰電鍍工藝氰化氫含塵廢氣機械拋光（噴砂、磨光等）、機械粗化等工藝顆粒物堿性廢氣化學脫脂、電化學脫脂、堿性鍍液電鍍等工藝氫氧化鈉、氨氣等固體廢物的產(chǎn)生電鍍工藝產(chǎn)生的固體廢物包括：——電鍍廢水處理過程中產(chǎn)生的電鍍污泥；——電鍍槽維護產(chǎn)生的槽渣、廢濾芯及翻槽時活性炭吸附處理產(chǎn)生的廢活性炭；——廢槽液；——廢水處理過程中廢棄的離子交換樹脂；——電鍍廢水采用蒸發(fā)濃縮處理時產(chǎn)生的廢鹽；——廢棄包裝物；——生活垃圾。噪聲的產(chǎn)生65dB（A）~110dB（A）。污染預防技術無毒或低毒材料替代工藝采用表2中常用的無氰/低氰電鍍、替代鍍層、三價鉻電鍍及處理工藝等無毒或低毒工藝，可減少高毒性污染物的產(chǎn)生。表2 常用無毒低毒工藝或鍍層項目常用無毒低毒工藝或鍍層無氰/低氰電鍍無氰鍍銅：酸性鍍銅、焦磷酸鹽鍍銅、堿性無氰鍍銅、其他無氰鍍銅無氰鍍金：堿性亞硫酸鹽鍍金和金合金低氰鍍金：檸檬酸鹽鍍金和金合金替代鍍層代鎘鍍層：鋅鎳合金、錫鋅合金、鋅鈷合金鍍層等代鉛鍍層：錫鈰合金、錫鉍合金、錫銀合金、錫銅合金、錫鋅合金、錫銦合金鍍層等裝飾性代鉻鍍層：錫鎳合金、錫鈷合金、三元合金（錫鈷鋅、錫鈷銦、錫鈷鉻等）鍍層等代修復性鍍鉻：鍍鐵等三價鉻電鍍及處理工藝裝飾性鍍鉻：三價鉻鍍鉻取代六價鉻鍍鉻等鍍鋅層：三價鉻藍白色鈍化、三價鉻彩色鈍化、三價鉻黑色鈍化等鋁合金轉化膜：三價鉻鈍化膜取代六價鉻鈍化膜等陽極氧化封閉工藝無鎳無鉻封閉部分取代鎳鹽封閉、鉻酸鹽封閉鉻霧抑制劑非全氟辛基磺酸及其鹽類（PFOS）鉻霧抑制劑取代PFOS類鉻霧抑制劑電鍍清洗水減量化技術連續(xù)逆流清洗50L/m265%以上。間歇逆流清洗也稱清洗廢水全翻槽技術，適用于間歇、小批量生產(chǎn)的生產(chǎn)線。單位面積用水量小于30L/m2，與同樣級數(shù)的多級逆流清洗技術相比，節(jié)水約40%。噴射水洗（逆流清洗組合）噴射水洗技術分為噴淋水洗和噴霧水洗，適用于自動或半自動品種單一、批量較大的電鍍生產(chǎn)線，2～3處進行沖洗，由于噴嘴可調到任意需要的角度，10L/m2，清洗水經(jīng)收集和針對性處理后循環(huán)利用。逆流清洗－離子交換（纖維（靠近主鍍槽70%～90%80%以上。逆流清洗－反滲透膜分離80%～90%80%以上。逆流清洗－電解回收90%。固體廢物減量化技術可采用以下技術減少固體廢物的產(chǎn)生：通過蒸發(fā)濃縮，減少廢槽液產(chǎn)生量；采用機械壓濾或烘干等方式對電鍍污泥進行脫水，減少電鍍污泥產(chǎn)生量；污染治理技術廢水污染治理技術一般原則5.15.2應推行電鍍廢水分類收集、分質處理。電鍍廢水分類包括但不限于含鉻廢水、含鎳廢水、含鎘廢水、含銀廢水、含鉛廢水、含氰廢水、酸堿廢水、含配位化合物廢水。含氰廢水、含六價鉻廢水、C。含鉻廢水、含鎳廢水、含鎘廢水、含銀廢水、含鉛廢水等應在車間或生產(chǎn)設施排放口總鉻、（+電滲析+反滲透處理。合理設計雨水、事故廢水收集設施，確保受污染的雨水、事故廢水得到有效處理。貯存、處理含有易揮發(fā)出有毒、有害、可燃和惡臭等氣體的廢水處理裝置及構筑物，應對其GB16297、GB14554等排放限值要求。含氰廢水處理技術一般原則GB50136、HJ2002要求。含氰廢水經(jīng)過處理，總氰化物達到控制要求后可進入電鍍混合廢水處理系統(tǒng)，去除重金屬離子。