廣東靶材生產(chǎn)建設(shè)項目可行性研究報告參考范文

1、泓域咨詢/廣東靶材生產(chǎn)建設(shè)項目可行性研究報告廣東靶材生產(chǎn)建設(shè)項目可行性研究報告泓域咨詢/規(guī)劃設(shè)計/投資分析 報告說明靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶

2、等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。該靶材項目計劃總投資15326.72萬元，其中：固定資產(chǎn)投資10608.23萬元，占項目總投資的69.21%；流動資金4718.49萬元，占項目總投資的30.79%。達(dá)產(chǎn)年營業(yè)收入34795.00萬元，總成本費(fèi)用27385.77萬元，稅金及附加288.26萬元，利潤總額7409.23萬元，利稅總額8719.45萬元，稅后凈利潤5556.92萬元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額3162.53萬元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤率48.34%，投資利稅率56.89%，投資回報率36.26%，全部投資回收期4.26年，提供就業(yè)職位633個。超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用

3、到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。目錄第一章 項目概況第二章 項目單位概況第三章 建設(shè)背景分析第四章 市場調(diào)研預(yù)測第五章 項目方案分析第六章 項目選址第七章 工程設(shè)計可行性分析第八章 項目工藝可行性第九章 環(huán)境保護(hù)概況第十章 項目安全管理第十一章 風(fēng)險應(yīng)對評估第十二章 項目節(jié)能方案第十三章 實施計劃第十四章

4、項目投資估算第十五章 經(jīng)濟(jì)評價第十六章 綜合結(jié)論第十七章 項目招投標(biāo)方案第一章 項目概況一、項目提出的理由濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽能電池、平板顯示、信息存儲等領(lǐng)域，其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對較少，主要分布在美國、日本等國家和地區(qū)。靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面電子薄膜的關(guān)鍵材料。二、項目概況（一）項目名稱廣東靶材生產(chǎn)建設(shè)項目（二）項目選址xx產(chǎn)業(yè)示范基地廣東，簡稱粵，中華人民共和國省級行政區(qū)，省會廣州。因古地名廣信之東，故名廣東。位于南嶺以南

5、，南海之濱，與香港、澳門、廣西、湖南、江西及福建接壤，與海南隔海相望。下轄21個地級市、65個市轄區(qū)、20個縣級市、34個縣、3個自治縣。廣東是嶺南文化的重要傳承地，在語言、風(fēng)俗、生活習(xí)慣和歷史文化等方面都有著獨(dú)特風(fēng)格。廣東也是目前中國人口最多的省份?？脊抛C實廣東于先秦已存在高度文明，是中華文明發(fā)源地之一。廣東是中國的南大門，處在南海航運(yùn)樞紐位置上，早在30005000年前廣東就已經(jīng)形成以陶瓷為紐帶的貿(mào)易交往圈，并通過水路將其影響擴(kuò)大到沿海和海外島嶼。改革開放后，廣東成為改革開放前沿陣地和引進(jìn)西方經(jīng)濟(jì)、文化、科技的窗口，取得驕人的成績。自1989年起，廣東國內(nèi)生產(chǎn)總值連續(xù)居全國第一位，成為中國

6、第一經(jīng)濟(jì)大省，經(jīng)濟(jì)總量占全國的1/8，已達(dá)到中上等收入國家水平、中等發(fā)達(dá)國家水平。廣東省域經(jīng)濟(jì)綜合競爭力居全國第一。廣東珠三角9市將聯(lián)手港澳打造粵港澳大灣區(qū)，成為與紐約灣區(qū)、舊金山灣區(qū)、東京灣區(qū)并肩的世界四大灣區(qū)之一。2019年，廣東省全年實現(xiàn)地區(qū)生產(chǎn)總值107671.07億元，比上年增長6.2%。場址應(yīng)靠近交通運(yùn)輸主干道，具備便利的交通條件，有利于原料和產(chǎn)成品的運(yùn)輸，同時，通訊便捷有利于及時反饋產(chǎn)品市場信息。項目選址應(yīng)符合城鄉(xiāng)建設(shè)總體規(guī)劃和項目占地使用規(guī)劃的要求，同時具備便捷的陸路交通和方便的施工場址，并且與大氣污染防治、水資源和自然生態(tài)資源保護(hù)相一致。對周圍環(huán)境不應(yīng)產(chǎn)生污染或?qū)χ車h(huán)境污染

7、不超過國家有關(guān)法律和現(xiàn)行標(biāo)準(zhǔn)的允許范圍，不會引起當(dāng)?shù)鼐用竦牟粷M，不會造成不良的社會影響。（三）項目用地規(guī)模項目總用地面積41407.36平方米（折合約62.08畝）。（四）項目用地控制指標(biāo)該工程規(guī)劃建筑系數(shù)76.61%，建筑容積率1.63，建設(shè)區(qū)域綠化覆蓋率6.10%，固定資產(chǎn)投資強(qiáng)度170.88萬元/畝。（五）土建工程指標(biāo)項目凈用地面積41407.36平方米，建筑物基底占地面積31722.18平方米，總建筑面積67494.00平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程52023.56平方米，項目規(guī)劃綠化面積4117.68平方米。（六）設(shè)備選型方案項目計劃購置設(shè)備共計87臺（套），設(shè)備購置費(fèi)5492.47

8、萬元。（七）節(jié)能分析1、項目年用電量994455.25千瓦時，折合122.22噸標(biāo)準(zhǔn)煤。2、項目年總用水量22444.52立方米，折合1.92噸標(biāo)準(zhǔn)煤。3、“廣東靶材生產(chǎn)建設(shè)項目投資建設(shè)項目”，年用電量994455.25千瓦時，年總用水量22444.52立方米，項目年綜合總耗能量（當(dāng)量值）124.14噸標(biāo)準(zhǔn)煤/年。達(dá)產(chǎn)年綜合節(jié)能量31.04噸標(biāo)準(zhǔn)煤/年，項目總節(jié)能率26.41%，能源利用效果良好。（八）環(huán)境保護(hù)項目符合xx產(chǎn)業(yè)示范基地發(fā)展規(guī)劃，符合xx產(chǎn)業(yè)示范基地產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)調(diào)整規(guī)劃和國家的產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策；對產(chǎn)生的各類污染物都采取了切實可行的治理措施，嚴(yán)格控制在國家規(guī)定的排放標(biāo)準(zhǔn)內(nèi)，項目建設(shè)不會對區(qū)

9、域生態(tài)環(huán)境產(chǎn)生明顯的影響。（九）項目總投資及資金構(gòu)成項目預(yù)計總投資15326.72萬元，其中：固定資產(chǎn)投資10608.23萬元，占項目總投資的69.21%；流動資金4718.49萬元，占項目總投資的30.79%。（十）資金籌措該項目現(xiàn)階段投資均由企業(yè)自籌。（十一）項目預(yù)期經(jīng)濟(jì)效益規(guī)劃目標(biāo)預(yù)期達(dá)產(chǎn)年營業(yè)收入34795.00萬元，總成本費(fèi)用27385.77萬元，稅金及附加288.26萬元，利潤總額7409.23萬元，利稅總額8719.45萬元，稅后凈利潤5556.92萬元，達(dá)產(chǎn)年納稅總額3162.53萬元；達(dá)產(chǎn)年投資利潤率48.34%，投資利稅率56.89%，投資回報率36.26%，全部投資回收期

