GB39731-2020電子工業(yè)水污染排放標(biāo)準(zhǔn)-

ICSZ中華人民共和國國家標(biāo)準(zhǔn)電子工業(yè)水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)Dischargestandardofwaterpollutantsforelectronicindustry（發(fā)布稿）2020-12-08發(fā)布生態(tài)環(huán)境部國家市場監(jiān)督管理總局I 1適用范圍 2規(guī)范性引用文件 13術(shù)語和定義 4水污染物排放控制要求 45水污染物監(jiān)測要求 76污水排放口規(guī)范化要求 97實施與監(jiān)督 附錄A（規(guī)范性附錄）電子專用材料涵蓋的產(chǎn)品范圍 11為貫徹《中華人民共和國環(huán)境保護法》《中華人民共和國水污染防治法》《中華人民共和國海洋環(huán)境保護法》等法律、法規(guī)，防治環(huán)境污染，改善環(huán)境質(zhì)量，促進電子工業(yè)的技術(shù)進步和可持續(xù)發(fā)展，制定本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線的水污染物排放控制要求、監(jiān)測要求和監(jiān)督管理要求。電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施的水污染物排放管理也適用于本標(biāo)準(zhǔn)。電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線、電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施排放大氣污染物（含惡臭污染物）、環(huán)境噪聲適用相應(yīng)的國家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，產(chǎn)生固體廢物的鑒別、處理和處置適用相應(yīng)的國家固體廢物污染控制標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)為首次發(fā)布。電子工業(yè)新建企業(yè)自2021年7月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2024年1月1日起，其水污染物排放控制按本標(biāo)準(zhǔn)的規(guī)定執(zhí)行，不再執(zhí)行《污水綜合排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB8978-1996）和《電鍍污染物排放標(biāo)準(zhǔn)》（GB21900-2008）的相關(guān)規(guī)定。各地可根據(jù)當(dāng)?shù)厣鷳B(tài)環(huán)境保護需要和經(jīng)濟與技術(shù)條件，由地方省級人民政府批準(zhǔn)提前實施本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)是電子工業(yè)水污染物排放控制的基本要求。省級人民政府對本標(biāo)準(zhǔn)未作規(guī)定的項目，可以制定地方污染物排放標(biāo)準(zhǔn)；對本標(biāo)準(zhǔn)已作規(guī)定的項目，可以制定嚴(yán)于本標(biāo)準(zhǔn)的地方污染物排放標(biāo)本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部水生態(tài)環(huán)境司、法規(guī)與標(biāo)準(zhǔn)司組織制訂。本標(biāo)準(zhǔn)主要起草單位：中國電子工程設(shè)計院有限公司、生態(tài)環(huán)境部環(huán)境標(biāo)準(zhǔn)研究所、上海市環(huán)境科學(xué)研究院、深圳市環(huán)境監(jiān)測中心站、上海第二工業(yè)大學(xué)、中國電子電路行業(yè)協(xié)會、信息產(chǎn)業(yè)電子第十一設(shè)計研究院科技工程股份有限公司。本標(biāo)準(zhǔn)生態(tài)環(huán)境部2020年11月26日批準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)自2021年7月1日起實施。本標(biāo)準(zhǔn)由生態(tài)環(huán)境部解釋。1電子工業(yè)水污染物排放標(biāo)準(zhǔn)1適用范圍本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電子工業(yè)的水污染物排放控制要求、監(jiān)測要求和監(jiān)督管理要求。