采用堿性氯化技術處理含氰廢水時，應在加蓋密閉和集氣抽風條件下收集產(chǎn)生的氣體，經(jīng)GB16297要求后通過排氣筒排放。采用電解、過氧化氫氧化技術處理含氰廢水時，處理過程中產(chǎn)生的氨氣應收集并處理，達GB14554要求后通過排氣筒排放。堿性氯化（鐵氰配合物除外pH10～11300mV～350pH8～9600mV～700一般為1h1.5h以l計（以N6～12m/L5m/L以N計含量小于0.2/L。該技術藥劑來源廣泛，投資和運行成本低，但出水含余氯及其他含氯副產(chǎn)物，設備腐蝕較嚴重。過氧化氫氧化（鐵氰配合物除外條件pH值大于7（以N計21一般為1）（以N計0.2m/L術不產(chǎn)生二次污染，但過氧化氫易燃易爆的特性對運輸及儲存要求較高。臭氧氧化（鐵氰配合物除外條件pH值為～1以N11反應臭氧與總氰化物（以N計）的摩爾比為2.5：1；氧化時間取決于總氰化物濃度和氧化溫度（一般不小于15min），若采用亞銅離子作為催化劑，可縮短反應時間。處理后廢水中總氰化物（以N0.2m/L電解適用于處理含無機氰化物或氰合金屬基配合物（鐵氰配合物除外）的含氰廢水。工藝控制條件為：進水pH值為9～10；氯化鈉投加量可按總氰化物（以N－計）濃度的30～60倍估算；陽極電流密度宜控制在0.3Adm～0.5Adm26V8.5V以N計含量小于0.2mg/L。該技術占地面積小，廢水中金屬離子一般直接沉積到陰極上，產(chǎn)生沉淀量小。含鉻廢水處理技術化學還原HJ2002pH2.5～3230mV～270mV；亞硫酸鹽還原時反應時間20min～30302h～4hpH7～8.520min1.0h～1.5h。處0.1mg/L0.5mg/L。電解100mg/L10mm，電1.5dm2/L～2.5dm2/LpH2.5～3pH7～8110V20A～60A15min。處理后0.1mg/L0.5mg/L。內電解100mg/LpH2～4；出水應pH8～920min1m～1.5m；在運行過程中，為防0.1mg/L，總鉻濃度小于0.5mg/L。離子交換200mg/L的廢水處理（鍍黑鉻和含氟化物鍍鉻的廢水除外）。離子交換系統(tǒng)由保護性濾柱、酸性陽柱、除鉻陰柱、脫鈉柱、除酸陰柱組成，工藝控制條件為：進入陰柱廢水的pH5以下；陰柱的再生劑宜用工業(yè)用氫氧化鈉，再生液用去離子水配制；陰柱的清洗水宜pH8～10；陽柱的再生劑宜用工業(yè)鹽酸，陽柱的清洗水可用自來水；清洗pH2～30.1mg/L0.5mg/L。酸堿廢水中和適用于鍍前處理、鍍后處理產(chǎn)生的酸堿廢水處理。當酸、堿廢水中含有多種金屬離子時，宜采用pH計控制堿性藥劑添加量，工藝參數(shù)應滿足HJ2002、HJ2006相關要求。處理后pH值為6～9。金屬離子廢水處理技術化學沉淀pHpH值范圍，反應生成難溶于水的鹽類通過HJ579、HJ2002、HJ2006、HJ2007相關要GB21900特別排放限值要求。離子交換適用于總鎳或總銅濃度小于200mg/L的單一廢水處理。工藝參數(shù)應滿足GB50136、HJ2002、HG/T5015、HG/T5309相關要求。處理后廢水重金屬濃度滿足GB21900特別排放限值要求。含配位化合物廢水處理技術（類）芬頓氧化HJ1095相關要求（0.5/L，總鎳濃度小于0.5mg/L。臭氧氧化pH值10.5mg/L0.5mg/L。重金屬捕捉劑適用于化學鍍鎳、化學鍍銅、鋅鎳合金等含配位化合物廢水的深度處理。