無(wú)損檢測(cè)-金屬材料渦流陣列檢測(cè)技術(shù)規(guī)范

1無(wú)損檢測(cè)-金屬材料渦流陣列檢測(cè)技術(shù)規(guī)范本文件規(guī)定了金屬材料渦流陣列檢測(cè)技術(shù)規(guī)范的縮略語(yǔ)、一般要求、校準(zhǔn)和校驗(yàn)、技術(shù)、檢測(cè)、檢測(cè)結(jié)果評(píng)定、驗(yàn)收準(zhǔn)則、文件。本文件適用于使用渦流陣列（ECA）技術(shù)檢測(cè)金屬材料的表面和近表面缺陷及其尺寸定量。其他導(dǎo)電材料的檢測(cè)可參照?qǐng)?zhí)行。2規(guī)范性引用文件下列文件中的內(nèi)容通過(guò)文中的規(guī)范性引用而構(gòu)成本文件必不可少的條款。其中，注日期的引用文件，僅該日期對(duì)應(yīng)的版本適用于本文件；不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。GB/T9445無(wú)損檢測(cè)人員資格鑒定與認(rèn)證GB/T12604.6無(wú)損檢測(cè)術(shù)語(yǔ)渦流檢測(cè)GB/T20737無(wú)損檢測(cè)通用術(shù)語(yǔ)和定義3術(shù)語(yǔ)和定義GB/T12604.6、GB/T20737界定的以及下列術(shù)語(yǔ)和定義適用于本文件。3.1渦流陣列檢測(cè)技術(shù)eddycurrentarry（ECA）testingtechnology電子驅(qū)動(dòng)多個(gè)按一定方式排布的線(xiàn)圈，能夠一次完成大面積掃查，并對(duì)檢測(cè)結(jié)果進(jìn)行C掃描顯示的渦流檢測(cè)技術(shù)。3.2相幅圖phase-amplitudediagram也稱(chēng)阻抗平面圖，描述檢測(cè)線(xiàn)圈阻抗隨檢測(cè)參數(shù)變化函數(shù)關(guān)系的坐標(biāo)點(diǎn)軌跡圖。3.3C掃描C-scan一種對(duì)被檢工件表面進(jìn)行二維探測(cè)響應(yīng)的數(shù)據(jù)顯示方式，橫坐標(biāo)和縱坐標(biāo)代表探頭在工件表面的位置，像素色彩或灰度代表在工件表面的探測(cè)響應(yīng)。3.4拓?fù)鋞opology按規(guī)律排布的線(xiàn)圈的幾何結(jié)構(gòu)。3.5拓?fù)浼夹g(shù)topologytechnology如何將多個(gè)線(xiàn)圈布置在一個(gè)探頭內(nèi)部，且如果控制它們實(shí)現(xiàn)不同的激勵(lì)與接收組合，從而建立一個(gè)或多個(gè)渦流陣列通道。3.6平衡balance信號(hào)檢測(cè)工作點(diǎn)補(bǔ)償至預(yù)定值的一種信號(hào)處理。4縮略語(yǔ)下列縮略語(yǔ)適用于本文件：ECA：渦輪陣列（EddyCurrentArray）SNR：信噪比（SignaltoNoiseRatio）EC：渦流（EddyCurrent）2ECT：渦流檢測(cè)（EddyCurrentTesting）MT：磁粉檢測(cè)（MagneticParticleTesting）PT：滲透檢測(cè)（PenetrantTesting）5一般要求5.1檢測(cè)人員5.1.1按照本文件實(shí)施檢測(cè)的人員，應(yīng)按照GB/T9445或者合同各方均同意的體系進(jìn)行資格鑒定與認(rèn)證。