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1、第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 0 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 1 載流子的漂移運(yùn)動(dòng)載流子的漂移運(yùn)動(dòng) 載流子擴(kuò)散載流子擴(kuò)散 雜質(zhì)梯度分布雜質(zhì)梯度分布 小結(jié)小結(jié) 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 2 輸運(yùn):載流子(電子、空穴)的凈流動(dòng)過程。輸運(yùn):載流子(電子、空穴)的凈流動(dòng)過程。 最終確定半導(dǎo)體器件電流最終確定半導(dǎo)體器件電流-電壓特性的基礎(chǔ)。電壓特性的基礎(chǔ)。 兩種基本輸運(yùn)機(jī)制:漂移運(yùn)動(dòng)、擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)。兩種基本輸運(yùn)機(jī)制:漂移運(yùn)動(dòng)、擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)。 假設(shè):雖然輸運(yùn)過程中有電子和空穴的凈流動(dòng),但假設(shè):雖然輸運(yùn)過程中有電子和空穴的凈流動(dòng),但 熱平衡狀態(tài)不會(huì)受到干擾。熱平衡狀態(tài)
2、不會(huì)受到干擾。 涵義:涵義:n、p、EF的關(guān)系沒有變化。(輸運(yùn)過程中特定位的關(guān)系沒有變化。(輸運(yùn)過程中特定位 置的載流子濃度不發(fā)生變化)置的載流子濃度不發(fā)生變化) 熱運(yùn)動(dòng)的速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過漂移或擴(kuò)散速度。(外加作用,熱運(yùn)動(dòng)的速度遠(yuǎn)遠(yuǎn)超過漂移或擴(kuò)散速度。(外加作用, 轉(zhuǎn)化為一個(gè)平均的統(tǒng)計(jì)效果)轉(zhuǎn)化為一個(gè)平均的統(tǒng)計(jì)效果) 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 3 漂移運(yùn)動(dòng)漂移運(yùn)動(dòng):載流子在:載流子在外加電場(chǎng)外加電場(chǎng)作用下的作用下的定向運(yùn)動(dòng)定向運(yùn)動(dòng)。 漂移電流漂移電流:載流子:載流子漂移運(yùn)動(dòng)漂移運(yùn)動(dòng)所形成的電流。所形成的電流。 drfd I Jv A v E V A 平均平均漂移速度漂移速度 ep
3、 單位電量單位電量 空穴濃度空穴濃度 假設(shè)載流子為空穴,則假設(shè)載流子為空穴,則 | p drfdp Jep v 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 4 dpp vE 在在弱場(chǎng)弱場(chǎng)情況下,平均漂移速度與外加電場(chǎng)成正比:情況下,平均漂移速度與外加電場(chǎng)成正比: 其中,比例系數(shù)其中,比例系數(shù)p稱作稱作空穴空穴遷移率遷移率。 dnn vE 同理,對(duì)于電子的漂移運(yùn)動(dòng),可得:同理,對(duì)于電子的漂移運(yùn)動(dòng),可得: 其中,比例系數(shù)其中,比例系數(shù)n稱作稱作電子電子遷移率遷移率。 | p drfdpp Jep vepE | n drfnn JenEenE |drfn drfp drfnp JJJenp E 總漂
