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文檔簡介
1、電子顯微鏡現(xiàn)在電子顯微鏡最大放大倍率超過1500萬倍,1931年,德國的m。諾爾和e.魯斯卡,用冷陰極放電電子源和三個電子透鏡改裝了一臺高壓示波器,并獲得了放大十幾倍的圖象,發(fā)明的是透射電鏡,證實了電子顯微鏡放大成像的可能性.1932年,經(jīng)過魯斯卡的改進,電子顯微鏡的分辨能力達到了50納米,約為當時光學顯微鏡分辨本領的十倍,突破了光學顯微鏡分辨極限,于是電子顯微鏡開始受到人們的重視.到了二十世紀40年代,美國的希爾用消像散器補償電子透鏡的旋轉不對稱性,使電子顯微鏡的分辨本領有了新的突破,逐步達到了現(xiàn)代水平.在中國,1958年研制成功透射式電子顯微鏡,其分辨本領為3納米,1979年又制成分辨本領
2、為0.3納米的大型電子顯微鏡。電子顯微鏡的分辨本領雖已遠勝于光學顯微鏡,但電子顯微鏡因需在真空條件下工作,所以很難觀察活的生物,而且電子束的照射也會使生物樣品受到輻照損傷.其他的問題,如電子槍亮度和電子透鏡質量的提高等問題也有待繼續(xù)研究。場發(fā)射掃描電子顯微鏡主要用途: 該儀器具有超高分辨率,能做各種固態(tài)樣品表面形貌的二次電子象、反射電子象觀察及圖像處理. 具有高性能x射線能譜儀,能同時進行樣品表層的微區(qū)點線面元素的定性、半定量及定量分析,具有形貌、化學組分綜合分析能力.儀器類別: 03040702 /儀器儀表/光學儀器 /電子光學及離子光學儀器指標信息: 二次電子象分辨率:1。5nm 加速電壓
3、:030kv 放大倍數(shù):10-50萬倍連續(xù)可調工作距離:535mm連續(xù)可調傾斜:-545 x射線能譜儀: 分辨率:133ev 分析范圍:bu附件信息: 鍍金鍍炭儀 isis圖像處理系統(tǒng)背散射探頭場發(fā)射掃描電鏡,由于分辨率高,為納米材料的研究提供了可靠的實驗手段。另外,對半導體材料和絕緣體,都能得到滿意的圖像,對超導薄膜,磁性材料,分子束外延生長的薄膜材料,半導體材料進行了形貌觀察,并對多種材料進行了微區(qū)成份分析,均能得到滿意的結果尊敬的讀者:本文由我和我的同事在百忙中收集整編出來,本文檔在發(fā)布之前我們對內容進行仔細校對,但是難免會有不盡如人意之處,如有疏漏之處請指正,希望本文能為您解開疑惑,引
4、發(fā)思考。文中部分文字受到網(wǎng)友的關懷和支持,在此表示感謝!在往后的日子希望與大家共同進步,成長。this article is collected and compiled by my colleagues and i in our busy schedule. we proofread the content carefully before the release of this article, but it is inevitable that there will be some unsatisfactory points. if there are omissions, please correct them. i hope this article can solve your doubts and arouse your thinking. part of the text by the users care and support, th
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