5.1.2實(shí)施渦流陣列（ECA）檢測(cè)的人員的最低資格等級(jí)應(yīng)為渦流檢測(cè)（ECT）II級(jí)，并經(jīng)過(guò)至少20h的ECA補(bǔ)充培訓(xùn)。5.1.3渦流陣列（ECA）檢測(cè)方法使用的補(bǔ)充培訓(xùn)至少應(yīng)包括以下主題：a)對(duì)特定的渦流陣列（ECA）硬件和軟件進(jìn)行培訓(xùn)；b)渦流陣列（ECA）檢測(cè)的優(yōu)點(diǎn)和局限性；c)渦流陣列（ECA）探頭類(lèi)型、構(gòu)造和操作；d)通道標(biāo)準(zhǔn)化；e)C掃描解釋?zhuān)籪)相位-幅度數(shù)據(jù)分析解釋?zhuān)籫)編碼掃查。5.2檢測(cè)設(shè)備和器材5.2.1渦流陣列（ECA）檢測(cè)儀器5.2.1.1渦流陣列（ECA）儀器應(yīng)基于通道多路復(fù)用或并行通道系統(tǒng)來(lái)管理渦流陣列（ECA）探測(cè)信號(hào)。5.2.1.2渦流陣列（ECA）儀器最小使用頻率范圍應(yīng)為1kHz至4MHz。5.2.1.3渦流陣列（ECA）儀器及其相關(guān)軟件應(yīng)符合以下要求：a)允許通過(guò)對(duì)每個(gè)線(xiàn)圈通道的數(shù)據(jù)響應(yīng)進(jìn)行單獨(dú)的調(diào)整（例如縮放）來(lái)標(biāo)準(zhǔn)化渦流陣列（ECA）探測(cè)信號(hào)響應(yīng)，以便在陣列通道之間提供統(tǒng)一的響應(yīng)和靈敏度（即通道標(biāo)準(zhǔn)化）；b)將數(shù)據(jù)顯示為二維C掃描，允許進(jìn)行基于圖像的分析。在傳統(tǒng)的相幅圖和帶狀圖視圖中也應(yīng)顯示數(shù)據(jù)；c)允許調(diào)整編碼器設(shè)置和顯示分辨率（mm/樣本）；d)允許以評(píng)估和存檔存儲(chǔ)的格式記錄渦流陣列（ECA）數(shù)據(jù)。5.2.2探頭5.2.2.1基本要求探頭應(yīng)滿(mǎn)足以下基本要求：a)應(yīng)提供超出被檢區(qū)域3mm的覆蓋范圍，否則需使用多次重疊掃查；b)在整個(gè)陣列傳感器上表現(xiàn)出均勻的靈敏度，可能需要疊加單個(gè)傳感元件來(lái)達(dá)到均勻的靈敏度水平（例如典型的多行交錯(cuò)的單個(gè)傳感元件）。針對(duì)檢測(cè)的目的，對(duì)于同一參考試塊缺陷的多次掃查，應(yīng)保持至少達(dá)到檢測(cè)到的最大振幅的60%的振幅響應(yīng)。陣列線(xiàn)圈靈敏度變化見(jiàn)圖1；c)允許探測(cè)所有方向上體積性和線(xiàn)性表面斷裂缺陷；d)匹配被檢區(qū)域的幾何形狀，以最小化被檢表面與單個(gè)傳感元件之間的距離（即“提離”）。注：對(duì)同一缺陷的多次掃查應(yīng)始終保持至少達(dá)到檢測(cè)到的最大振幅的60%。3圖1陣列線(xiàn)圈靈敏度變化5.2.2.2探頭的拓?fù)浼夹g(shù)根據(jù)探頭內(nèi)部線(xiàn)圈（傳感元件）激勵(lì)與接收的不同組合工作模式，探頭的拓?fù)浼夹g(shù)分為阻抗式和激勵(lì)/接收分離式兩種：a)阻抗式：阻抗式主要指基于常規(guī)渦流技術(shù)，一個(gè)或一組線(xiàn)圈既做激勵(lì)又做接收的一種工作模式，其主要優(yōu)勢(shì)是在提離較小的情況下，對(duì)任何方向缺陷均有較好的靈敏度和檢出率。