10、4.26年，提供就業(yè)職位633個。（十二）進(jìn)度規(guī)劃本期工程項目建設(shè)期限規(guī)劃12個月。項目承辦單位要在技術(shù)準(zhǔn)備、人員配備、施工機(jī)械、材料供應(yīng)等方面給予充分保證。認(rèn)真做好施工技術(shù)準(zhǔn)備工作，預(yù)測分析施工過程中可能出現(xiàn)的技術(shù)難點(diǎn)，提前進(jìn)行技術(shù)準(zhǔn)備，確保施工順利進(jìn)行。三、項目評價1、本期工程項目符合國家產(chǎn)業(yè)發(fā)展政策和規(guī)劃要求，符合xx產(chǎn)業(yè)示范基地及xx產(chǎn)業(yè)示范基地靶材行業(yè)布局和結(jié)構(gòu)調(diào)整政策；項目的建設(shè)對促進(jìn)xx產(chǎn)業(yè)示范基地靶材產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、技術(shù)結(jié)構(gòu)、組織結(jié)構(gòu)、產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的調(diào)整優(yōu)化有著積極的推動意義。2、xxx投資公司為適應(yīng)國內(nèi)外市場需求，擬建“廣東靶材生產(chǎn)建設(shè)項目”，本期工程項目的建設(shè)能夠有力促進(jìn)xx產(chǎn)業(yè)示范

11、基地經(jīng)濟(jì)發(fā)展，為社會提供就業(yè)職位633個，達(dá)產(chǎn)年納稅總額3162.53萬元，可以促進(jìn)xx產(chǎn)業(yè)示范基地區(qū)域經(jīng)濟(jì)的繁榮發(fā)展和社會穩(wěn)定，為地方財政收入做出積極的貢獻(xiàn)。3、項目達(dá)產(chǎn)年投資利潤率48.34%，投資利稅率56.89%，全部投資回報率36.26%，全部投資回收期4.26年，固定資產(chǎn)投資回收期4.26年（含建設(shè)期），項目具有較強(qiáng)的盈利能力和抗風(fēng)險能力。改革開放以來，我國非公有制經(jīng)濟(jì)發(fā)展迅速，在支撐增長、促進(jìn)就業(yè)、擴(kuò)大創(chuàng)新、增加稅收，推動社會主義市場經(jīng)濟(jì)制度完善等方面發(fā)揮了重要作用，已成為我國經(jīng)濟(jì)社會發(fā)展的重要基礎(chǔ)。但部分民營企業(yè)經(jīng)營管理方式和發(fā)展模式粗放，管理方式、管理理念落后，風(fēng)險防范機(jī)制不

12、健全，先進(jìn)管理模式和管理手段應(yīng)用不夠廣泛，企業(yè)文化和社會責(zé)任缺乏，難以適應(yīng)我國經(jīng)濟(jì)社會發(fā)展的新常態(tài)和新要求。公有制為主體、多種所有制經(jīng)濟(jì)共同發(fā)展,是我國的基本經(jīng)濟(jì)制度；毫不動搖鞏固和發(fā)展公有制經(jīng)濟(jì)，毫不動搖鼓勵、支持和引導(dǎo)非公有制經(jīng)濟(jì)發(fā)展，是黨和國家的大政方針。今天，我們對民營經(jīng)濟(jì)的包容與支持始終如一，人們在市場經(jīng)濟(jì)中創(chuàng)造未來的激情也澎湃如昨。2016年7月，工業(yè)和信息化部與發(fā)展改革委等11部門聯(lián)合發(fā)布了關(guān)于引導(dǎo)企業(yè)創(chuàng)新管理提質(zhì)增效的指導(dǎo)意見，并采取了一系列卓有成效的具體措施。認(rèn)真貫徹落實十八屆三中全會提出“鼓勵有條件的私營企業(yè)建立現(xiàn)代企業(yè)制度”，會同發(fā)展改革委等有關(guān)部門，推動有條件的地區(qū)開展

13、非公有制企業(yè)建立現(xiàn)代企業(yè)制度試點(diǎn)工作，引導(dǎo)企業(yè)樹立現(xiàn)代企業(yè)經(jīng)營管理理念，增強(qiáng)企業(yè)內(nèi)在活力和創(chuàng)造力。開展管理咨詢服務(wù)，建立中小企業(yè)管理咨詢服務(wù)專家信息庫，并在中國中小企業(yè)信息網(wǎng)和中國企業(yè)家聯(lián)合會網(wǎng)站公布，供廣大民營企業(yè)、中小企業(yè)選用，為各地開展管理咨詢服務(wù)提供支撐；鼓勵和支持管理咨詢機(jī)構(gòu)和志愿者開展管理診斷、管理咨詢服務(wù)，幫助企業(yè)提升管理水平。實施企業(yè)經(jīng)營管理人才素質(zhì)提升工程和中小企業(yè)銀河培訓(xùn)工程，全年完成對50萬中小企業(yè)經(jīng)營管理者和1000名中小企業(yè)領(lǐng)軍人才的培訓(xùn)，推動企業(yè)提升管理水平。民營企業(yè)貼近市場、嗅覺敏銳、機(jī)制靈活，在推進(jìn)企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新能力建設(shè)方面起到重要作用。認(rèn)定國家技術(shù)創(chuàng)新示范企業(yè)和

14、培育工業(yè)設(shè)計企業(yè)，有助于企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新能力進(jìn)一步升級。同時，大量民營企業(yè)走在科技、產(chǎn)業(yè)、時尚的最前沿，能夠綜合運(yùn)用科技成果和工學(xué)、美學(xué)、心理學(xué)、經(jīng)濟(jì)學(xué)等知識，對工業(yè)產(chǎn)品的功能、結(jié)構(gòu)、形態(tài)及包裝等進(jìn)行整合優(yōu)化創(chuàng)新，服務(wù)于工業(yè)設(shè)計，豐富產(chǎn)品品種、提升產(chǎn)品附加值，進(jìn)而創(chuàng)造出新技術(shù)、新模式、新業(yè)態(tài)。“十三五”時期，是我省全面建成小康社會的決勝階段，是制造業(yè)實現(xiàn)由大到強(qiáng)戰(zhàn)略性轉(zhuǎn)變的關(guān)鍵階段，是新舊動力轉(zhuǎn)換特別是新動力加速形成的核心階段。綜觀國際國內(nèi)形勢，我省制造業(yè)發(fā)展處于可以大有作為的重要戰(zhàn)略機(jī)遇期，同時也面臨諸多風(fēng)險和挑戰(zhàn)。四、主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)一覽表序號項目單位指標(biāo)備注1占地面積平方米41407