4、移電流:總漂移電流: 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 5 例例5.1:計(jì)算在已知電場(chǎng)強(qiáng)度下半導(dǎo)體的漂移電流密度。:計(jì)算在已知電場(chǎng)強(qiáng)度下半導(dǎo)體的漂移電流密度。 T=300K時(shí),砷化鎵的摻雜濃度為時(shí),砷化鎵的摻雜濃度為Na=0,Nd=1016cm-3。 設(shè)雜質(zhì)全部電離,若外加電場(chǎng)強(qiáng)度為設(shè)雜質(zhì)全部電離,若外加電場(chǎng)強(qiáng)度為E=10V/cm,求,求 漂移電流密度。漂移電流密度。 解:因?yàn)榻猓阂驗(yàn)镹a=0,Nd=1016cm-3ni,所以,所以 漂移電流為漂移電流為 163 10 d nNcm 2 6 2 43 16 1.8 10 3.24 10 10 i d n pcm N drfnpn Je
5、np EenE 19162 1.6 108500 1010136 A cm 非本征半導(dǎo)體中,漂移電流密度基本上取決于多數(shù)載流子。非本征半導(dǎo)體中,漂移電流密度基本上取決于多數(shù)載流子。 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 6 用有效質(zhì)量來描述空穴加速度與外加電場(chǎng)關(guān)系用有效質(zhì)量來描述空穴加速度與外加電場(chǎng)關(guān)系 其中,其中,e表示電子電荷電量,表示電子電荷電量,a代表加速度,代表加速度,E表示電場(chǎng),表示電場(chǎng), mcp*為空穴的有效質(zhì)量。為空穴的有效質(zhì)量。v表示空穴平均漂移速度(不包括表示空穴平均漂移速度(不包括 熱運(yùn)動(dòng)速度)。熱運(yùn)動(dòng)速度)。 假設(shè)粒子初始速度為假設(shè)粒子初始速度為0,對(duì)上式積分得,
6、對(duì)上式積分得 cpcp dv Fm ameE dt cp eEt v m 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 7 cp表示在兩次碰撞之間的平均漂移時(shí)間表示在兩次碰撞之間的平均漂移時(shí)間。 弱場(chǎng)下,電場(chǎng)所導(dǎo)致的定向漂移速度遠(yuǎn)比熱運(yùn)動(dòng)速度弱場(chǎng)下,電場(chǎng)所導(dǎo)致的定向漂移速度遠(yuǎn)比熱運(yùn)動(dòng)速度 ?。ㄐ。?%),因而加外場(chǎng)后空穴的平均漂移時(shí)間無明),因而加外場(chǎng)后空穴的平均漂移時(shí)間無明 顯變化。利用平均漂移時(shí)間,可求得平均最大漂移速顯變化。利用平均漂移時(shí)間,可求得平均最大漂移速 度為:度為: cp d peak cp e vE m 1 2 3 4 電場(chǎng)電場(chǎng)E 1 2 3 4 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)
7、現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 8 在考慮了統(tǒng)計(jì)分布影響的精確模型中,上式中將沒在考慮了統(tǒng)計(jì)分布影響的精確模型中,上式中將沒 有因子有因子1/2,則,則 cp dp cp e vE m 因而:因而: dpcp p cp e Em 1 2 cp d cp e vE m 平均漂移速度為最大速度的一半,即:平均漂移速度為最大速度的一半,即: 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 9 同理,電子的平均漂移速度為:同理,電子的平均漂移速度為: 其中,其中,cn為電子受到為電子受到碰撞的平均時(shí)間碰撞的平均時(shí)間間隔。間隔。 根據(jù)遷移率和速度及電場(chǎng)的關(guān)系,可知:根據(jù)遷移率和速度及電場(chǎng)的關(guān)系,可知: 可以看到遷移率與有效質(zhì)
8、量有關(guān)??梢钥吹竭w移率與有效質(zhì)量有關(guān)。 有效質(zhì)量小,在相同的平均漂移時(shí)間內(nèi)獲得的漂移速度就大。有效質(zhì)量小,在相同的平均漂移時(shí)間內(nèi)獲得的漂移速度就大。 遷移率還和平均漂移時(shí)間有關(guān),平均漂移時(shí)間越大,則載遷移率還和平均漂移時(shí)間有關(guān),平均漂移時(shí)間越大,則載 流子獲得的加速時(shí)間就越長(zhǎng),因而漂移速度越大。流子獲得的加速時(shí)間就越長(zhǎng),因而漂移速度越大。 平均漂移時(shí)間與散射幾率有關(guān)。平均漂移時(shí)間與散射幾率有關(guān)。 cn n cn e m 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 10 半導(dǎo)體中影響遷移率的兩種主要散射機(jī)制:半導(dǎo)體中影響遷移率的兩種主要散射機(jī)制: 晶格散射,電離雜質(zhì)散射晶格散射,電離雜質(zhì)散射 1