阻抗式又常分為兩種經(jīng)典模式：——絕對(duì)式——單個(gè)線(xiàn)圈被激勵(lì)且獨(dú)立工作，激勵(lì)渦流場(chǎng)并感應(yīng)渦流場(chǎng)本身的變化；——差動(dòng)式——兩個(gè)線(xiàn)圈被同時(shí)激勵(lì)工作，如果兩個(gè)線(xiàn)圈經(jīng)過(guò)沒(méi)有缺陷的區(qū)域，渦流場(chǎng)無(wú)變化，兩者的響應(yīng)值無(wú)差異，因?yàn)閮烧叨荚谕瑯拥墓ぜ线M(jìn)行工作。如果一個(gè)線(xiàn)圈檢測(cè)到缺陷而另外一個(gè)線(xiàn)圈還在工件完好區(qū)域，將產(chǎn)生一個(gè)信號(hào)差值，利用此特性可以對(duì)缺陷進(jìn)行一定的評(píng)估。b)激勵(lì)/接收分離式：激勵(lì)/接收分離的拓?fù)浼夹g(shù)是渦流陣列探頭主要的一種工作模式，通常須由兩排線(xiàn)圈協(xié)同工作，組成縱向（軸向）通道和橫向（周向）通道。縱向（軸向）通道用于檢測(cè)垂直于線(xiàn)圈陣列排布方向的缺陷，橫向（周向）通道主要用于檢測(cè)平行于線(xiàn)圈陣列排布方向的缺陷。激勵(lì)/接收分離式也分為兩種模式：——長(zhǎng)距，單激勵(lì)——這種拓?fù)浼夹g(shù)使用了一種較為傳統(tǒng)的產(chǎn)生渦流信號(hào)的方法：利用一個(gè)線(xiàn)圈作為激勵(lì)源。這種單激勵(lì)方式是檢測(cè)較大和（或）近表面缺陷較優(yōu)的選擇，且長(zhǎng)距單激勵(lì)技術(shù)相對(duì)短距雙激勵(lì)技術(shù)對(duì)提離高度變化較為不敏感，可以容忍更大的提離變化。見(jiàn)圖2；圖2長(zhǎng)距，單激勵(lì)模式——短距，雙激勵(lì)——這種拓?fù)浼夹g(shù)使用了兩個(gè)線(xiàn)圈同時(shí)作為激勵(lì)源，形成一個(gè)更大的激勵(lì)源。激勵(lì)源越大，相對(duì)單激勵(lì)模式缺陷響應(yīng)更強(qiáng)，靈敏度更高。然而在同樣線(xiàn)圈數(shù)量基礎(chǔ)上，雙激勵(lì)形成的通道數(shù)會(huì)少于單激勵(lì)通道數(shù)。見(jiàn)圖3。4圖3短距，雙激勵(lì)模式5.2.3編碼器編碼器應(yīng)有足夠的分辨率，應(yīng)能保證掃查方向上的位置測(cè)量精度。5.2.4參考試塊5.2.4.1參考試塊應(yīng)采用與待檢材料等級(jí)相同的材料制造。參考試塊提離信號(hào)與被檢材料提離信號(hào)的差值應(yīng)在±5°范圍內(nèi)，否則應(yīng)采用更接近被檢試件的材料重新加工制作參考試塊。5.2.4.2參考試塊的表面粗糙度應(yīng)代表待檢部件表面的表面粗糙度。5.2.4.3參考試塊應(yīng)在縱向掃查方向的開(kāi)始和結(jié)束處有一個(gè)38mm的無(wú)缺陷區(qū)域。鐵磁和非鐵磁參考試塊應(yīng)至少有一個(gè)平底孔和三個(gè)表面槽。表面槽應(yīng)包括斜向（即45°)、橫向和縱向方向。同一縱向方向的缺陷之間距離至少應(yīng)為13mm。