15、.3662.08畝1.1容積率1.631.2建筑系數(shù)76.61%1.3投資強(qiáng)度萬元/畝170.881.4基底面積平方米31722.181.5總建筑面積平方米67494.001.6綠化面積平方米4117.68綠化率6.10%2總投資萬元15326.722.1固定資產(chǎn)投資萬元10608.232.1.1土建工程投資萬元4977.212.1.1.1土建工程投資占比萬元32.47%2.1.2設(shè)備投資萬元5492.472.1.2.1設(shè)備投資占比35.84%2.1.3其它投資萬元138.552.1.3.1其它投資占比0.90%2.1.4固定資產(chǎn)投資占比69.21%2.2流動資金萬元4718.492.2.1流

16、動資金占比30.79%3收入萬元34795.004總成本萬元27385.775利潤總額萬元7409.236凈利潤萬元5556.927所得稅萬元1.638增值稅萬元1021.969稅金及附加萬元288.2610納稅總額萬元3162.5311利稅總額萬元8719.4512投資利潤率48.34%13投資利稅率56.89%14投資回報率36.26%15回收期年4.2616設(shè)備數(shù)量臺（套）8717年用電量千瓦時994455.2518年用水量立方米22444.5219總能耗噸標(biāo)準(zhǔn)煤124.1420節(jié)能率26.41%21節(jié)能量噸標(biāo)準(zhǔn)煤31.0422員工數(shù)量人633 第二章 項目單位概況一、項目承辦單位基本情

17、況（一）公司名稱xxx科技發(fā)展公司（二）公司簡介公司始終堅持“人本、誠信、創(chuàng)新、共贏”的經(jīng)營理念，以“市場為導(dǎo)向、顧客為中心”的企業(yè)服務(wù)宗旨，竭誠為國內(nèi)外客戶提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品和一流服務(wù)，歡迎各界人士光臨指導(dǎo)和洽談業(yè)務(wù)。展望未來，公司將圍繞企業(yè)發(fā)展目標(biāo)的實現(xiàn)，在“夢想、責(zé)任、忠誠、一流”核心價值觀的指引下，圍繞業(yè)務(wù)體系、管控體系和人才隊伍體系重塑，推動體制機(jī)制改革和管理及業(yè)務(wù)模式的創(chuàng)新，加強(qiáng)團(tuán)隊能力建設(shè)，提升核心競爭力，努力把公司打造成為國內(nèi)一流的供應(yīng)鏈管理平臺。順應(yīng)經(jīng)濟(jì)新常態(tài)，需要公司積極轉(zhuǎn)變發(fā)展方式，實現(xiàn)內(nèi)涵式增長。為此，公司要求各級單位通過創(chuàng)新驅(qū)動、結(jié)構(gòu)優(yōu)化、產(chǎn)業(yè)升級、提升產(chǎn)品和服務(wù)質(zhì)量、提高

18、效率和效益等路徑，努力實現(xiàn)“做實、做強(qiáng)、做大、做好、做長”的發(fā)展理念。公司通過了GB/ISO9001-2008質(zhì)量體系、GB/24001-2004環(huán)境管理體系、GB/T28001-2011職業(yè)健康安全管理體系和信息安全管理體系認(rèn)證，并獲得CCIA信息系統(tǒng)業(yè)務(wù)安全服務(wù)資質(zhì)證書以及計算機(jī)信息系統(tǒng)集成三級資質(zhì)。 二、公司經(jīng)濟(jì)效益分析上一年度，xxx投資公司實現(xiàn)營業(yè)收入26072.72萬元，同比增長14.44%（3289.34萬元）。其中，主營業(yè)業(yè)務(wù)靶材生產(chǎn)及銷售收入為22274.07萬元，占營業(yè)總收入的85.43%。上年度營收情況一覽表序號項目第一季度第二季度第三季度第四季度合計1營業(yè)收入5475.

19、277300.366778.916518.1826072.722主營業(yè)務(wù)收入4677.556236.745791.265568.5222274.072.1靶材(A)1543.592058.121911.121837.617350.442.2靶材(B)1075.841434.451331.991280.765123.042.3靶材(C)795.181060.25984.51946.653786.592.4靶材(D)561.31748.41694.95668.222672.892.5靶材(E)374.20498.94463.30445.481781.932.6靶材(F)233.88311.8428

20、9.56278.431113.702.7靶材(.)93.55124.73115.83111.37445.483其他業(yè)務(wù)收入797.721063.62987.65949.663798.65根據(jù)初步統(tǒng)計測算，公司實現(xiàn)利潤總額6008.39萬元，較去年同期相比增長453.25萬元，增長率8.16%；實現(xiàn)凈利潤4506.29萬元，較去年同期相比增長846.93萬元，增長率23.14%。上年度主要經(jīng)濟(jì)指標(biāo)項目單位指標(biāo)完成營業(yè)收入萬元26072.72完成主營業(yè)務(wù)收入萬元22274.07主營業(yè)務(wù)收入占比85.43%營業(yè)收入增長率（同比）14.44%營業(yè)收入增長量（同比）萬元3289.34利潤總額萬元6008

21、.39利潤總額增長率8.16%利潤總額增長量萬元453.25凈利潤萬元4506.29凈利潤增長率23.14%凈利潤增長量萬元846.93投資利潤率53.18%投資回報率39.88%財務(wù)內(nèi)部收益率26.33%企業(yè)總資產(chǎn)萬元26603.57流動資產(chǎn)總額占比萬元34.12%流動資產(chǎn)總額萬元9077.15資產(chǎn)負(fù)債率36.46% 第三章 建設(shè)背景分析一、靶材項目背景分析濺射靶材是利用物理氣相沉積技術(shù)制備電子薄膜材料的被轟擊材料，廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體芯片、太陽能電池、平板顯示、信息存儲等領(lǐng)域，其中半導(dǎo)芯片用濺射靶材技術(shù)要求最高，具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量也相對較少，主要分布在美國、日本等國家和地區(qū)。中國濺射

22、靶材行業(yè)起步較晚，目前仍然屬于一個較新的行業(yè)，受益于國家戰(zhàn)略的支持，已經(jīng)開始出現(xiàn)少量專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)(如江豐電子，有研新材等)，并成功開發(fā)出一批高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場化條件。靶材全球市場預(yù)計16-19復(fù)合增速13%。2016年全球濺射靶材市場容量達(dá)113.6億美元，相比于2015年的94.8億美元增長20%。預(yù)測2016-2019年均復(fù)合增長率達(dá)13%，到2019年全球高純?yōu)R射靶材市場規(guī)模將超過163億美元。2016年全球靶材市場的下游結(jié)構(gòu)中，半導(dǎo)體占比10%、平板顯示占34%、太陽能電池占21%、記錄媒體占29%，靶材