本標(biāo)準(zhǔn)適用于現(xiàn)有的電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線的水污染物排放管理，以及電子工業(yè)建設(shè)項目的環(huán)境影響評價、環(huán)境保護設(shè)施設(shè)計、竣工環(huán)境保護驗收、排污許可證核發(fā)及其投產(chǎn)后的水污染物排放管理。電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施的水污染物排放管理適用于本標(biāo)準(zhǔn)。本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定的水污染物排放控制要求適用于電子工業(yè)企業(yè)、電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施直接或間接向其法定邊界外排放水污染物的行為。2規(guī)范性引用文件本標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。凡是不注年份的引用文件，其最新版本適用于本標(biāo)準(zhǔn)。GB6920水質(zhì)pH值的測定玻璃電極法GB7466水質(zhì)總鉻的測定高錳酸鉀氧化-二苯碳酰二肼分光光度法GB7467水質(zhì)六價鉻的測定二苯碳酰二肼分光光度法GB7470水質(zhì)鉛的測定雙硫腙分光光度法GB7471水質(zhì)鎘的測定雙硫腙分光光度法GB7475水質(zhì)銅、鋅、鉛、鎘的測定原子吸收分光光度法GB7484水質(zhì)氟化物的測定離子選擇電極法GB7485水質(zhì)總砷的測定二乙基二硫代氨基甲酸銀分光光度法GB7494水質(zhì)陰離子表面活性劑的測定亞甲藍分光光度法GB11893水質(zhì)總磷的測定鉬酸銨分光光度法GB11900水質(zhì)痕量砷的測定硼氫化鉀-硝酸銀分光光度法GB11901水質(zhì)懸浮物的測定重量法GB11907水質(zhì)銀的測定火焰原子吸收分光光度法GB11910水質(zhì)鎳的測定丁二酮肟分光光度法GB11912水質(zhì)鎳的測定火焰原子吸收分光光度法GB15562.1環(huán)境保護圖形標(biāo)志-排放口（源）GB/T16489水質(zhì)硫化物的測定亞甲基藍分光光度法HJ/T60水質(zhì)硫化物的測定碘量法HJ91.1污水監(jiān)測技術(shù)規(guī)范HJ/T195水質(zhì)氨氮的測定氣相分子吸收光譜法HJ/T199水質(zhì)總氮的測定氣相分子吸收光譜法2HJ/T200水質(zhì)硫化物的測定氣相分子吸收光譜法HJ/T373固定污染源監(jiān)測質(zhì)量保證與質(zhì)量控制技術(shù)規(guī)范（試行）HJ/T399水質(zhì)化學(xué)需氧量的測定快速消解分光光度法HJ484水質(zhì)氰化物的測定容量法和分光光度法HJ485水質(zhì)銅的測定二乙基二硫代氨基甲酸鈉分光光度法HJ486水質(zhì)銅的測定2，9-二甲基-1，10-菲啰啉分光光度法HJ487水質(zhì)氟化物的測定茜素磺酸鋯目視比色法HJ488水質(zhì)氟化物的測定氟試劑分光光度法HJ489水質(zhì)銀的測定3，5-Br2-PADAP分光光度法HJ490水質(zhì)銀的測定鎘試劑2B分光光度法HJ493水質(zhì)采樣樣品的保存和管理技術(shù)規(guī)定HJ494水質(zhì)采樣技術(shù)指導(dǎo)HJ495水質(zhì)采樣方案設(shè)計技術(shù)指導(dǎo)HJ501水質(zhì)總有機碳的測定燃燒氧化-非分散紅外吸收法HJ535水質(zhì)氨氮的測定納氏試劑分光光度法HJ536水質(zhì)氨氮的測定水楊酸分光光度法HJ537水質(zhì)氨氮的測定蒸餾-中和滴定法HJ636水質(zhì)總氮的測定堿性過硫酸鉀消解紫外分光光度法HJ637水質(zhì)石油類和動植物油的測定紅外分光光度法HJ659水質(zhì)氰化物等的測定真空檢測管-電子比色法HJ665水質(zhì)氨氮的測定連續(xù)流動-水楊酸分光光度法HJ666水質(zhì)氨氮的測定流動注射-水楊酸分光光度法HJ667水質(zhì)總氮的測定連續(xù)流動-鹽酸萘乙二胺分光光度法HJ668水質(zhì)總氮的測定流動注射-鹽酸萘乙二胺分光光度法HJ670水質(zhì)磷酸鹽和總磷的測定連續(xù)流動-鉬酸銨分光光度法HJ671水質(zhì)總磷的測定流動注射-鉬酸銨分光光度法HJ694水質(zhì)汞、砷、硒、鉍和銻的測定原子熒光法HJ700水質(zhì)65種元素的測定電感耦合等離子體質(zhì)譜法HJ776水質(zhì)32種元素的測定電感耦合等離子體發(fā)射光譜法HJ823水質(zhì)氰化物的測定流動注射-分光光度法HJ824水質(zhì)硫化物的測