平底孔的最大直徑和深度各為1.5mm和1.0mm。每條槽的長(zhǎng)度、寬度和深度的最大值各為1.5mm、0.25mm和1.0mm。此外，鐵磁和非鐵磁材料的參考試塊應(yīng)有恒定深度的長(zhǎng)橫槽，用于通道標(biāo)準(zhǔn)化。長(zhǎng)橫槽的長(zhǎng)度應(yīng)超過(guò)渦流陣列（ECA）探頭線(xiàn)圈的覆蓋范圍，至少為25mm，寬度和深度的最大值應(yīng)為0.25mm和1.0mm。見(jiàn)圖4。標(biāo)引序號(hào)說(shuō)明：1—長(zhǎng)橫槽；3～5—表面槽。圖4參考試塊5.2.4.4當(dāng)被檢區(qū)域是曲面，需使用具有匹配輪廓表面的剛性探頭時(shí)，應(yīng)使用具有上述參考缺陷的特定幾何形狀的代表性參考試樣。5.2.4.5參考試塊制造過(guò)程中的加工應(yīng)避免過(guò)度冷加工、過(guò)熱和應(yīng)力，以防止磁導(dǎo)率變化。5.3檢測(cè)環(huán)境5.3.1實(shí)施檢測(cè)的場(chǎng)地溫度和相對(duì)濕度應(yīng)控制在渦流陣列（ECA）檢測(cè)設(shè)備和被檢工件允許的范圍內(nèi)。5.3.2檢測(cè)場(chǎng)地附近不應(yīng)有影響渦流陣列（ECA）檢測(cè)設(shè)備正常工作的磁場(chǎng)、震動(dòng)、腐蝕性氣體及其他干擾。5.4工藝規(guī)程5.4.1要求渦流陣列（ECA）檢測(cè)應(yīng)按照工藝規(guī)程進(jìn)行，該規(guī)程至少應(yīng)包括表1中所列出的要求。對(duì)于每一個(gè)要求，工藝規(guī)程應(yīng)確定一個(gè)值或幾個(gè)值范圍。5表1渦流陣列（ECA）檢測(cè)工藝規(guī)程要求X—X—X—X—X X—X—X X—X—X —X—X—X5.4.2鑒定5.4.2.1當(dāng)相關(guān)規(guī)范規(guī)定工藝規(guī)程要鑒定時(shí)，表1中重要變數(shù)的要求的變化，應(yīng)通過(guò)演示對(duì)工藝規(guī)程進(jìn)行重新鑒定。非重要變數(shù)的要求的變化，不要求對(duì)工藝規(guī)程進(jìn)行重新鑒定。5.4.2.2所有工藝規(guī)程規(guī)定的重要或非重要變數(shù)發(fā)生變化，均應(yīng)對(duì)工藝規(guī)程作出修改或增補(bǔ)。5.4.3演示5.4.3.1工藝規(guī)程應(yīng)按照有關(guān)規(guī)范的要求進(jìn)行演示，并使檢驗(yàn)人員和負(fù)責(zé)的III級(jí)人員滿(mǎn)意。5.4.3.2推薦使用附錄A中所述試樣進(jìn)行演示。6校準(zhǔn)和校驗(yàn)6.1設(shè)備校準(zhǔn)每年應(yīng)對(duì)渦流陣列（ECA）儀器進(jìn)行校準(zhǔn)，當(dāng)設(shè)備損壞和/或進(jìn)行任何重大維修后，也應(yīng)進(jìn)行校準(zhǔn)。渦流陣列（ECA）儀器應(yīng)附有顯示最新校準(zhǔn)日期和校準(zhǔn)到期日期的標(biāo)簽。6.2系統(tǒng)校驗(yàn)和驗(yàn)證6.2.1檢測(cè)設(shè)備的系統(tǒng)校驗(yàn)應(yīng)使用工藝規(guī)程中規(guī)定的參考試塊進(jìn)行。