9、)晶格散射)晶格散射 晶格熱振動(dòng)破壞了勢(shì)函數(shù),導(dǎo)致載流子與振動(dòng)的晶格熱振動(dòng)破壞了勢(shì)函數(shù),導(dǎo)致載流子與振動(dòng)的 晶格原子發(fā)生相互作用。晶格原子發(fā)生相互作用。 只由晶格振動(dòng)散射所決定的載流子遷移率隨只由晶格振動(dòng)散射所決定的載流子遷移率隨溫度溫度 的變化關(guān)系,根據(jù)散射理論:的變化關(guān)系,根據(jù)散射理論: 3 2 n L Tn 一階近似 隨溫度升高,晶格振動(dòng)越劇烈,因而對(duì)載流子的散射作用也越強(qiáng),從隨溫度升高,晶格振動(dòng)越劇烈,因而對(duì)載流子的散射作用也越強(qiáng),從 而導(dǎo)致遷移率越低。輕摻雜半導(dǎo)體中,主要散射機(jī)構(gòu)是晶格散射。而導(dǎo)致遷移率越低。輕摻雜半導(dǎo)體中,主要散射機(jī)構(gòu)是晶格散射。 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象
10、輸運(yùn)現(xiàn)象 11 其中,其中,NI=Nd+Na-表示表示半導(dǎo)體電離雜質(zhì)總濃度半導(dǎo)體電離雜質(zhì)總濃度。 電離雜質(zhì)散射決定的載流子遷移率隨溫度的升高而電離雜質(zhì)散射決定的載流子遷移率隨溫度的升高而 增大:因?yàn)闇囟仍礁?,載流子熱運(yùn)動(dòng)會(huì)越劇烈,載增大:因?yàn)闇囟仍礁撸d流子熱運(yùn)動(dòng)會(huì)越劇烈,載 流子通過離化雜質(zhì)電荷中心附近所需的時(shí)間會(huì)越短。流子通過離化雜質(zhì)電荷中心附近所需的時(shí)間會(huì)越短。 2)電離雜質(zhì)散射)電離雜質(zhì)散射 載流子與載流子與電離雜質(zhì)電離雜質(zhì)之間存在之間存在庫侖作用庫侖作用。僅由電離。僅由電離 雜質(zhì)散射決定的載流子遷移率與雜質(zhì)散射決定的載流子遷移率與溫度溫度、總的、總的摻雜濃度摻雜濃度 關(guān)系為:關(guān)系為:
11、 3 2 I I T N 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 12 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 13 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 14 其中,其中,為任意兩次散射之間的平均時(shí)間間隔。為任意兩次散射之間的平均時(shí)間間隔。 物理意義物理意義:載流子在半導(dǎo)體晶體材料中所受到的總散射概率:載流子在半導(dǎo)體晶體材料中所受到的總散射概率 為各個(gè)不同散射機(jī)制的散射概率之和,這對(duì)于多種散射機(jī)制為各個(gè)不同散射機(jī)制的散射概率之和,這對(duì)于多種散射機(jī)制 同時(shí)存在的情況也是成立的。同時(shí)存在的情況也是成立的。 碰撞概率碰撞概率:平均時(shí)間間隔的倒數(shù)。:平均時(shí)間間隔的倒數(shù)。 假設(shè):假設(shè):L
12、表示晶格散射造成的碰撞之間的平均時(shí)間間隔,表示晶格散射造成的碰撞之間的平均時(shí)間間隔,I表表 示電離雜質(zhì)散射造成的碰撞之間的平均時(shí)間間隔。示電離雜質(zhì)散射造成的碰撞之間的平均時(shí)間間隔。 若兩種散射過程相互獨(dú)立,則在微分時(shí)間若兩種散射過程相互獨(dú)立,則在微分時(shí)間dt內(nèi)受到散射的總內(nèi)受到散射的總 概率為兩者之和,即:概率為兩者之和,即: IL dtdtdt 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 15 因此,利用遷移率公式:因此,利用遷移率公式: e m 111 LI 其中,其中,I為僅有電離雜質(zhì)散射存在時(shí)的遷移率,為僅有電離雜質(zhì)散射存在時(shí)的遷移率,L為僅有晶為僅有晶 格散射存在時(shí)的遷移率,格散射存