23、性能要求依次降低。市場集中度高，日、美占據(jù)80%高端靶材市場。濺射靶材由于其高技術(shù)、高投資、高客戶壁壘，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力企業(yè)較少，以霍尼韋爾、日礦金屬、東曹、普萊克斯等為代表的靶材龍頭企業(yè)2017年占據(jù)全球約80%靶材市場。美、日等跨國企業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈較為完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個環(huán)節(jié)，主導(dǎo)高端的半導(dǎo)體靶材市場；韓國、新加坡及中國臺灣地區(qū)擅長磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域，原料多從國外進(jìn)口；中國靶材產(chǎn)業(yè)正處于起步階段，逐步切入以原料以進(jìn)口為主的全球主流半導(dǎo)體、顯示、光伏等龍頭企業(yè)客戶。預(yù)計2018-2020年國內(nèi)顯示靶材需求增速維持20-25%增速。中國大陸從上世紀(jì)80年代開始進(jìn)入

24、液晶顯示領(lǐng)域，在政府政策導(dǎo)向和產(chǎn)業(yè)扶植下，我國大陸液晶顯示產(chǎn)業(yè)快速發(fā)展，成為平板顯示行業(yè)發(fā)展速度最快的地區(qū)。2016年中國平板顯示器件產(chǎn)業(yè)整體規(guī)模達(dá)到1500億元，同比增長25.99%；2012-2016年國內(nèi)平板顯示增速基本保持在25%以上。此外考慮到國內(nèi)LCD國產(chǎn)替代進(jìn)程加速、再加上OLED滲透率有望快速提升，預(yù)計2018-2020年國內(nèi)平板顯示產(chǎn)業(yè)增速將至少維持在20-25%；對應(yīng)到國內(nèi)顯示靶材的需求也將相應(yīng)增加。靶材應(yīng)用的戰(zhàn)略高地17-20年全球半導(dǎo)體增速有望超預(yù)期，17年國內(nèi)半導(dǎo)體增速24.81%。半導(dǎo)體靶材性能要求位居各類應(yīng)用之首。半導(dǎo)體行業(yè)所需濺射靶材主要用于晶圓制造材料和封裝測

25、試材料。芯片制造對濺射靶材純度要求很高，通常需達(dá)99.9995%（5N5）甚至99.9999%（6N）以上。2017全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)超預(yù)期增速21.62%，從下游需求結(jié)構(gòu)看，17年增長主要源于半導(dǎo)體的主要應(yīng)用是集成電路中的存儲器，增速達(dá)到61.49%，增量來源于人工智能、大數(shù)據(jù)、汽車電子等領(lǐng)域?qū)Ω咝阅苄酒枨罂焖偬嵘?。?5年開始國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)維持20%左右增速，漸成常態(tài)。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)從臺灣向國內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢比較確定，國內(nèi)政策、資金、稅收等各方面也在扶持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。國家集成電路產(chǎn)業(yè)基金第一期規(guī)模1,387億元。，至少帶動省市地方基金共4,651億元，拉動國內(nèi)企業(yè)內(nèi)生增長和海外并購。未來第二期基金計劃

26、啟動，也將持續(xù)拉動國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)增長。2011-2016全球半導(dǎo)體用靶材年復(fù)合增長率3.17%，預(yù)計2018-2020國內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求增速在20%左右。國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)全球半導(dǎo)體用濺射靶材銷售額從2011年的10.1億美元到2016年為11.7億美元，年均復(fù)合增長率為3.17%，其中晶圓制造用濺射靶材年均復(fù)合增長率為2.07%，封裝測試用濺射靶材年均復(fù)合增長率為4.65%。2016年我國集成電路用濺射靶材市場規(guī)模約14億元，年增速達(dá)20%。供給端，隨著國產(chǎn)濺射靶材技術(shù)成熟，尤其是國產(chǎn)濺射靶材具備一定性價比優(yōu)勢，并且符合濺射靶材國產(chǎn)化的政策導(dǎo)向；需求端，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)向國內(nèi)轉(zhuǎn)移的趨勢

27、已基本確立，國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)崛起將推動國內(nèi)半導(dǎo)體靶材需求的提升。預(yù)計2018-2020年我國濺射靶材的市場規(guī)模有望持續(xù)擴(kuò)大，復(fù)合增速將維持在2016年20%左右增速水平。2011-2016全球太陽能用靶材增速保持20%以上。太陽能光伏產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展給太陽能電池用濺射靶材市場帶來了可觀的成長空間，2016年全球太陽能電池用濺射靶材市場規(guī)模23.4億美元，在全球靶材市場中占比約21%。2011-2016年全球太陽能靶材規(guī)模增速一直保持在20%以上。國內(nèi)靶材需求和供給反差懸殊，國產(chǎn)替代進(jìn)程加速。2015國內(nèi)靶材需求全球占比近25%，年速約20%；但國內(nèi)靶材企業(yè)市場份額不到2%，供需比例反差明顯。隨著國

28、內(nèi)濺射靶材技術(shù)的成熟和高純鋁生產(chǎn)技術(shù)的提高，我國靶材生產(chǎn)成本優(yōu)勢明顯，靶材原料之一高純鋁的國內(nèi)進(jìn)出口量差距也在逐步縮小。隨著2019年國家進(jìn)口靶材免稅期結(jié)束，國內(nèi)靶材企業(yè)優(yōu)勢更加突出。預(yù)計2018-2020年國內(nèi)靶材需求將維持20%以上高速增長，市場份額有望進(jìn)一步擴(kuò)大。二、靶材項目建設(shè)必要性分析靶材材料的技術(shù)發(fā)展趨勢與下游應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的薄膜技術(shù)發(fā)展趨勢息息相關(guān)，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)在薄膜產(chǎn)品或元件上的技術(shù)改進(jìn)，靶材技術(shù)也應(yīng)隨之變化。鍍膜靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，用于高能激光武器中，

29、不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等)，即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，

30、有的已經(jīng)用于電腦及計算機(jī)的顯示器制造;在信息存儲產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲器的存儲容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。日本。就美國而言.約有50家中小規(guī)模的靶材制造商及經(jīng)銷商，其中最大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服務(wù)，全球主要靶材制造商通常會在客戶所在地設(shè)立分公司。近段時間，亞洲的一些國家和地區(qū)，如臺灣.韓國和新加坡，就建立了越來越多制造薄膜元件或產(chǎn)品的工廠，如IC、液晶顯示器及光碟制造廠。對靶材廠商而言，這是相當(dāng)重要的新興市場。中國靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展也是與日俱增，不斷的擴(kuò)大自己的規(guī)模和生產(chǎn)技術(shù)，