定流動注射-亞甲基藍分光光度法HJ826水質(zhì)陰離子表面活性劑的測定流動注射-亞甲基藍分光光度法3HJ828水質(zhì)化學(xué)需氧量的測定重鉻酸鹽法HJ908水質(zhì)六價鉻的測定流動注射-二苯碳酰二肼光度法HJ1069水質(zhì)急性毒性的測定斑馬魚卵法《污染源自動監(jiān)控管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令第28號）《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》（國家環(huán)境保護總局令第39號）《企業(yè)事業(yè)單位環(huán)境信息公開辦法》（環(huán)境保護部令第31號）《關(guān)于印發(fā)排放口標(biāo)志牌技術(shù)規(guī)格的通知》（環(huán)辦〔2003〕95號）3術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本標(biāo)準(zhǔn)。3.1電子工業(yè)electronicindustry本標(biāo)準(zhǔn)中電子工業(yè)指電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導(dǎo)體器件、顯示器件及光電子器件、電子終端產(chǎn)品等六類電子產(chǎn)品制造業(yè)。3.2電子專用材料specialelectronicmaterial具有特定要求且僅用于電子產(chǎn)品的材料，不包括生產(chǎn)電子專用材料的原材料的生產(chǎn)制造。根據(jù)其作用與用途，可分為電子功能材料、互聯(lián)與封裝材料、工藝與輔助材料。具體產(chǎn)品范圍見附錄A。3.3電子元件electroniccomponent電子電路中具有控制、變換和傳輸電壓或電流等獨立功能的單元。包括電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等。3.4印制電路板printedcircuitboard（PCB）在絕緣基材上，按預(yù)定設(shè)計形成印制元件、印制線路或兩者結(jié)合的導(dǎo)電圖形的印制電路或印制線路成品板。包括剛性板與撓性板，又可分為單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及剛撓結(jié)合印制電路板和高密度互連（highdensityinterconnector，HDI）印制電路板等。3.5半導(dǎo)體器件semiconductordevice利用半導(dǎo)體材料的特殊電特性制造的具有特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產(chǎn)3.6顯示器件displaydevice基于電子手段呈現(xiàn)信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件、低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件、有機發(fā)光二極管顯示器件、真空熒光顯示器件、場發(fā)射顯示器件、等離子顯示器件、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。3.7光電子器件photoelectronicdevice利用半導(dǎo)體光-電子（或電-光子）轉(zhuǎn)換效應(yīng)制成的各種功能器件。包括發(fā)光二極管；半導(dǎo)體光電器件中的光電轉(zhuǎn)換器、光電探測器等；激光器件中的氣體激光器件、半導(dǎo)體激光器件、固體激光器件、靜電感應(yīng)器件等；光通信電路及其他器件；半導(dǎo)體照明器件等。3.8電子終端產(chǎn)品electronicterminalproduct4以印制電路板組裝工藝技術(shù)為基礎(chǔ)裝配的具有獨立應(yīng)用功能的電子產(chǎn)品或組件。包括通信設(shè)備、雷達設(shè)備、廣播電視設(shè)備、電子計算機、視聽設(shè)備等。3.9現(xiàn)有企業(yè)existingfacility本標(biāo)準(zhǔn)實施之日前已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價文件已通過審批的電子工業(yè)企業(yè)、生產(chǎn)設(shè)施或研制線，以及電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施。3.10新建企業(yè)newfacility本標(biāo)準(zhǔn)實施之日起環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建電子工業(yè)或電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施建設(shè)項目。