半導(dǎo)體物理(I)知到智慧樹章節(jié)測試課后答案2024年秋西安電子科技大學(xué)_第1頁
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半導(dǎo)體物理(I)知到智慧樹章節(jié)測試課后答案2024年秋西安電子科技大學(xué)第一章單元測試

關(guān)于回旋共振實驗,以下說法正確的是()。

A:實驗中可以固定交變磁場頻率,改變磁感應(yīng)強度的大小和方向并觀測吸收峰個數(shù)B:回旋共振實驗樣品為高純樣品,以保證其具有最好的本征特性C:改變磁感應(yīng)強度B時,觀測到的吸收峰個數(shù)是相同的D:半導(dǎo)體的導(dǎo)帶極小值位置可以利用回旋共振實驗確定

答案:實驗中可以固定交變磁場頻率,改變磁感應(yīng)強度的大小和方向并觀測吸收峰個數(shù)電子在晶體中的共有化運動指的是()。

A:電子在晶體中各處出現(xiàn)的概率相同B:電子在晶體各元胞對應(yīng)點出現(xiàn)的概率相同C:電子在晶胞中各點出現(xiàn)的概率相同D:電子在晶體各元胞對應(yīng)點有相同的相位

答案:電子在晶體各元胞對應(yīng)點出現(xiàn)的概率相同有效質(zhì)量的引入,使得在研究晶體中電子的運動時()。

A:只需考慮半導(dǎo)體所受外力B:把半導(dǎo)體所受外力和電子加速度直接聯(lián)系了起來C:可以不考慮半導(dǎo)體所受外力D:把電子所受外力和電子加速度直接聯(lián)系了起來

答案:只需考慮半導(dǎo)體所受外力;把半導(dǎo)體所受外力和電子加速度直接聯(lián)系了起來單電子近似包含了晶體無雜質(zhì)和缺陷、晶體中原子固定不動兩方面的理想化。()

A:對B:錯

答案:對自由電子慣性質(zhì)量是m0,而半導(dǎo)體中的電子由于受到半導(dǎo)體中原子核和其他大量電子的勢場力影響,其質(zhì)量變成了有效質(zhì)量mn*。()

A:錯B:對

答案:錯

第二章單元測試

電離后向?qū)峁╇娮拥碾s質(zhì)稱為()。

A:受主雜質(zhì)B:施主雜質(zhì)C:復(fù)合中心D:雙性雜質(zhì)

答案:施主雜質(zhì)室溫下,在硅材料中摻入濃度為1015cm-3的雜質(zhì)硼(),則引入的雜質(zhì)能級()。

A:靠近導(dǎo)帶底B:在禁帶中線附近C:靠近價帶頂D:進入價帶

答案:靠近價帶頂雜質(zhì)對于半導(dǎo)體導(dǎo)電性能有很大影響,下面哪兩種雜質(zhì)分別摻雜在硅中能顯著地提高硅的導(dǎo)電性能()。

A:鈦或銅B:金或銀C:硼或鐵D:硼或磷

答案:硼或磷只形成原子空位的點缺陷稱為()。

A:刃型位錯B:弗倫克爾缺陷C:肖特基缺陷D:陷阱

答案:肖特基缺陷Au在Ge中電離后可以引入四個能級,且都是深能級。()

A:錯B:對

答案:對

第三章單元測試

T>0K時,關(guān)于費米分布函數(shù),以下說法正確的是()。

A:當(dāng)E=EF時,f(E)=50%,與溫度大小無關(guān)。B:當(dāng)E<EF時,f(E)>50%且f(E)隨T的增大而增大。C:當(dāng)E>EF時,f(E)>50%且f(E)隨T的增大而增大。D:隨E的增大,f(E)單調(diào)增大。

答案:當(dāng)E=EF時,f(E)=50%,與溫度大小無關(guān)。關(guān)于本征半導(dǎo)體,以下說法正確的是()。

A:不含雜質(zhì)的半導(dǎo)體,稱為本征半導(dǎo)體。B:隨著T增大,費米能級Ei趨于禁帶中線。C:對于本征Si,只含有聲學(xué)波散射機構(gòu)。D:費米能級Ei處在禁帶中線附近。