13、在時(shí)的遷移率,為總遷移率。為總遷移率。 當(dāng)多個(gè)獨(dú)立散射機(jī)制同時(shí)存在,上式仍成立;當(dāng)多個(gè)獨(dú)立散射機(jī)制同時(shí)存在,上式仍成立;多種多種 散射機(jī)制散射機(jī)制的影響,載流子的影響,載流子總的遷移率將會(huì)更低總的遷移率將會(huì)更低。 不難得到:不難得到: 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 16 11 np drf drfnp np enpIV JE Al Jenp E enp 電導(dǎo)率(電阻率)是載流子濃度(摻雜濃度,非本征半導(dǎo)體中,電導(dǎo)率(電阻率)是載流子濃度(摻雜濃度,非本征半導(dǎo)體中, 主要是多子濃度)和遷移率(與雜質(zhì)濃度有關(guān))的函數(shù)主要是多子濃度)和遷移率(與雜質(zhì)濃度有關(guān))的函數(shù) V I R l R
14、 A 1 v E V A l ppa pepeN型: nnd neneN型: 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 17 電阻率與雜質(zhì)濃度不呈線性:載流子濃度(雜質(zhì)濃度)和遷移率電阻率與雜質(zhì)濃度不呈線性:載流子濃度(雜質(zhì)濃度)和遷移率 雜質(zhì)濃度增高時(shí),曲線嚴(yán)重偏離直線,主要原因:雜質(zhì)濃度增高時(shí),曲線嚴(yán)重偏離直線,主要原因: 雜質(zhì)在室溫下不能完全電離雜質(zhì)在室溫下不能完全電離 遷移率隨雜質(zhì)濃度增加而顯著下降遷移率隨雜質(zhì)濃度增加而顯著下降 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 18 n型半導(dǎo)體,型半導(dǎo)體,Nd=1015cm-3,硅的電子,硅的電子 濃度和電導(dǎo)率同溫度倒數(shù)的函數(shù)關(guān)系濃度和電
15、導(dǎo)率同溫度倒數(shù)的函數(shù)關(guān)系 中溫區(qū)中溫區(qū)(即非本征區(qū)),雜質(zhì)已(即非本征區(qū)),雜質(zhì)已 全部電離,電子濃度保持恒定;全部電離,電子濃度保持恒定; 但因但因遷移率隨溫度升高而下降遷移率隨溫度升高而下降, 因此電導(dǎo)率隨溫度升高而出現(xiàn)了因此電導(dǎo)率隨溫度升高而出現(xiàn)了 一段下降的情形。一段下降的情形。 更高的溫度范圍內(nèi)更高的溫度范圍內(nèi),本征載流子本征載流子 濃度增加并開始主導(dǎo)電子濃度以濃度增加并開始主導(dǎo)電子濃度以 及電導(dǎo)率及電導(dǎo)率,因此電導(dǎo)率隨溫度上,因此電導(dǎo)率隨溫度上 升而迅速增加。升而迅速增加。 較低溫度范圍內(nèi)較低溫度范圍內(nèi),束縛態(tài)開始出,束縛態(tài)開始出 現(xiàn),電子濃度和電導(dǎo)率都隨著溫現(xiàn),電子濃度和電導(dǎo)率都
16、隨著溫 度降低而下降。度降低而下降。 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 19 由于遷移率與電離雜質(zhì)總濃度有關(guān),所以不能根據(jù)所求的由于遷移率與電離雜質(zhì)總濃度有關(guān),所以不能根據(jù)所求的 電導(dǎo)率直接計(jì)算出摻雜濃度。電導(dǎo)率直接計(jì)算出摻雜濃度。 對(duì)于本征半導(dǎo)體,電導(dǎo)率為對(duì)于本征半導(dǎo)體,電導(dǎo)率為 一般來說,電子遷移率和空穴遷移率不相等,所一般來說,電子遷移率和空穴遷移率不相等,所 以本征電導(dǎo)率并不是某給定溫度下可能的最小值。以本征電導(dǎo)率并不是某給定溫度下可能的最小值。 inpi en 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 20 由上述隨機(jī)熱運(yùn)動(dòng)能量可求得由上述隨機(jī)熱運(yùn)動(dòng)能量可求得vth為為1