31、國內(nèi)一線生產(chǎn)制造靶材的品牌已經(jīng)達(dá)到國外最頂尖的技術(shù)水平。2010年，日本三菱公司就在中國臺灣地區(qū)建立了光碟塒靶材的生產(chǎn)基地，可以滿足臺灣50%的靶材需要。BCC(BusinessCommunicationsCompany，商業(yè)咨詢公司)最新的統(tǒng)計報告指出，全球靶材市場將以8.8%的年平均增長率(AAGR)在今后的5年內(nèi)持續(xù)增長，估計銷售額將從1999年的7.2億美元增加到2004年的11億美元。靶材是一種具有高附加價值的特種電子材料，主要使用在微電子，顯示器，存儲器以及光學(xué)鍍膜等產(chǎn)業(yè)上，用以濺射用于尖端技術(shù)的各種薄膜材料。BCC的報告顯示：全球的上述產(chǎn)業(yè)在1999年使用了2.88百萬公斤靶材。

32、換算為面積，則濺射了363百萬平方米的薄膜。而若以單位靶材來計算，全球在1999年則大約使用了37400單位的靶材。這里所要指出的是，隨著應(yīng)用產(chǎn)業(yè)的不同，靶材的形狀與大小也有所差異，其直徑從15Gm到3m都有，而上述的統(tǒng)計資料，則是平均化后的結(jié)果。在所有應(yīng)用產(chǎn)業(yè)中，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對靶材濺射薄膜的品質(zhì)要求是最苛刻的。如今12英寸(300衄口)的硅晶片已制造出來.而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細(xì)晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結(jié)構(gòu)。靶材的結(jié)晶粒子直徑和均勻性已被認(rèn)為是影響薄膜沉積率的關(guān)鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關(guān)系極大，過去99.995%(4

33、N5)純度的銅靶，或許能夠滿足半導(dǎo)體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求，而未米的0.18um藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。平面顯示器(FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機(jī)市場，亦將帶動ITO靶材的技術(shù)與市場需求。如今的iTO靶材有兩種.一種是采用納米狀態(tài)的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結(jié)，一種是采用銦錫合金靶材。銦錫合金靶材可以采用直流反應(yīng)濺射制造ITO薄膜，但是靶表面會氧化而影響濺射率，并且不易得到大尺寸的臺金靶材。如今一般采取第一種方法生產(chǎn)ITO靶材，利用LIRF反應(yīng)濺射鍍膜.靶材具有沉積速度快

34、.且能精確控制膜厚，電導(dǎo)率高，薄膜的一致性好，與基板的附著力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)l。但是靶材制作困難，這是因為氧化銦和氧化錫不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑，能夠獲得密度為理論值的93%98%的靶材，這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。在儲存技術(shù)方面，高密度、大容量硬盤的發(fā)展，需要大量的巨磁阻薄膜材料，CoFCu多層復(fù)合膜是如今應(yīng)用廣泛的巨磁阻薄膜結(jié)構(gòu)。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進(jìn)一步發(fā)展，用它制造的磁光盤具有存儲容量大，壽命長，可反復(fù)無接觸擦寫的特點(diǎn)。如今開發(fā)出來的磁光盤，具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復(fù)合膜結(jié)構(gòu)，TbFeCo

35、/AI結(jié)構(gòu)的Kerr旋轉(zhuǎn)角達(dá)到58，而TbFeCofFa則可以接近0.8。經(jīng)過研究發(fā)現(xiàn)，低磁導(dǎo)率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強(qiáng)度?；阪N銻碲化物的相變存儲器(PCM)顯示出顯著的商業(yè)化潛力,是NOR型閃存和部分DRAM市場的一項替代性存儲器技術(shù)，不過,在實現(xiàn)更快速地按比例縮小的道路上存在的挑戰(zhàn)之一,便是缺乏能夠生產(chǎn)可進(jìn)一步調(diào)低復(fù)位電流的完全密閉單元。降低復(fù)位電流可降低存儲器的耗電量,延長電池壽命和提高數(shù)據(jù)帶寬,這對于當(dāng)前以數(shù)據(jù)為中心的、高度便攜式的消費(fèi)設(shè)備來說都是很重要的特征。 第四章 市場調(diào)研預(yù)測一、靶材行業(yè)分析靶材是濺射薄膜制備的源頭材料，又稱濺射靶材。是制備晶圓、面板、太陽能電池等表面

36、電子薄膜的關(guān)鍵材料。高純度濺射靶材主要應(yīng)用于電子元器件制造的物理氣相沉積（PhysicalVaporDeposition，PVD）工藝。PVD鍍膜目前主要有三種形式，分別是濺射鍍膜、蒸發(fā)鍍膜以及離子鍍膜。為推動國內(nèi)靶材產(chǎn)業(yè)發(fā)展，增強(qiáng)產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和國際競爭力，帶動傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)改造和產(chǎn)品升級換代，我國制定了一系列靶材行業(yè)相關(guān)支持政策。靶材行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用等環(huán)節(jié)。其中，靶材制造和濺射鍍膜環(huán)節(jié)是整個靶材產(chǎn)業(yè)鏈中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)。靶材產(chǎn)業(yè)下游包括半導(dǎo)體、光伏電池、平板顯示器等等，其中，半導(dǎo)體芯片行業(yè)用的金屬靶材，主要種類包括：銅、鉭、鋁、鈦、鈷和鎢等高純靶材，以及鎳鉑、鎢鈦

37、等合金類的靶材。銅靶和鉭靶通常配合起來使用。靶材主要應(yīng)用在平板顯示、記錄媒體、光伏電池、半導(dǎo)體等領(lǐng)域。其中，在靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長期實踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品。因此，半導(dǎo)體芯片對靶材的要求是最高的，價格也最為昂貴。半導(dǎo)體芯片行業(yè)是金屬濺射靶材的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，也是對靶材的成分、組織和性能要求最高的領(lǐng)域。目前晶圓的制造正朝著更小的制程方向發(fā)展，銅導(dǎo)線工藝的應(yīng)用量在逐步增大，因此，銅和鉭靶材的需求將有望持續(xù)增長。鋁靶和鈦靶通常配合起來使用。目前，在汽車電子芯片等需要110nm以上技術(shù)節(jié)點(diǎn)

38、來保證其穩(wěn)定性和抗干擾性的領(lǐng)域，仍需大量使用鋁、鈦靶材。目前，全球的靶材制造行業(yè)，特別是高純度的靶材市場，呈現(xiàn)寡頭壟斷格局，主要由幾家美日大企業(yè)把持，如日本的三井礦業(yè)、日礦金屬、日本東曹、住友化學(xué)、日本愛發(fā)科，以及美國霍尼韋爾、普萊克斯等。日礦金屬是全球最大的靶材供應(yīng)商，靶材銷售額約占全球市場的30%，霍尼韋爾在并購JohnsonMattey、整合高純鋁、鈦等原材料生產(chǎn)廠后，占到全球市約20%的份額，此外，東曹和普萊克斯分別占20%和10%。目前，國內(nèi)靶材廠商主要聚焦在低端產(chǎn)品領(lǐng)域，在半導(dǎo)體、平板顯示器和太陽能電池等市場還無法與國際巨頭全面競爭。但是，依靠國內(nèi)的巨大市場潛力和利好的產(chǎn)業(yè)政策，以