常與（類）芬頓/臭氧氧pH0.3mg/L。金屬共沉淀Fe3+Zn2+Cu2+等金屬離子，與焦銅廢水中過量的焦磷酸根結合生成焦磷酸鐵/鋅/pH7～915min0.3mg/L。生物處理技術序批式活性污泥法HJ577GB21900特別排放限值要求。A/O、A/A/OHJ576相關要求。廢水經(jīng)處理后GB21900特別排放限值要求。膜生物法適用于物化處理后的電鍍廢水處理。工藝參數(shù)應滿足HJ2010相關要求。廢水經(jīng)處理后可滿足GB21900特別排放限值要求。電鍍廢水深度處理技術反滲透適用于電鍍清洗廢水槽邊回收、電鍍混合廢水深度處理、電鍍混合廢水回用（原水電導率小于6000HJ57930070%。反滲透＋離子交換HJ579100μS/cm，中水回用率一般小于60%。超濾+電滲析+反滲透（12000μS/cm）HJ579300μS/cm70%。廢氣污染治理技術一般原則WS721的規(guī)定設置通風裝置，對產(chǎn)生的有毒有害氣體進行收集GB15577要求。含氰化物工藝的局部通風設施應單獨設置，含六價鉻工藝的局部通風設施宜單獨設置。操作前，應打開通風設備；停止作業(yè)時，應后關閉通風設備；若通風設備出現(xiàn)故障應停止車間生產(chǎn)。產(chǎn)生酸霧的液面宜采用低毒/PFOS類鉻霧抑制劑。限制使用濃硝酸進行退鍍。廢氣處理設施產(chǎn)生的廢水應排入相應含氰廢水、含六價鉻廢水或者電鍍混合廢水處理設施處GB21900排放限值要求。GB21900、GB16297限值要求。酸性廢氣治理技術堿液吸收法5%左右氫氧化鈉溶pH8～9100mg/m3（送入GB219003。表3 吸收塔工藝控制條件項目空心噴淋塔填料塔湍球塔篩板塔空塔速度（m/s）0.5～1.50.5～1.52～61～3.5液氣比（L/m3）0.6～1.01～10//噴淋密度（m3/m2·h）/6～820～11012～15小孔氣速（m/s）///16～22格網(wǎng)回收+還原吸收法8～122m/s～3m/s6.2.2.199%。含氰廢氣治理技術常采用氧化吸收法處理，吸收液一般為1.5%氫氧化鈉+1.5%次氯酸鈉溶液、0.1%～0.7%硫酸亞鐵溶液，工藝控制條件參見6.2.2.1節(jié)。氰化物去除效率一般大于95%。含塵廢氣治理技術袋式除塵適用于拋/磨光系統(tǒng)產(chǎn)生的顆粒物治理。袋式除塵工程設計、施工與安裝、調試與驗收、運行與維護應滿足HJ2020相關要求。外排廢氣顆粒物濃度低于10mg/m3。濕式除塵適用于拋/1μm以上的顆粒物治理。常見的濕式除塵器包括噴淋塔、填料塔、30mg/m3。堿性廢氣治理技術堿性廢氣可與酸性氣體合并處理，具體參數(shù)見6.2.2.1。固體廢物綜合利用及處理處置技術一般原則GB18484、GB18597、GB18598、HJ2025和《危險廢物轉移管理辦法》等文件的要求。電鍍污泥處理處置前應對本批次污泥進行分析，確定其中金屬元素含量、含鹽量、含水率等GB/T38066確定其處理處置方法。當電鍍污泥中銅含量≥1%（干基計）、鎳含量≥1%（干基計）宜選擇回收工藝回收金屬資源，不宜進入水泥窯協(xié)同處置或者填埋處置。GB18598、GB30485、GB30760、HJ662相關要求。GB18599相關要求。金屬資源化回收技術火法冶煉回收技術的鎳、銅、鋅組分還原成穩(wěn)定的金屬單質態(tài)進入合金或金屬氧化物的回收技術。