該校驗(yàn)應(yīng)包括完整的渦流檢查系統(tǒng)，并應(yīng)在檢測(cè)開(kāi)始前進(jìn)行。6.2.2當(dāng)出現(xiàn)下列情況之一時(shí)，應(yīng)使用參考試塊進(jìn)行校驗(yàn)驗(yàn)證：a)導(dǎo)致信號(hào)飽和的材料特性變化；b)檢測(cè)新的部件；c)檢測(cè)設(shè)備疑似運(yùn)行不正常。6.2.3連續(xù)檢測(cè)時(shí)每2h，或一系列檢測(cè)結(jié)束時(shí)應(yīng)進(jìn)行校驗(yàn)驗(yàn)證。當(dāng)校驗(yàn)結(jié)果異常時(shí)，應(yīng)重新進(jìn)行上一次校驗(yàn)正常之后的所有檢測(cè)。7技術(shù)7.1頻率、探頭驅(qū)動(dòng)和增益選擇7.1.1可以采用單頻或多頻技術(shù)。頻率的選擇應(yīng)使提離信號(hào)和參考缺陷之間的相位張角最大化。7.1.2應(yīng)調(diào)整探頭驅(qū)動(dòng)和增益，直到參考缺陷的響應(yīng)具有基于數(shù)據(jù)幅度的信噪比（SNR）大于3。7.2相位調(diào)節(jié)7.2.1相位調(diào)節(jié)應(yīng)有利于缺陷響應(yīng)信號(hào)與提離干擾信號(hào)的區(qū)分和識(shí)別，通常將提離信號(hào)的相位調(diào)節(jié)為6水平方向（0°方向）。7.2.2渦流響應(yīng)信號(hào)會(huì)隨著檢測(cè)頻率的改變而變化，因此在每次改變檢測(cè)頻率后，應(yīng)重新調(diào)節(jié)提離信號(hào)的相位，使其處于水平方向。7.2.3缺陷響應(yīng)信號(hào)與提離信號(hào)之間應(yīng)有盡可能大的相位差，必要時(shí)，可通過(guò)調(diào)節(jié)缺陷響應(yīng)信號(hào)的垂直、水平比來(lái)增大缺陷響應(yīng)信號(hào)與提離信號(hào)間的相位差。7.3通道標(biāo)準(zhǔn)化如果為檢測(cè)選擇的拓?fù)浼夹g(shù)具有不同的通道類(lèi)型（例如縱向和橫向靈敏度則應(yīng)對(duì)每種通道類(lèi)型進(jìn)行通道標(biāo)準(zhǔn)化。通過(guò)傳統(tǒng)的相幅圖對(duì)各陣列通道的缺陷響應(yīng)進(jìn)行復(fù)查，確保通道標(biāo)準(zhǔn)化成功完成。通道標(biāo)準(zhǔn)化過(guò)程應(yīng)在帶有已知長(zhǎng)度、寬度和深度機(jī)加工槽的參考試塊上進(jìn)行。如果可以證明與機(jī)加工槽有相同的功能，則可以使用其他參考點(diǎn)，如已知的提離效應(yīng)或金屬-空氣過(guò)渡區(qū)。7.4調(diào)色板調(diào)整為了區(qū)別于提離效應(yīng)、幾何形狀變化和非缺陷相關(guān)信號(hào)，應(yīng)調(diào)整調(diào)色板比例，直到能清楚地辨別參考缺陷。7.5濾波干擾信號(hào)影響檢測(cè)靈敏度時(shí)，允許使用濾波器過(guò)濾干擾信號(hào)，保留缺陷信號(hào)。7.6應(yīng)用要求7.6.1掃查速度掃查速度不得超過(guò)對(duì)參考試塊缺陷進(jìn)行檢測(cè)的速度。所有缺陷的基于數(shù)據(jù)幅度的信噪比（SNR）應(yīng)保持在大于3。