39、及產(chǎn)品價格優(yōu)勢，它們已經(jīng)在國內(nèi)市場占有一定的市場份額，并逐步在個別細(xì)分領(lǐng)域搶占了部分國際大廠的市場空間。近年來，我國政府制定了一系列產(chǎn)業(yè)政策，如863計劃、02專項基金等來加速濺射靶材供應(yīng)的本土化進(jìn)程，推動國產(chǎn)靶材在多個應(yīng)用領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)從無到有的跨越。這些都從國家戰(zhàn)略高度扶植并推動著濺射靶材產(chǎn)業(yè)的發(fā)展壯大。二、靶材市場分析預(yù)測超大規(guī)模集成電路制造過程中要反復(fù)用到的濺射（Sputtering）工藝屬于物理氣相沉積（PVD）技術(shù)的一種，是制備電子薄膜材料的主要技術(shù)之一，它利用離子源產(chǎn)生的離子，在高真空中經(jīng)過加速聚集，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發(fā)生動能交換，使固體表面的原

40、子離開固體并沉積在基底表面，被轟擊的固體是用濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。一般來說，濺射靶材主要由靶坯、背板等部分構(gòu)成，其中，靶坯是高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊后，其表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜；由于高純度金屬強(qiáng)度較低，而濺射靶材需要安裝在專用的機(jī)臺內(nèi)完成濺射過程，機(jī)臺內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境，因此，超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合，背板起到主要起到固定濺射靶材的作用，且需要具備良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。在濺射靶材應(yīng)用領(lǐng)域中，半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的金屬材料純度、內(nèi)部微觀結(jié)構(gòu)等方面都設(shè)定了極其

41、苛刻的標(biāo)準(zhǔn)，需要掌握生產(chǎn)過程中的關(guān)鍵技術(shù)并經(jīng)過長期實踐才能制成符合工藝要求的產(chǎn)品，因此，半導(dǎo)體芯片對濺射靶材的要求是最高的，價格也最為昂貴；相較于半導(dǎo)體芯片，平面顯示器、太陽能電池對于濺射靶材的純度和技術(shù)要求略低一籌，但隨著靶材尺寸的增大，對濺射靶材的焊接結(jié)合率、平整度等指標(biāo)提出了更高的要求。此外，濺射靶材需要安裝在濺射機(jī)臺內(nèi)完成濺射過程，濺射機(jī)臺專用性強(qiáng)，對濺射靶材的形狀、尺寸和精度也設(shè)定了諸多限制。高純度乃至超高純度的金屬材料是生產(chǎn)高純?yōu)R射靶材的基礎(chǔ)，以半導(dǎo)體芯片用濺射靶材為例，若濺射靶材雜質(zhì)含量過高，則形成的薄膜無法達(dá)到使用所要求的電性能，并且在濺射過程中易在晶圓上形成微粒，導(dǎo)致電路短路

42、或損壞，嚴(yán)重影響薄膜的性能。通常情況下，高純金屬提純分為化學(xué)提純和物理提純，為了獲得更高純度的金屬材料，最大限度地去除雜質(zhì)，需要將化學(xué)提純和物理提純結(jié)合使用。在將金屬提純到相當(dāng)高的純度后，往往還需配比其他金屬元素才能投入使用，在這個過程中，需要經(jīng)過熔煉、合金化和鑄造等步驟：通過精煉高純金屬，去除氧氣、氮?dú)獾榷嘤鄽怏w；再加入少量合金元素，使其與高純金屬充分結(jié)合并均勻分布；最后將其鑄造成沒有缺陷的錠材，滿足生產(chǎn)加工過程中對金屬成份、尺寸大小的要求。濺射靶材制造環(huán)節(jié)首先需要根據(jù)下游應(yīng)用領(lǐng)域的性能需求進(jìn)行工藝設(shè)計，然后進(jìn)行反復(fù)的塑性變形、熱處理，需要精確地控制晶粒、晶向等關(guān)鍵指標(biāo)，再經(jīng)過焊接、機(jī)械加工

43、、清洗干燥、真空包裝等工序。濺射靶材制造所涉及的工序精細(xì)且繁多，工序流程管理及制造工藝水平將直接影響到濺射靶材的質(zhì)量和良品率。濺射鍍膜是指物體被離子撞擊時，被濺射飛散出，因被濺射飛散的物體附著于目標(biāo)基板上而制成薄膜的過程，濺射靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。此環(huán)節(jié)是在濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈條中對生產(chǎn)設(shè)備及技術(shù)工藝要求最高的環(huán)節(jié)，濺射薄膜的品質(zhì)對下游產(chǎn)品的質(zhì)量具有重要影響。在濺射鍍膜過程中，濺射靶材需要安裝在機(jī)臺中完成濺射反應(yīng)，濺射機(jī)臺專用性強(qiáng)、精密度高，市場長期被美國、日本跨國集團(tuán)壟斷，主要設(shè)備提供商包括AMAT（美國）、ULVAC（日本）、ANELVA（日本）、Varian（美國）等行業(yè)內(nèi)知名企

44、業(yè)。終端應(yīng)用是針對各類市場需求利用封裝好的元器件制成面向最終用戶的產(chǎn)品，包括汽車電子、智能手機(jī)、平板電腦、家用電器等終端消費(fèi)電子產(chǎn)品。通常情況下，在半導(dǎo)體靶材濺射鍍膜后，需要將鍍膜硅片切割并進(jìn)行芯片封裝。封裝是指將電路用導(dǎo)線連接到外部接頭處，以便與其他器件連接的工序，不僅能夠起到保護(hù)芯片的作用，還將芯片與外界隔離，防止空氣中的雜質(zhì)對芯片電路造成腐蝕而損害導(dǎo)電性能。此外，終端應(yīng)用也包括制備太陽能電池、光學(xué)鍍膜、工具改性、高檔裝飾用品等，此環(huán)節(jié)技術(shù)面較寬，呈現(xiàn)多樣化特征。全球范圍內(nèi)，濺射靶材產(chǎn)業(yè)鏈各環(huán)節(jié)參與企業(yè)數(shù)量基本呈金字塔型分布，高純?yōu)R射靶材制造環(huán)節(jié)技術(shù)門檻高、設(shè)備投資大，具有規(guī)模化生產(chǎn)能力的

45、企業(yè)數(shù)量相對較少，主要分布在美國、日本等國家和地區(qū)，其中，部分企業(yè)同時開展金屬提純業(yè)務(wù)，將產(chǎn)業(yè)鏈延伸到上游領(lǐng)域；部分企業(yè)只擁有濺射靶材生產(chǎn)能力，高純度金屬需要上游企業(yè)供應(yīng)。濺射靶材最高端的應(yīng)用是在超大規(guī)模集成電路芯片制造領(lǐng)域，這個領(lǐng)域只有美國和日本的少數(shù)公司（日礦金屬、霍尼韋爾、東曹、普萊克斯等）從事相關(guān)業(yè)務(wù)，是一個被跨國公司壟斷的行業(yè)。作為濺射靶材客戶端的濺射鍍膜環(huán)節(jié)具有規(guī)?；a(chǎn)能力的企業(yè)數(shù)量相對較多，但質(zhì)量參差不齊，美國、歐洲、日本、韓國等知名企業(yè)居于技術(shù)領(lǐng)先地位，品牌知名度高、市場影響力大，通常會將產(chǎn)業(yè)鏈擴(kuò)展至下游應(yīng)用領(lǐng)域，利用技術(shù)先導(dǎo)優(yōu)勢和高端品牌迅速占領(lǐng)終端消費(fèi)市場，如IBM、飛利