答案:對于本征Si,只含有聲學(xué)波散射機構(gòu)。關(guān)于強電離區(qū)n型非簡并半導(dǎo)體,以下說法正確的是()。

A:費米能級隨施主濃度增大遠(yuǎn)離導(dǎo)帶底EcB:空穴濃度與施主濃度成反比C:載流子濃度幾乎不隨溫度而變化D:費米能級隨溫度增大趨于導(dǎo)帶底Ec

答案:空穴濃度與施主濃度成反比對于n型非簡并半導(dǎo)體,以下說法正確的是()。

A:n0、p0表達(dá)式不適用于本征半導(dǎo)體B:n0p0積與溫度T無關(guān)C:n0p0積與EF無關(guān)D:p0與摻雜濃度ND無關(guān)

答案:n0p0積與EF無關(guān)對于n型非簡并半導(dǎo)體所處的五個溫區(qū),以下說法正確的是()。

A:中間電離區(qū)電子和空穴濃度大小可以相比擬B:強電離區(qū)的本征激發(fā)不可忽略不計C:低溫弱電離區(qū)的載流子濃度幾乎不隨溫度而變化D:過渡區(qū)的電子和空穴濃度大小可以相比擬

答案:過渡區(qū)的電子和空穴濃度大小可以相比擬

第四章單元測試

載流子在電場作用下的運動為()。

A:擴散運動B:漂移運動C:熱運動D:共有化運動

答案:漂移運動隨著溫度的升高,雜質(zhì)半導(dǎo)體中載流子受電離雜質(zhì)散射的幾率增大。()

A:錯B:對

答案:錯光學(xué)波代表原胞中兩個原子相位相同的振動,長光學(xué)波代表原胞質(zhì)心的振動。()

A:對B:錯

答案:錯對多能谷半導(dǎo)體,如果用電導(dǎo)有效質(zhì)量代替有效質(zhì)量,遷移率仍具有和各向同性半導(dǎo)體遷移率相同的表達(dá)形式。()

A:錯B:對

答案:對溫度高到本征導(dǎo)電起主要作用時,一般器件就不能正常工作了。()

A:錯B:對

答案:對

第五章單元測試

器件生產(chǎn)中的摻金工藝是縮短少子壽命的有效手段,通過改變Si中金含量,可以大幅度縮短少子的壽命。()

A:錯B:對

答案:錯關(guān)于表面復(fù)合,以下說法正確的是()。

A:同樣表面情況,樣品越小,非平衡載流子壽命越長B:半導(dǎo)體的表面越粗糙,非平衡載流子的壽命越短C:表面復(fù)合屬于直接復(fù)合D:表面復(fù)合不易受外界環(huán)境影響

答案:半導(dǎo)體的表面越粗糙,非平衡載流子的壽命越短關(guān)于半導(dǎo)體內(nèi)部作用,以下說法正確的是()。

A:當(dāng)光停止照射后,半導(dǎo)體會逐漸恢復(fù)原先的熱平衡狀態(tài)B:熱平衡是絕對靜止的狀態(tài)C:當(dāng)光停止照射后,半導(dǎo)體內(nèi)部載流子濃度不會再改變D:當(dāng)光照射半導(dǎo)體時,其內(nèi)部只發(fā)生載流子產(chǎn)生的過程

答案:當(dāng)光停止照射后,半導(dǎo)體會逐漸恢復(fù)原先的熱平衡狀態(tài)有關(guān)非平衡載流子的壽命,以下說法正確的是()。

A:在外部激勵去除后,非平衡載流子全部復(fù)合所經(jīng)歷的時間稱為非平衡載流子的壽命B:在壽命時間處,復(fù)合的非平衡載流子濃度為原先的1/eC:值越大的半導(dǎo)體,其非平衡載流子復(fù)合率越高D:不同材料或同一種材料在不同條件下,非平衡載流子的壽

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