沿掃查軸的最低取樣密度應(yīng)為2個(gè)/mm。7.6.2有涂層表面7.6.2.1在檢測(cè)有涂層材料時(shí)，參考試塊上的涂層厚度應(yīng)為涂層規(guī)范允許的檢測(cè)面的最大厚度?？捎盟芰辖^緣片模擬非導(dǎo)電涂層進(jìn)行工藝鑒定。7.6.2.2使用工藝規(guī)定的最大掃查速度，應(yīng)證明該工藝能夠穿過(guò)最大涂層厚度同樣地檢測(cè)參考試塊缺陷。所有缺陷的基于數(shù)據(jù)幅度的信噪比（SNR）應(yīng)保持在大于3。7.6.3磁導(dǎo)率變化若沿掃查軸的磁導(dǎo)率變化使相幅圖上的渦流陣列（ECA）數(shù)據(jù)信號(hào)飽和，則檢測(cè)技術(shù)人員應(yīng)使用參考試塊進(jìn)行系統(tǒng)校準(zhǔn)驗(yàn)證，將探頭置于受影響的區(qū)域重新平衡儀器，并重新掃查該區(qū)域。7.6.4自動(dòng)化數(shù)據(jù)篩選系統(tǒng)當(dāng)使用自動(dòng)渦流數(shù)據(jù)篩選系統(tǒng)（如報(bào)警裝置）時(shí)，每個(gè)系統(tǒng)都應(yīng)按照書(shū)面規(guī)程進(jìn)行鑒定。7.6.5編碼器校準(zhǔn)7.6.5.1檢測(cè)前應(yīng)對(duì)編碼器進(jìn)行校準(zhǔn)。7.6.5.2校準(zhǔn)方式是使編碼器移動(dòng)一定的距離（不小于500mm）時(shí)，對(duì)渦流陣列（ECA）設(shè)備所顯示的位移長(zhǎng)度與實(shí)際移動(dòng)長(zhǎng)度進(jìn)行比較，其誤差應(yīng)不小于1%，最大不超過(guò)10mm。8檢測(cè)8.1資料審查和現(xiàn)場(chǎng)勘查在實(shí)施檢測(cè)前，檢測(cè)人員應(yīng)了解被檢材料的以下信息：a)材質(zhì)；b)幾何形狀、位置及檢測(cè)范圍；c)表面狀態(tài)；d)涂層類(lèi)型和厚度。78.2表面條件應(yīng)清洗材料表面，以清除松散的鐵磁性、導(dǎo)電性和非導(dǎo)電性碎屑。8.3平衡將探頭放置與工件上進(jìn)行掃查前，應(yīng)先對(duì)儀器進(jìn)行信號(hào)平衡操作。當(dāng)工件磁導(dǎo)率異常時(shí)，應(yīng)按7.6.3進(jìn)行操作。8.4掃查8.4.1施加于渦流陣列（ECA）探頭的壓力應(yīng)足以與被檢部件保持接觸。使用適形陣列探頭時(shí)，應(yīng)對(duì)所有線(xiàn)圈施加一致的壓力。8.4.2應(yīng)通過(guò)重疊掃查對(duì)被檢區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)。沿掃查軸（即掃查方向）的重疊部分應(yīng)包括上次掃查末端的至少一個(gè)探頭寬度。沿步進(jìn)軸的重疊部分應(yīng)包括之前的掃查寬度的6mm。掃查的重疊區(qū)域見(jiàn)圖5。掃查軸方向步進(jìn)軸方向步進(jìn)軸方向圖5掃查的重疊區(qū)域8.4.3當(dāng)不使用編碼器時(shí)，缺陷位置可以通過(guò)補(bǔ)充的手動(dòng)單通道渦流檢測(cè)（ECT）技術(shù)來(lái)確認(rèn)。注：前提是它已經(jīng)通過(guò)性能演示鑒定合格。