工藝參數(shù)應滿足GB/T33055、GB/T33073、GB/T38101相關要求。濕法冶煉回收技術氨法浸出技術48mol/L～9NH+計2:1～3:14:160℃～804h。釆用兩段逆流浸出，銅、90%以上。4酸法浸出技術GB/T33073、GB/T38101相關要求。噪聲污染治理技術HJ2034GB12348排放限值要求。環(huán)境管理措施一般原則電鍍企業(yè)應設置專門內部環(huán)保機構，建立企業(yè)領導、環(huán)境管理部門、車間負責人和專職環(huán)保員組成的企業(yè)環(huán)境管理責任體系，鼓勵開展環(huán)境管理體系認證。持續(xù)開展清潔生產(chǎn)，嚴格物料管理，加強鍍液管理，節(jié)約原輔材料用量，使用低毒低害和無毒無害原料，削減生產(chǎn)過程中有毒有害物質的產(chǎn)生和污染物排放。企業(yè)應按照《企業(yè)環(huán)境信息依法披露管理辦法》《企業(yè)環(huán)境信息依法披露格式準則》規(guī)定，按照規(guī)定的時間和形式編制發(fā)布企業(yè)環(huán)境信息依法披露年度報告和臨時報告。加強操作運行管理，建立并執(zhí)行崗位操作規(guī)程，制定應急預案，定期對員工進行技術培訓和應急演練。屬于土壤污染重點監(jiān)管單位的企業(yè)，應依據(jù)相關法律法規(guī)和標準的要求，按年度向生態(tài)環(huán)境主（試行HJ1209的要求開展自行監(jiān)測。廢水處理工程中的收集、處理建（構）筑物和附屬設施應根據(jù)接觸介質的化學性質采取防腐、防滲、防漏和監(jiān)測措施，避免污染廠區(qū)土壤和地下水環(huán)境。按照生態(tài)環(huán)境管理部門要求安裝在線監(jiān)控設備，與生態(tài)環(huán)境管理部門的監(jiān)控設備聯(lián)網(wǎng)，并對在線監(jiān)控設備定期進行保養(yǎng)、維護和校正，保證設備正常運行。企業(yè)規(guī)劃布局宜使主要噪聲源遠離廠界和噪聲敏感點，選用節(jié)能、低噪設備。GB15562.1、GB15562.2HJ1276的要求，規(guī)范設置排放口、貯存（處置）場標志。鼓勵新建和現(xiàn)有電鍍污水集中處理設施運營單位每年開展綜合毒性監(jiān)測。（即勞動防護用品必GB39800.1要求。回收物料，減少損耗措施工件出鍍槽后進入回收槽進行清洗，回收大部分鍍液，然后再進入流動水槽清洗，將回收槽內的洗液補充回鍍槽。在鍍槽、回收槽、清洗槽之間設置導流板，使工件帶出的鍍液流回槽內，減少鍍液損失。使用陽極籃或其他措施，回收利用陽極殘料。電鍍掛具應具有可靠的絕緣涂覆層，避免或減少鍍層金屬的沉積，減少損耗。污染防治設施管理措施pH計在線監(jiān)控和設置雨水切斷裝置，受污染的雨水應進入電鍍廢水處理系統(tǒng)處理。廢水管道應架空敷設或明溝明管鋪設，不應直埋敷設。廢水管道架空敷設時，不應敷設在配電柜、控制柜電氣設備上方，法蘭、螺紋等連接部位不應設置于人行橫道或電機、水泵設備上方。pH計、氧化還原電位自動調節(jié)控制加藥；設施的運行通過功能完善的運行中央控制平臺控制，以全面記錄并實時反映運行狀況。各污水處理池應嚴格按照防腐、防滲、防沉降的要求進行設計、建設。800mm的大尺寸槽體宜采用微風驅導式槽邊排風裝置，降低排風量、減少能耗。