17、07cm/s。設(shè)低摻雜下硅中。設(shè)低摻雜下硅中 n為為1350cm2/(Vs),外加電場(chǎng)為,外加電場(chǎng)為75V/cm時(shí),則漂移速度為時(shí),則漂移速度為 105cm/s,其值為熱運(yùn)動(dòng)速度的,其值為熱運(yùn)動(dòng)速度的1??梢娡饧与妶?chǎng)不會(huì)顯著。可見外加電場(chǎng)不會(huì)顯著 改變電子的能量。改變電子的能量。 強(qiáng)場(chǎng)強(qiáng)場(chǎng),載流子從電場(chǎng)獲得能量較多,其速度(動(dòng)量)有較大,載流子從電場(chǎng)獲得能量較多,其速度(動(dòng)量)有較大 改變,造成平均自由時(shí)間減小,散射增強(qiáng),最終導(dǎo)致改變,造成平均自由時(shí)間減小,散射增強(qiáng),最終導(dǎo)致遷移率遷移率 下降下降,速度飽和速度飽和。 前面遷移率討論的假設(shè):前面遷移率討論的假設(shè):弱場(chǎng)弱場(chǎng),即電場(chǎng)造成的漂移速度和
18、熱運(yùn),即電場(chǎng)造成的漂移速度和熱運(yùn) 動(dòng)速度相比較小,不顯著改變載流子的平均自由時(shí)間。動(dòng)速度相比較小,不顯著改變載流子的平均自由時(shí)間。 T=300K時(shí),熱運(yùn)動(dòng)的電子:時(shí),熱運(yùn)動(dòng)的電子: 2 133 0.02590.03885 222 th mvkTeVeV 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 21 弱場(chǎng)弱場(chǎng),漂移速度隨外加電場(chǎng),漂移速度隨外加電場(chǎng)線性線性 改變改變,曲線,曲線斜率斜率即為即為遷移率遷移率; 強(qiáng)場(chǎng)強(qiáng)場(chǎng),漂移速度特性嚴(yán)重,漂移速度特性嚴(yán)重偏離了偏離了 弱電場(chǎng)區(qū)的線性關(guān)系弱電場(chǎng)區(qū)的線性關(guān)系。在外加電。在外加電 場(chǎng)強(qiáng)度約為場(chǎng)強(qiáng)度約為30kV/cm時(shí),硅中電時(shí),硅中電 子漂移速度達(dá)到
19、子漂移速度達(dá)到飽和值飽和值,約為,約為 107cm/s。如果載流子漂移速度如果載流子漂移速度 達(dá)到飽和,那么漂移電子密度也達(dá)到飽和,那么漂移電子密度也 達(dá)到飽和,不再隨外加電場(chǎng)變化達(dá)到飽和,不再隨外加電場(chǎng)變化。 砷化鎵砷化鎵比硅和鍺單晶復(fù)雜:比硅和鍺單晶復(fù)雜:GaAs特殊特殊能帶結(jié)構(gòu)能帶結(jié)構(gòu)決定。決定。 低電場(chǎng)低電場(chǎng),漂移速度與外加電場(chǎng)成線性,曲線,漂移速度與外加電場(chǎng)成線性,曲線斜率斜率為電子為電子遷移率遷移率; 隨電場(chǎng)強(qiáng)度增加隨電場(chǎng)強(qiáng)度增加,電子漂移速度達(dá)到一個(gè)峰值,然后開始下降,出現(xiàn)一,電子漂移速度達(dá)到一個(gè)峰值,然后開始下降,出現(xiàn)一 段段負(fù)微分遷移率負(fù)微分遷移率區(qū)間,此效應(yīng)將導(dǎo)致區(qū)間,此效
20、應(yīng)將導(dǎo)致負(fù)微分電阻負(fù)微分電阻特性。特性。 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 22 低電場(chǎng)低電場(chǎng),GaAs導(dǎo)帶中電子能量較低,導(dǎo)帶中電子能量較低, 主要集中在主要集中在E-k圖中有效質(zhì)量較小圖中有效質(zhì)量較小 (mn*=0.067m0)的下能谷,)的下能谷,較大遷較大遷 移率移率。 隨著電場(chǎng)強(qiáng)度增加隨著電場(chǎng)強(qiáng)度增加,導(dǎo)帶中電子被電,導(dǎo)帶中電子被電 場(chǎng)加速并獲得能量,部分下能谷中電場(chǎng)加速并獲得能量,部分下能谷中電 子被散射到子被散射到E-k圖中有效質(zhì)量較大圖中有效質(zhì)量較大 (mn* =0.55m0)的上能谷,這部分)的上能谷,這部分 電子遷移率下降,導(dǎo)致導(dǎo)帶中電子遷移率下降,導(dǎo)致導(dǎo)帶中電子