3.11直接排放directdischarge排污單位直接向環(huán)境水體排放水污染物的行為。3.12間接排放indirectdischarge排污單位向污水集中處理設(shè)施排放水污染物的行為。3.13污水集中處理設(shè)施concentratedwastewatertreatmentfacilities為兩家及兩家以上排污單位提供污水處理服務(wù)的污水處理設(shè)施，包括各種規(guī)模和類型的城鎮(zhèn)污水集中處理設(shè)施、工業(yè)集聚區(qū)（經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)、高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)、出口加工區(qū)等各類工業(yè)園區(qū)）污水集中處理設(shè)施，以及其他由兩家及兩家以上排污單位共用的污水處理設(shè)施等。3.14電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施concentratedwastewatertreatmentfacilitiesforelectronicindustry專門為兩家及兩家以上電子工業(yè)排污單位提供污水處理服務(wù)的污水集中處理設(shè)施。3.15排水量effluentvolume企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施向企業(yè)法定邊界以外排放的廢水的量，包括與生產(chǎn)有直接或間接關(guān)系的各種外排廢水（含廠區(qū)生活污水、冷卻污水、廠區(qū)鍋爐排水等）。3.16單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量benchmarkeffluentvolumeperunitproduct用于核定水污染物排放濃度而規(guī)定的生產(chǎn)單位產(chǎn)品的排水量上限值。3.17稀釋倍數(shù)dilutionlevel原水樣占稀釋后水樣總體積分數(shù)的倒數(shù)，一般用D來表示。例如，水樣未稀釋，則稀釋倍數(shù)D=1；取250ml水樣稀釋至1000ml（即體積分數(shù)為25%則稀釋倍數(shù)D=4。3.18最低無效應(yīng)稀釋倍數(shù)lowestineffectivedilution測試中不產(chǎn)生測試效應(yīng)的最低稀釋倍數(shù)，本標(biāo)準(zhǔn)指不少于90%的斑馬魚卵存活時水樣的最低稀釋倍數(shù)，用LID表示。4水污染物排放控制要求4.1新建企業(yè)自2021年7月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2024年1月1日起，執(zhí)行表1規(guī)定的水污染物排放限值及其他污染控制要求。5表1水污染物排放限值序號污染物排放監(jiān)控位置電子元件印制電路板半導(dǎo)體器件電子元件印制電路板半導(dǎo)體器件1pH值企業(yè)廢水總排放口23456789--------------------0.5(2)2.0(2)----0.2(2)0.2(2)車間或生產(chǎn)設(shè)施排放口--------------------0.2(2)----0.2(2)--------0.5(2)0.5(2)0.3(2)0.3(2)當(dāng)企業(yè)廢水排向電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施時，第1-14項指標(biāo)可協(xié)商確定間接排放限值，未協(xié)商的執(zhí)行本表規(guī)定的間接(2)適用于有電鍍、化學(xué)鍍工藝的電子終端產(chǎn)品生64.2新建企業(yè)自2021年7月1日起，現(xiàn)有企業(yè)自2024年1月1日起，執(zhí)行表2規(guī)定的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量。表2單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量置1m3/m22m3/萬只產(chǎn)品m3/萬只產(chǎn)品3m3/m2m3/m2多層板2+n）層）m3/m2高密度互連（HDI）板2+n）層）m3/m2m3/m24m3/片m3/片m3/片m3/千塊產(chǎn)品m3/片m3/萬塊產(chǎn)品5薄膜晶體管液晶顯示器件（TFT-LCD）(2)入面積較大的計）0.36m(3)/3.5(4)/6.2(5)有源矩陣有機發(fā)光二極管顯示器件m3/萬粒6m3/m2（鍍件鍍層）注：(1)表中數(shù)值為剛性印制電路板的基準(zhǔn)排水量，撓性印制電路板和剛撓結(jié)合印制電路板的值增加35%執(zhí)行。