9檢測(cè)結(jié)果評(píng)定9.1相關(guān)顯示和非相關(guān)顯示判別9.1.1非相關(guān)顯示可能是由于探頭與表面的接觸不一致、由幾何特征引起的探頭運(yùn)動(dòng)或被檢表面的材料性質(zhì)變化而產(chǎn)生的。對(duì)于一個(gè)顯示，其相位響應(yīng)相當(dāng)于參考試塊上的缺陷響應(yīng)，且不能辨別為非相關(guān)顯示的，應(yīng)作為缺陷進(jìn)行評(píng)定和報(bào)告。9.1.2如果還需要進(jìn)一步對(duì)相關(guān)顯示進(jìn)行澄清，或當(dāng)確定要去除缺陷時(shí)，建議用磁粉檢測(cè)(MT)或滲透檢測(cè)(PT)等其他無(wú)損檢測(cè)方法進(jìn)行驗(yàn)證檢測(cè)。9.2長(zhǎng)度定量應(yīng)利用編碼器來(lái)準(zhǔn)確地測(cè)量缺陷長(zhǎng)度。編碼器的分辨率值應(yīng)設(shè)置為最多0.38mm/樣本。9.3深度評(píng)估9.3.1如合同規(guī)定有缺陷深度評(píng)定要求，可采用加工了不同深度人工缺陷的模擬試塊評(píng)估缺陷深度。9.3.2根據(jù)缺陷顯示的信號(hào)幅值與模擬試塊上相關(guān)深度人工缺陷的信號(hào)幅值的比較，評(píng)估缺陷的深度。缺陷顯示信號(hào)的相位可作為缺陷深度評(píng)估的參考信息。10驗(yàn)收準(zhǔn)則驗(yàn)收準(zhǔn)則及被檢件的后續(xù)處理應(yīng)在工藝規(guī)程或者合同規(guī)定的書(shū)面程序中規(guī)定。11.1檢測(cè)報(bào)告11.1.1檢測(cè)報(bào)告應(yīng)包含足夠的信息，以便于相同的檢測(cè)可以重復(fù)實(shí)施。11.1.2檢測(cè)報(bào)告宜包括以下信息：a)被檢試樣的所有者、位置、類(lèi)型、序列號(hào)和標(biāo)識(shí)；b)被檢材質(zhì)；c)試樣編號(hào)系統(tǒng)；d)被檢表面區(qū)域尺寸；e)執(zhí)行檢測(cè)的人員；f)檢測(cè)日期；g)ECA設(shè)備制造商、型號(hào)和序列號(hào)；h)ECA探頭制造商、型號(hào)和序列號(hào)；i)儀器硬件設(shè)置（頻率、探頭驅(qū)動(dòng)、增益和采樣率）；j)參考試塊的編號(hào)、材質(zhì)和圖紙；k)使用的規(guī)程、識(shí)別號(hào)和版本；l)使用的驗(yàn)收準(zhǔn)則；m)試樣靈敏度受限區(qū)域或其他靈敏度降低區(qū)域的識(shí)別；n)檢測(cè)結(jié)果及被檢區(qū)域的相關(guān)草圖或地圖；o)用于進(jìn)一步調(diào)查或確認(rèn)測(cè)試結(jié)果的補(bǔ)充試驗(yàn)；p)延長(zhǎng)的電纜，及其制造商、類(lèi)型和長(zhǎng)度；q)渦流檢測(cè)人員的資格等級(jí)；r)有要求時(shí)的涂層厚度表。11.1.3檢測(cè)報(bào)告的格式應(yīng)在采購(gòu)合同中議定。11.2記錄保存檢測(cè)的各項(xiàng)記錄文件應(yīng)按照相關(guān)規(guī)范的要求進(jìn)行保管。9（規(guī)范性）演示試樣A.1演示試樣的材質(zhì)應(yīng)符合正文5.2.4.1條的要求，長(zhǎng)度×寬度×厚度為200mm×1