21、總電子總 遷移率隨著電場(chǎng)的增強(qiáng)而下降遷移率隨著電場(chǎng)的增強(qiáng)而下降,從而,從而 引起引起負(fù)微分遷移率負(fù)微分遷移率和和負(fù)微分電阻負(fù)微分電阻特性。特性。 可以從砷化鎵的可以從砷化鎵的E-k關(guān)系曲線來解釋:關(guān)系曲線來解釋: 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 23 空間分布空間分布不均勻不均勻時(shí),載流子將由高濃度區(qū)向低濃度區(qū)時(shí),載流子將由高濃度區(qū)向低濃度區(qū) 擴(kuò)散擴(kuò)散。 擴(kuò)散是通過載流子的擴(kuò)散是通過載流子的熱運(yùn)動(dòng)熱運(yùn)動(dòng)實(shí)現(xiàn)的。由于熱運(yùn)動(dòng),不實(shí)現(xiàn)的。由于熱運(yùn)動(dòng),不 同區(qū)域間進(jìn)行載流子交換;若載流子分布不均勻,這同區(qū)域間進(jìn)行載流子交換;若載流子分布不均勻,這 種交換就會(huì)使分布均勻化,引起載流子宏觀上的
22、運(yùn)動(dòng)種交換就會(huì)使分布均勻化,引起載流子宏觀上的運(yùn)動(dòng) 。因此,擴(kuò)散流大小與載流子的。因此,擴(kuò)散流大小與載流子的不均勻性不均勻性相關(guān),而與相關(guān),而與 數(shù)量無直接關(guān)系。數(shù)量無直接關(guān)系。 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 24 無規(guī)則熱運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致粒子無規(guī)則熱運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致粒子各方向各方向運(yùn)動(dòng)幾率都運(yùn)動(dòng)幾率都相同相同。 平衡態(tài):各處濃度相等,由于熱運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致各區(qū)域平衡態(tài):各處濃度相等,由于熱運(yùn)動(dòng)導(dǎo)致各區(qū)域 內(nèi)粒子交換的數(shù)量相同,表現(xiàn)為宏觀區(qū)域粒子數(shù)內(nèi)粒子交換的數(shù)量相同,表現(xiàn)為宏觀區(qū)域粒子數(shù) 不變,即不變,即統(tǒng)一的粒子濃度統(tǒng)一的粒子濃度。 不均勻:高濃度區(qū)域粒子向低濃度區(qū)域運(yùn)動(dòng)的平不均勻:高濃度區(qū)域粒子向
23、低濃度區(qū)域運(yùn)動(dòng)的平 均粒子數(shù)超過相反過程,因而表現(xiàn)為均粒子數(shù)超過相反過程,因而表現(xiàn)為粒子凈流動(dòng)粒子凈流動(dòng) ,導(dǎo)致,導(dǎo)致定向擴(kuò)散定向擴(kuò)散,形成,形成擴(kuò)散電流擴(kuò)散電流。 擴(kuò)散與濃度的不均勻有關(guān),并且只與擴(kuò)散與濃度的不均勻有關(guān),并且只與不均勻不均勻有關(guān)有關(guān) ,而與總濃度無關(guān)。,而與總濃度無關(guān)。 類比:水壩勢(shì)能只與落差有關(guān),而與海拔無關(guān)。類比:水壩勢(shì)能只與落差有關(guān),而與海拔無關(guān)。 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 25 擴(kuò)散粒子流密度:擴(kuò)散粒子流密度:F 一維模型:粒子只能在一維方向上運(yùn)動(dòng)。一維模型:粒子只能在一維方向上運(yùn)動(dòng)。 在某一截面兩側(cè)粒子的平均自由程在某一截面兩側(cè)粒子的平均自由程l(