pH計、ORP等設備實現(xiàn)實時控制、調節(jié)。土壤和地下水環(huán)境管理措施企業(yè)應采取防滲漏等措施，存放涉及有毒有害物質的原輔材料、產(chǎn)品及廢渣的場所，應采取防水、防滲漏、防流失的措施。土壤污染重點監(jiān)管單位有地下儲罐儲存有毒有害物質的，應將地下儲罐的信息報所在地設區(qū)的市級生態(tài)環(huán)境主管部門備案。土壤污染重點監(jiān)管單位應定期對重點區(qū)域、重點設施開展隱患排查。發(fā)現(xiàn)污染隱患的，應制定整改方案，及時采取技術、管理措施消除隱患。土壤污染重點監(jiān)管單位應定期開展土壤和地下水自行監(jiān)測，重點監(jiān)測存在污染隱患的區(qū)域和設施周邊的土壤、地下水。土壤污染重點監(jiān)管單位終止生產(chǎn)經(jīng)營活動前，應開展土壤和地下水環(huán)境初步調查。調查發(fā)現(xiàn)企業(yè)用地污染物含量超過國家有關建設用地土壤污染風險管控標準的，應開展詳細調查、風險評估、風險管控、治理與修復等活動。土壤污染重點監(jiān)管單位拆除涉及有毒有害物質的生產(chǎn)設施設備、構筑物和污染治理設施的，應噪聲環(huán)境管理措施隔聲應根據(jù)污染源的性質、傳播形式及其與環(huán)境敏感點的位置關系，采用不同的隔聲處理方案。對固定聲源進行隔聲處理時，宜盡可能靠近噪聲源設置隔聲措施，如各種設備隔聲罩、風機消聲消聲器設計或選用應滿足以下要求：應根據(jù)噪聲源的特點，在所需要消聲的頻率范圍內有足夠大的消聲量；消聲器的附加阻力損失必須控制在設備運行的允許范圍內；良好的消聲器結構應設計科學、小型高效、堅固耐用、維護方便、使用壽命長；應避免使用阻性消聲器。隔振隔振裝置及支承結構型式，應根據(jù)機器設備的類型、振動強弱、擾動頻率、安裝和檢修形式等特點，以及建筑、環(huán)境和操作者對噪聲與振動的要求等因素綜合確定。隔振機座應設置在機器設備與隔振元件之間，由型鋼或混凝土塊構成。自重較輕的隔振機座電鍍園區(qū)的管理GB21900等國家或地方排放標準廢水需進行分質分流，含氰廢水、含六價鉻、含鎳、含鎘、含鉛、含配位化合物廢水等應單獨pH計、電導率、流量等自動監(jiān)控設施，及時發(fā)現(xiàn)和杜絕入園企業(yè)超約定排放廢水。園區(qū)應根據(jù)廢水分質情況、地形情況建設事故應急池。鼓勵園區(qū)建設再生水設施和中水回用管網(wǎng)，鼓勵入園企業(yè)回用中水。鼓勵園區(qū)建設集中的化工原材料、危險化學品供應體系，并做好分類存儲、安全管理及供應、銷售記錄。鼓勵園區(qū)集中收集、貯存、處理入園企業(yè)產(chǎn)生的危險廢物，及時處理園區(qū)集中污水處理設施產(chǎn)污染防治可行技術廢水污染防治可行技術含氰廢水污染防治可行技術含氰廢水污染防治可行技術見表4。表4 含氰廢水污染防治可行技術可行技術污染預防技術污染治理技術污染物排放濃度水平（mg/L）適用條件可行技術1無氰電鍍//電鍍金、銀、銅基合金及預鍍銅打底工藝除外可行技術2/堿性氯化處理技術總氰化物<0.2無機氰化物或氰合金屬基配合物（鐵氰配合物除外）可行技術3過氧化氫氧化處理技術可行技術4臭氧氧化處理技術可行技術5電解處理技術含金屬廢水污染防治可行技術含金屬廢水污染防治可行技術見表5。