表中n為正整數(shù)，2+n為印制電路板層數(shù)，如對于6層的多層板，n為4；HDI板層數(shù)包含芯板；剛(2)表中數(shù)值對應(yīng)的工藝過程包括陣列-彩膜-成盒-模塊。(3)本限值對應(yīng)6代以上a-Si-TFT-LC(5)本限值對應(yīng)6代及以下LTPS-T4.3新建和現(xiàn)有電子工業(yè)污水集中處理設(shè)施運營單位自2024年1月1日起，按照表3監(jiān)測廢水的綜合7毒性，每年監(jiān)測不少于一次，并將監(jiān)測結(jié)果報送當(dāng)?shù)厣鷳B(tài)環(huán)境主管部門。該項目為指導(dǎo)性指標(biāo)，運營單位根據(jù)監(jiān)測結(jié)果采取相應(yīng)的控制措施。表3綜合毒性控制項目1斑馬魚卵急性毒性4.4水污染物排放限值適用于單位產(chǎn)品實際排水量不高于單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量的情況。若單位產(chǎn)品實際排水量超過單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量，須按公式（1）將實測水污染物濃度換算為水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度，并以水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度作為判定排放是否達標(biāo)的依據(jù)。產(chǎn)品產(chǎn)量和排水量統(tǒng)計周期為一個工作日。在企業(yè)的生產(chǎn)設(shè)施同時生產(chǎn)兩種以上產(chǎn)品，可適用不同排放控制要求或不同行業(yè)國家污染物排放標(biāo)準(zhǔn)，且生產(chǎn)設(shè)施產(chǎn)生的污水混合處理排放的情況下，應(yīng)執(zhí)行排放標(biāo)準(zhǔn)中規(guī)定的最嚴(yán)格的濃度限值，并按公式（1）換算為水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度。實式中：C基——水污染物基準(zhǔn)排水量排放濃度，mg/L；Q總——實測排水總量，m3；Yi——第i種產(chǎn)品產(chǎn)量，單位見表2；Qi基——第i種產(chǎn)品的單位產(chǎn)品基準(zhǔn)排水量，單位見表2；C實——實測水污染物排放濃度，mg/L。若Q總與ΣYiQi基的比值小于1，則以水污染物實測濃度作為判定排放是否達標(biāo)的依據(jù)。5水污染物監(jiān)測要求5.1企業(yè)應(yīng)按照有關(guān)法律和《環(huán)境監(jiān)測管理辦法》等規(guī)定，建立企業(yè)環(huán)境監(jiān)測制度，制定監(jiān)測方案，對污染物排放狀況及其對周邊環(huán)境的影響按要求開展自行監(jiān)測，保存原始監(jiān)測記錄。對于石油類、總氮、陰離子表面活性劑、總有機碳、硫化物，重點排污單位的自行監(jiān)測頻次至少為每月一次，其他排污單位至少為每年一次。5.2新建企業(yè)和現(xiàn)有企業(yè)安裝污染物排放自動監(jiān)控設(shè)備的要求，按有關(guān)法律和《污染源自動監(jiān)控管理辦法》的規(guī)定執(zhí)行。重點排污單位應(yīng)當(dāng)安裝重點水污染物排放自動監(jiān)測設(shè)備，與生態(tài)環(huán)境主管部門的監(jiān)控設(shè)備聯(lián)網(wǎng)，并保障監(jiān)測設(shè)備正常運行。5.3水污染物的監(jiān)測采樣點的設(shè)置與采樣方法按HJ91.1、HJ493、HJ494、HJ495的規(guī)定執(zhí)行。企業(yè)應(yīng)按照環(huán)境監(jiān)測管理規(guī)定和技術(shù)規(guī)范的要求，設(shè)計、建設(shè)、維護永久性采樣口（排污口）、采樣測試平臺。5.4企業(yè)產(chǎn)品產(chǎn)量的核定，應(yīng)以法定報表為依據(jù)。5.5對企業(yè)排放水污染物濃度的測定采用表4所列的方法標(biāo)準(zhǔn)。8表4水污染物分析方法標(biāo)準(zhǔn)1pH值2345678995.6除表4所列的方法標(biāo)準(zhǔn)外，本標(biāo)準(zhǔn)實施后發(fā)布的其他污染物監(jiān)測方法標(biāo)準(zhǔn)，如明確適用于本行業(yè)，也可采用該監(jiān)