46、浦、東芝、三星等。終端應(yīng)用環(huán)節(jié)是整個產(chǎn)業(yè)鏈中規(guī)模最大的領(lǐng)域，其產(chǎn)品的開發(fā)與生產(chǎn)分散在各個行業(yè)領(lǐng)域，同時，此環(huán)節(jié)具有突出的勞動密集性特點(diǎn)，參與企業(yè)數(shù)量最多，機(jī)器設(shè)備投資一般，主要分布在日本、中國臺灣和中國大陸等，并逐漸將生產(chǎn)工廠向人力成本低的國家和地區(qū)轉(zhuǎn)移。濺射靶材產(chǎn)業(yè)分布具有一定的區(qū)域性特征，美國、日本跨國集團(tuán)產(chǎn)業(yè)鏈完整，囊括金屬提純、靶材制造、濺射鍍膜和終端應(yīng)用各個環(huán)節(jié)，具備規(guī)?；a(chǎn)能力，在掌握先進(jìn)技術(shù)以后實施壟斷和封鎖，主導(dǎo)著技術(shù)革新和產(chǎn)業(yè)發(fā)展；韓國、新加坡及中國臺灣地區(qū)在磁記錄及光學(xué)薄膜領(lǐng)域有所特長。另外由于上述地區(qū)芯片及液晶面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展較早，促使服務(wù)分工明確，可以為產(chǎn)業(yè)鏈下游的品牌企

47、業(yè)提供如焊接、清洗、包裝等專業(yè)代工服務(wù)，將上游基礎(chǔ)材料和下游終端應(yīng)用對接，起到承上啟下的作用，并在一定程度上推動上游濺射靶材的產(chǎn)品開發(fā)和市場擴(kuò)展。但是上述地區(qū)的靶材服務(wù)廠商缺少核心技術(shù)及裝備，不能夠在金屬的提純、組織的控制等核心技術(shù)領(lǐng)域形成競爭力濺射靶材的材料即靶坯依然依賴美國和日本的進(jìn)口。超高純金屬材料及濺射靶材在我國還屬于較新的行業(yè)，以芯片制造廠商、液晶面板制造企業(yè)為代表的下游濺射鍍膜和終端用戶正在加大力度擴(kuò)展產(chǎn)能。從全球來看，芯片及液晶面板行業(yè)制造向中國大陸轉(zhuǎn)移趨勢愈演愈烈，中國正在迎來這一領(lǐng)域的投資高峰。為此高端濺射靶材的應(yīng)用市場需求正在快速增長。由于濺射鍍膜工藝起源于國外，所需要的濺

48、射靶材產(chǎn)品性能要求高、專業(yè)應(yīng)用性強(qiáng)，因此，長期以來全球濺射靶材研制和生產(chǎn)主要集中在美國、日本少數(shù)幾家公司，產(chǎn)業(yè)集中度相當(dāng)高。以霍尼韋爾（美國）、日礦金屬（日本）、東曹（日本）等跨國集團(tuán)為代表的濺射靶材生產(chǎn)商較早涉足該領(lǐng)域，經(jīng)過幾十年的技術(shù)積淀，憑借其雄厚的技術(shù)力量、精細(xì)的生產(chǎn)控制和過硬的產(chǎn)品質(zhì)量居于全球濺射靶材市場的主導(dǎo)地位，占據(jù)絕大部分市場份額。這些企業(yè)在掌握濺射靶材生產(chǎn)的核心技術(shù)以后，實施極其嚴(yán)格的保密措施，限制技術(shù)擴(kuò)散，同時不斷進(jìn)行橫向擴(kuò)張和垂直整合，將業(yè)務(wù)觸角積極擴(kuò)展到濺射鍍膜的各個應(yīng)用領(lǐng)域，牢牢把握著全球濺射靶材市場的主動權(quán)，并引領(lǐng)著全球濺射靶材行業(yè)的技術(shù)進(jìn)步。受到發(fā)展歷史和技術(shù)限制

49、的影響，濺射靶材行業(yè)在我國起步較晚，目前仍然屬于一個較新的行業(yè)。與國際知名企業(yè)生產(chǎn)的濺射靶材相比，我國濺射靶材研發(fā)生產(chǎn)技術(shù)還存在一定差距，市場影響力相對有限，尤其在半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等領(lǐng)域，全球高純?yōu)R射靶材市場依然被美國、日本的濺射靶材生產(chǎn)廠商所控制或壟斷。隨著濺射靶材朝著更高純度、更大尺寸的方向發(fā)展，我國濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)只有不斷進(jìn)行研發(fā)創(chuàng)新，具備較強(qiáng)的產(chǎn)品開發(fā)能力，研制出適用不同應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材產(chǎn)品，才能在全球濺射靶材市場中占得一席之地。半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游工業(yè)對產(chǎn)品的品質(zhì)和穩(wěn)定性等方面有較高的要求，為了嚴(yán)格控制產(chǎn)品質(zhì)量，下游客戶尤其是全球知名廠商在選擇

50、供應(yīng)商時，供應(yīng)商資格認(rèn)證壁壘較高，且認(rèn)證周期較長。我國高純?yōu)R射靶材企業(yè)要進(jìn)入國際市場，首先要通過部分國際組織和行業(yè)協(xié)會為高純?yōu)R射靶材設(shè)置的行業(yè)性質(zhì)量管理體系標(biāo)準(zhǔn)，例如，應(yīng)用于汽車電子的半導(dǎo)體廠商普遍要求上游濺射靶材供應(yīng)商能夠通過ISO/TS16949質(zhì)量管理體系認(rèn)證，應(yīng)用于電器設(shè)備的濺射靶材生產(chǎn)商需要滿足歐盟制定的RoHS強(qiáng)制性標(biāo)準(zhǔn)；其次，半導(dǎo)體芯片、平板顯示器、太陽能電池等下游知名客戶均建立了十分完善的客戶認(rèn)證體系，在高純?yōu)R射靶材供應(yīng)商滿足行業(yè)性質(zhì)量管理體系認(rèn)證的基礎(chǔ)上，下游客戶往往還會根據(jù)自身的質(zhì)量管理要求再對供應(yīng)商進(jìn)行合格供應(yīng)商認(rèn)證。認(rèn)證過程主要包括技術(shù)評審、產(chǎn)品報價、樣品檢測、小批量試