24、 l=vth)范圍內(nèi),由熱運(yùn)動(dòng)而穿過截面的)范圍內(nèi),由熱運(yùn)動(dòng)而穿過截面的 粒子數(shù)為該區(qū)域粒子數(shù)的粒子數(shù)為該區(qū)域粒子數(shù)的1/2。 擴(kuò)散流密度:擴(kuò)散流密度:?jiǎn)挝粫r(shí)間單位時(shí)間通過擴(kuò)散方式流過通過擴(kuò)散方式流過 垂直垂直單位截面積單位截面積的粒子數(shù)的粒子數(shù) 111 222 ththth Fnl vnl vvnlnl x=0 x+lx-l th dn x Flv dx 00 dn xdn x nlnl dxdx 泰勒級(jí)數(shù)展開泰勒級(jí)數(shù)展開 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 26 擴(kuò)散電流密度擴(kuò)散電流密度 對(duì)于帶電粒子,其擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)形成擴(kuò)散電流。對(duì)于帶電粒子,其擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)形成擴(kuò)散電流。 nthnx di
25、f n dn x JeFelv dx dn x eD dx pthpx dif p dp x JeFelv dx dp x eD dx n(+l) n(-l) n(0) 濃度濃度 電子流電子流 電子電流電子電流 x(-l)x(+l)x(0) n(+l) n(-l) n(0) 濃度濃度 空穴流空穴流 空穴電流空穴電流 x(-l)x(+l)x(0) 擴(kuò)散擴(kuò)散 系數(shù)系數(shù) nth nDv l型: pth pDv l型: 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 27 半導(dǎo)體中四種獨(dú)立的電流:半導(dǎo)體中四種獨(dú)立的電流:電子的漂移電流電子的漂移電流及及擴(kuò)擴(kuò) 散電流散電流,空穴的漂移電流空穴的漂移電流及及擴(kuò)
26、散電流擴(kuò)散電流。 總電流密度為四者之和:總電流密度為四者之和: nxpxnp dndp JenEepEeDeD dxdx 漂移電流:相同漂移電流:相同 電場(chǎng)下,電子電電場(chǎng)下,電子電 流與空穴電流的流與空穴電流的 方向相同。方向相同。 擴(kuò)散電流:相同擴(kuò)散電流:相同 濃度梯度下,電濃度梯度下,電 子電流與空穴電子電流與空穴電 流的方向相反。流的方向相反。 npnp JenEepEeDneDp 在半導(dǎo)體某些特定情況下,每次只需考慮其中一項(xiàng)在半導(dǎo)體某些特定情況下,每次只需考慮其中一項(xiàng) 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 28 前邊討論的都是均勻摻雜半導(dǎo)體,實(shí)際半導(dǎo)體器件中,經(jīng)前邊討論的都是均勻
27、摻雜半導(dǎo)體,實(shí)際半導(dǎo)體器件中,經(jīng) 常有常有非均勻摻雜非均勻摻雜的區(qū)域。的區(qū)域。 熱平衡狀態(tài)下:熱平衡狀態(tài)下:非均勻摻雜非均勻摻雜將導(dǎo)致將導(dǎo)致雜質(zhì)濃度空間分布不同雜質(zhì)濃度空間分布不同 ,從而,從而載流子濃度不同載流子濃度不同。形成的載流子濃度梯度將產(chǎn)生。形成的載流子濃度梯度將產(chǎn)生擴(kuò)擴(kuò) 散電流散電流。并且由于局域的。并且由于局域的剩余電荷剩余電荷(雜質(zhì)離子)存在而產(chǎn)(雜質(zhì)離子)存在而產(chǎn) 生生內(nèi)建電場(chǎng)內(nèi)建電場(chǎng)。 內(nèi)建電場(chǎng)形成的漂移電流與擴(kuò)散電流方向內(nèi)建電場(chǎng)形成的漂移電流與擴(kuò)散電流方向相反相反,當(dāng)達(dá)到,當(dāng)達(dá)到動(dòng)動(dòng) 態(tài)平衡態(tài)平衡時(shí),兩個(gè)電流相等,不表現(xiàn)出宏觀電流,從而造成時(shí),兩個(gè)電流相等,不表現(xiàn)出宏觀電
