JJF(鄂) 112-2024 氧化層膜厚標準樣片校準規(guī)范

湖北省地方計量技術(shù)規(guī)范JJF(鄂)112—2024氧化層膜厚標準樣片校準規(guī)范OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification2024-05-14發(fā)布2024-09-01實施湖北省市場監(jiān)督管理局發(fā)布氧化層膜厚標準樣片校OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification歸口單位：湖北省市場監(jiān)督管理局主要起草單位：中國船舶集團有限公司第七〇九研究所武漢大學(xué)本規(guī)范主要起草人：羅錦暉（中國船舶集團有限公司第七〇九研究所）薄濤（中國船舶集團有限公司第七〇九研究所）熊瑊（中國船舶集團有限公司第七〇九研究所）梁康（武漢大學(xué)）張騁（中國船舶集團有限公司第七〇九研究所）沈威（武漢大學(xué)）丁超（中國船舶集團有限公司第七〇九研究所）鄭鋒（中國船舶集團有限公司第七〇九研究所）I （II） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （1） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （2） （3） （3） （4） （5） （6）1凡是注日期的引用文件，僅注日期的版本適用于本規(guī)范；凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用本規(guī)范。3術(shù)語和計量單位3.1膜厚標準樣片filmthicknessstandardsample3.2標準樣片standardsample3.3薄膜厚度filmthickness由基底表面和生長層薄膜表面所確定的厚度量值。生長層薄膜基底薄膜厚度(d)膜厚標準樣片（以下簡稱標準樣片）是針對集成電路工藝參標準樣片是具備一個或多個典型值的專用標準樣品，通25.1標準樣片厚度的測量范圍5.2標準樣片的厚度標稱值厚度標稱值最大允許誤差±1nm20nm±1nm±2nm±3nm200nm±6nm±15nm±30nm注：標準樣片的標準值和測量不確定度以最終校準結(jié)果賦值為準。5.3標準樣片應(yīng)具備的參數(shù)及性能要求注：以上技術(shù)指標不做合格性判別，僅提供參考。6.2校準用設(shè)備校準用設(shè)備應(yīng)經(jīng)過法定計量技術(shù)機構(gòu)檢定或校準，滿足2)測角儀：掃描方式為θ/2θ,角度重現(xiàn)性為±0.0001°。7校準項目和校準方法7.1校準項目37.2校準方法a)采用如圖2所示方式將標準樣片安放在X射測量標準樣片時，光源發(fā)出出射光以一定入射角度打在被測樣片表面上發(fā)生反射光源8校準結(jié)果的處理4l)如果與校準結(jié)果的有效性和應(yīng)用有關(guān)時，應(yīng)對校準過程中被校對象的設(shè)置和操作復(fù)校時間間隔可由用戶根據(jù)需要自定。相鄰兩次校準時間間隔內(nèi)，被校準標準樣片的計量性能變化應(yīng)在實際需求允許的范圍內(nèi)。建議復(fù)校時間間隔為1年。。5校準記錄參考格式環(huán)境溫度：℃相對濕度：6校準結(jié)果不確定度評定示例標準樣片校準的項目為膜厚，需進行測量不確定度評定。本附錄以膜厚的10nm及200nm的測量不確定度評定為例，說明膜厚標準樣片校準的測量不確定度B.2.1測量模型膜厚的校準采用直接測量的方法，X射線衍射儀以一定角度的致使反射X射線偏振態(tài)改變，根據(jù)反射X射線波長及為標準樣片膜厚δ,見公式：B.2.2測量不確定度來源B.2.3不確定度評定a)X射線衍射儀測量膜厚的誤差引入的不確定度分量uB1：均勻分布，k1=，uB1=3=5.77pmb)X射線衍射儀測量膜厚的重復(fù)性引入的不確定度分量uA1：1234567897c)標準樣片各處膜厚的不均勻性引入的不確定度分量uA2：12345d)標準樣片的穩(wěn)定性引入的不確定度分量uA3：123456B.2.4合成標準不確定度8B.2.5擴展不確定度取包含因子k=2，U=k×uc=0.07nmB.3.1測量模型膜厚的校準采用直接測量的方法，X射線衍射儀以一定角度的致使反射X射線偏振態(tài)改變，根據(jù)反射X射線波長及為標準樣片膜厚δ,見公式:B.3.2測量不確定度來源B.3.3不確定度評定a)X射線衍射儀測量膜厚的誤差引入的不確定度分量uB1：均勻分布，k1=，uB1=3=11.5pmb)X射線衍射儀測量膜厚的重復(fù)性引入的不確定度分量uA1：123456789實驗標準偏差sn(x)=Σ(Σ(xi?x)29c)標準樣片各處膜厚的不均勻性引入的不確定度分