51、用、批量生產(chǎn)等幾個階段，認(rèn)證過程相當(dāng)苛刻，從新產(chǎn)品開發(fā)到實現(xiàn)大批量供貨，整個過程一般需要2-3年時間。為了降低供應(yīng)商開發(fā)與維護(hù)成本，保證產(chǎn)品質(zhì)量的持續(xù)性，濺射靶材供應(yīng)商在通過下游客戶的資格認(rèn)證后，下游客戶會與濺射靶材供應(yīng)商保持長期穩(wěn)定的合作關(guān)系，不會輕易更換供應(yīng)商，并在技術(shù)合作、供貨份額等方面向優(yōu)質(zhì)供應(yīng)商傾斜。近年來，受益于國家從戰(zhàn)略高度持續(xù)地支持電子材料行業(yè)的發(fā)展及應(yīng)用推廣，我國國內(nèi)開始出現(xiàn)不少專業(yè)從事高純?yōu)R射靶材研發(fā)和生產(chǎn)的企業(yè)，并成功開發(fā)出一批能適應(yīng)高端應(yīng)用領(lǐng)域的濺射靶材，為高純?yōu)R射靶材大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化提供了良好的研發(fā)基礎(chǔ)和市場化條件。通過將濺射靶材研發(fā)成果產(chǎn)業(yè)化，積極參與濺射靶材的國際化市

52、場競爭，我國濺射靶材生產(chǎn)企業(yè)在技術(shù)和市場方面都取得了長足的進(jìn)步，改變了高純?yōu)R射靶材長期依賴進(jìn)口的不利局面。目前，包括長沙鑫康在內(nèi)的一些國內(nèi)企業(yè)已經(jīng)掌握了高純?yōu)R射靶材生產(chǎn)的關(guān)鍵技術(shù)，積累了較為豐富的產(chǎn)業(yè)經(jīng)驗，擁有了一定的市場知名度，獲得了全球知名客戶的認(rèn)可。 第五章 項目方案分析一、產(chǎn)品規(guī)劃項目主要產(chǎn)品為靶材，根據(jù)市場情況，預(yù)計年產(chǎn)值34795.00萬元。項目承辦單位應(yīng)建立良好的營銷隊伍，利用多媒體、廣告、連鎖等模式，不斷拓展項目產(chǎn)品良好的營銷渠道，提高企業(yè)的經(jīng)濟(jì)效益。二、建設(shè)規(guī)模（一）用地規(guī)模該項目總征地面積41407.36平方米（折合約62.08畝），其中：凈用地面積41407.36平方米（

53、紅線范圍折合約62.08畝）。項目規(guī)劃總建筑面積67494.00平方米，其中：規(guī)劃建設(shè)主體工程52023.56平方米，計容建筑面積67494.00平方米；預(yù)計建筑工程投資4977.21萬元。（二）設(shè)備購置項目計劃購置設(shè)備共計87臺（套），設(shè)備購置費(fèi)5492.47萬元。（三）產(chǎn)能規(guī)模項目計劃總投資15326.72萬元；預(yù)計年實現(xiàn)營業(yè)收入34795.00萬元。 第六章 項目選址一、項目選址該項目選址位于xx產(chǎn)業(yè)示范基地。廣東，簡稱粵，中華人民共和國省級行政區(qū)，省會廣州。因古地名廣信之東，故名廣東。位于南嶺以南，南海之濱，與香港、澳門、廣西、湖南、江西及福建接壤，與海南隔海相望。下轄21個地級市、6

54、5個市轄區(qū)、20個縣級市、34個縣、3個自治縣。廣東是嶺南文化的重要傳承地，在語言、風(fēng)俗、生活習(xí)慣和歷史文化等方面都有著獨(dú)特風(fēng)格。廣東也是目前中國人口最多的省份。考古證實廣東于先秦已存在高度文明，是中華文明發(fā)源地之一。廣東是中國的南大門，處在南海航運(yùn)樞紐位置上，早在30005000年前廣東就已經(jīng)形成以陶瓷為紐帶的貿(mào)易交往圈，并通過水路將其影響擴(kuò)大到沿海和海外島嶼。改革開放后，廣東成為改革開放前沿陣地和引進(jìn)西方經(jīng)濟(jì)、文化、科技的窗口，取得驕人的成績。自1989年起，廣東國內(nèi)生產(chǎn)總值連續(xù)居全國第一位，成為中國第一經(jīng)濟(jì)大省，經(jīng)濟(jì)總量占全國的1/8，已達(dá)到中上等收入國家水平、中等發(fā)達(dá)國家水平。廣東省域

55、經(jīng)濟(jì)綜合競爭力居全國第一。廣東珠三角9市將聯(lián)手港澳打造粵港澳大灣區(qū)，成為與紐約灣區(qū)、舊金山灣區(qū)、東京灣區(qū)并肩的世界四大灣區(qū)之一。2019年，廣東省全年實現(xiàn)地區(qū)生產(chǎn)總值107671.07億元，比上年增長6.2%。園區(qū)不斷堅持全面深化改革和政策創(chuàng)新，體制機(jī)制改革取得重大進(jìn)展。國家高新區(qū)始終站在國家和社會的改革潮頭，在科技和經(jīng)濟(jì)結(jié)合、科技和金融融合、知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)和運(yùn)用、人才吸引和培育，以及產(chǎn)城融合、國際化發(fā)展等方面開展了全方位的改革探索。大力培育各類創(chuàng)新創(chuàng)業(yè)促進(jìn)組織，建設(shè)公共服務(wù)平臺，形成了結(jié)構(gòu)合理、功能完善、特色鮮明的科技服務(wù)體系，促進(jìn)了科技資源的開放共享。進(jìn)一步深化“小政府，大服務(wù)”的理念，部分

56、國家高新區(qū)探索實施了“負(fù)面清單”管理模式。加大簡政放權(quán)力度，簡化創(chuàng)業(yè)企業(yè)注冊手續(xù)，持續(xù)優(yōu)化大眾創(chuàng)業(yè)、萬眾創(chuàng)新的制度環(huán)境。持續(xù)創(chuàng)新管理體制和社會治理模式，廣泛匯聚利用各類社會力量，積極向產(chǎn)業(yè)組織者轉(zhuǎn)變。國家自創(chuàng)區(qū)作為我國改革創(chuàng)新的先鋒引領(lǐng)，開展了一系列體制機(jī)制和政策創(chuàng)新，成效顯著。先后研究出臺“6+4”、“新四條”、“黃金十條”、“科技新九條”等政策措施，極大程度解放和發(fā)展了科技生產(chǎn)力。場址應(yīng)靠近交通運(yùn)輸主干道，具備便利的交通條件，有利于原料和產(chǎn)成品的運(yùn)輸，同時，通訊便捷有利于及時反饋產(chǎn)品市場信息。項目選址應(yīng)符合城鄉(xiāng)建設(shè)總體規(guī)劃和項目占地使用規(guī)劃的要求，同時具備便捷的陸路交通和方便的施工場址，并且與大氣污染防治、水資源和自然生態(tài)資源保