表5 含金屬廢水污染防治可行技術可行技術污染預防技術污染治理技術污染物排放濃度水平（mg/L）適用條件可行技術1逆流清洗化學還原處理技術六價鉻<0.1總鉻<0.5含六價鉻廢水特別排放可行技術2電解處理技術進水六價鉻<100mg/L可行技術3內電解處理技術可行技術4離子交換處理技術進水六價鉻<200黑鉻和含氟化物鍍鉻的廢水除外）可行技術5逆流清洗①（類）芬頓/臭氧氧化＋②化學沉淀處理技術總鎳<0.5鋅鎳合金、化學鎳等含鎳配位化合物廢水直接排放續(xù)表可行技術污染預防技術污染治理技術污染物排放濃度水平（mg/L）適用條件可行技術6①逆流清洗＋②反滲透/交換化學沉淀處理技術總鎳<0.1含鎳廢水（離子態(tài)）特別排放可行技術7離子交換處理技術進水總鎳<200mg/L的含鎳廢水（離子態(tài)）可行技術8逆流清洗①（類）芬頓/臭氧氧化＋②化學沉淀+③離子交換處理技術位化合物廢水可行技術9①（類）芬頓/臭氧氧化＋②化學沉淀+③反滲透處理技術可行技術10逆流清洗硫化物化學沉淀處理技術總鎘<0.01酸性硫酸鹽鍍鎘廢水特別排放可行技術11離子交換處理技術進水總鎘<100mg/L可行技術12①逆流清洗＋電解回收化學沉淀處理技術總銀<0.1含銀廢水特別排放可行技術13逆流清洗化學沉淀處理技術總鉛<0.1含鉛廢水特別排放可行技術14①逆流清洗＋②反滲透/交換/電解回收①（類）芬頓/臭氧氧化＋②化學沉淀處理技術總銅<0.5廢水直接排放可行技術15①堿性氯化//臭氧氧化＋②化學沉淀處理技術總銅<0.3氰化鍍銅廢水特別排放可行技術16金屬共沉淀處理技術焦銅廢水可行技術17化學沉淀處理技術酸性鍍銅廢水可行技術18離子交換處理技術酸性鍍銅廢水可行技術19①逆流清洗＋②反滲透/交換①（類）芬頓/臭氧氧化＋②化學沉淀+③離子交換處理技術總銅<0.3廢水特別排放可行技術20①（類）芬頓/臭氧氧化＋②化學沉淀+③反滲透處理技術可行技術21①（類）芬頓/臭氧氧化＋②化學沉淀＋③重金屬捕捉劑處理技術可行技術22逆流清洗化學沉淀處理技術總鋅<1.0含鋅廢水特別排放電鍍混合廢水污染防治可行技術電鍍混合廢水污染防治可行技術見表6。表6 電鍍混合廢水污染防治可行技術可行技術污染預防技術污染治理技術污染物排放濃度水平（mg/L，pH值除外）適用條件COD氨氮總氮總磷總氰化物pH值懸浮物石油類氟化物可行技術1/理技術<500<45<70<8<0.56～94001520間接排放可行技術2/（A/OA/A/O，膜生物處理技術）<80<15<20<1<0.26～9<50<3<10直接排放可行技術3/（A/OA/A/O，膜生物處理技術）<50<8<15<0.5<0.26～9<30<2<10特別排放電鍍混合廢水中水回用可行技術滿足直接排放要求的電鍍混合廢水中水回用可行技術見表7。表7 電鍍混合廢水中水回用可行技術可行技術污染預防技術污染治理技術裝置產(chǎn)水電導率（μS/cm）適用條件可行技術1水分質分流反滲透<300進水電導率<6000μS/cm可行技術2①反滲透＋②離子交換<100可行技術3①超濾+②電滲析+③反滲透<300進水電導率<12000μS/cm廢氣污染防治可行技術廢氣污染防治可行技術見表8。表8 廢氣污染防治可行技術可行技術污染預防技術污染治理技術污染物排放濃度適用條件可行技術1非PFOS類鉻霧抑制劑①格網(wǎng)凝聚回收＋②還原吸收鉻酸霧<0.05鍍硬鉻工藝可行技術2/氧化吸收法氰化氫<0.5含氰廢氣可行技術3/堿液吸收法硫