28、流,從而造成 了遷移率和擴(kuò)散系數(shù)之間的關(guān)聯(lián):了遷移率和擴(kuò)散系數(shù)之間的關(guān)聯(lián):愛因斯坦關(guān)系愛因斯坦關(guān)系。 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 29 E x Ec Ev EFi EF 熱平衡狀態(tài)不均勻摻雜熱平衡狀態(tài)不均勻摻雜n型半導(dǎo)體型半導(dǎo)體 nx E 熱平衡狀態(tài),熱平衡狀態(tài),費(fèi)米能級(jí)費(fèi)米能級(jí) 為一個(gè)常數(shù)為一個(gè)常數(shù),因而非均,因而非均 勻摻雜半導(dǎo)體不同位置勻摻雜半導(dǎo)體不同位置 E=Ec-EF不同。不同。 多子(電子)從高濃度位置流多子(電子)從高濃度位置流 向低濃度位置,即電子沿向低濃度位置,即電子沿+x方方 向流動(dòng),同時(shí)留下帶正電荷施向流動(dòng),同時(shí)留下帶正電荷施 主離子;施主離子與電子在空主
29、離子;施主離子與電子在空 間上的分離將會(huì)誘生出一個(gè)指間上的分離將會(huì)誘生出一個(gè)指 向向+x的的內(nèi)建電場(chǎng)內(nèi)建電場(chǎng),該電場(chǎng)會(huì)阻,該電場(chǎng)會(huì)阻 止電子進(jìn)一步擴(kuò)散。止電子進(jìn)一步擴(kuò)散。 達(dá)到平衡后,空間各處電子濃達(dá)到平衡后,空間各處電子濃 度不完全等同于施主雜質(zhì)的摻度不完全等同于施主雜質(zhì)的摻 雜濃度,但是這種差別并不是雜濃度,但是這種差別并不是 很大。(很大。(準(zhǔn)電中性條件準(zhǔn)電中性條件) 第五章第五章 載流子載流子輸運(yùn)現(xiàn)象輸運(yùn)現(xiàn)象 30 對(duì)于非均勻摻雜的對(duì)于非均勻摻雜的n型半導(dǎo)體,定義各處電勢(shì)(電型半導(dǎo)體,定義各處電勢(shì)(電 子勢(shì)能除以電子電量子勢(shì)能除以電子電量-e):): e EE FiF dx dE ed
30、x d E Fi x 1 一維感生電場(chǎng)定義:一維感生電場(chǎng)定義: 假設(shè)電子濃度與施主雜質(zhì)濃度基本相等(準(zhǔn)電中性假設(shè)電子濃度與施主雜質(zhì)濃度基本相等(準(zhǔn)電中性 條件),則:條件),則: 0 exp FFi id EE nnNx kT 注意:電子勢(shì)能負(fù)注意:電子勢(shì)能負(fù) 值;電子電量負(fù)值;值;電子電量負(fù)值; 電勢(shì)正值。電勢(shì)正值。 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 31 熱平衡時(shí)費(fèi)米能級(jí)熱平衡時(shí)費(fèi)米能級(jí)EF恒定,所以對(duì)恒定,所以對(duì)x求導(dǎo)可得:求導(dǎo)可得: dx xdN xN kT dx dE d d Fi 因此,電場(chǎng)為:因此,電場(chǎng)為: dx xdN xNe kT E d d x 1 由上式看出,由于存在由上式看出,由于存在非均勻摻雜非均勻摻雜,使半導(dǎo)體中產(chǎn),使半導(dǎo)體中產(chǎn) 生生內(nèi)建電場(chǎng)內(nèi)建電場(chǎng)。一旦有了內(nèi)建電場(chǎng),非均勻摻雜的半。一旦有了內(nèi)建電場(chǎng),非均勻摻雜的半 導(dǎo)體中就會(huì)相應(yīng)地產(chǎn)生導(dǎo)體中就會(huì)相應(yīng)地產(chǎn)生內(nèi)建電勢(shì)差內(nèi)建電勢(shì)差。 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 32 0 nnxn dn JenEeD dx E x Ec Ev EFi EF 以前面分析的非均勻摻雜以前面分析的非均勻摻雜n型半導(dǎo)體為例,型半導(dǎo)體為例,熱平衡熱平衡狀狀 態(tài),內(nèi)部的電子電流和空穴電流密度均應(yīng)為零,即:態(tài),內(nèi)部的電子電流和空穴電流密度均應(yīng)為零,即: 第五章第五章 載流子輸運(yùn)現(xiàn)象載流子輸運(yùn)現(xiàn)象 3
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