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1、會計學1光學薄膜技術簡介光學薄膜技術簡介第1頁/共24頁第2頁/共24頁Photop Confidential輸入：使用條件（入射角，入射介質(zhì)，基片材料），光性要求（工作波長，反射率，透過率，偏振態(tài)，位相，顏色等）輸出：膜系，廣義的是可直接執(zhí)行的程序（RUNSHEET，包括控制方式及設置）驗證：（間接）分光光度計。評價設計的標準: (容限,材料的種類,工藝時間)第3頁/共24頁Photop Confidential第4頁/共24頁rrrrrrrrrrrrnnrrrrrrrNNpNsTENdNiiBCsinsincoscoscos21cossinsincos0011波波）波波（對對于于波波）波波

2、（對對于于其其中中：TM第5頁/共24頁CBCBCBCBR0000CBCBTn00014BCRTRAnRe1111反射率反射率透射率透射率吸收率吸收率 反射相移反射相移CCBBBCCBiarctg200第6頁/共24頁矢量法矢量法3212112423221iiierererrr如果忽略膜層內(nèi)的多次反射，如果忽略膜層內(nèi)的多次反射，則合成的振幅反射系數(shù)由每一則合成的振幅反射系數(shù)由每一界面的反射系數(shù)的矢量和確定界面的反射系數(shù)的矢量和確定。每個界面的反射系數(shù)都聯(lián)帶。每個界面的反射系數(shù)都聯(lián)帶著一個特定的相位滯后，它對著一個特定的相位滯后，它對應于光波從入射表面進至該界應于光波從入射表面進至該界面又回到入

3、射表面的過程面又回到入射表面的過程 第7頁/共24頁第8頁/共24頁第9頁/共24頁第10頁/共24頁第11頁/共24頁第12頁/共24頁第13頁/共24頁第14頁/共24頁第15頁/共24頁第16頁/共24頁第17頁/共24頁蒸發(fā)控制系統(tǒng)真空系統(tǒng)膜厚控制系統(tǒng)離子源輔助系統(tǒng)-離子源-溫控-工作氣體第18頁/共24頁靶材離子源待鍍基片輔助源靶材第19頁/共24頁靶材Nb氧離子發(fā)生器靶材Si氧離子發(fā)生器O+第20頁/共24頁種類 / 型號生產(chǎn)廠家優(yōu)點缺點IAD/ APS1104 APSpro1104 德國 LEYBOLD技術成熟,性能穩(wěn)定設備成本高,運行費用高,IAD/OTFC1300日本OPTORUN技術基本成熟,性能穩(wěn)定,性價比較高長期穩(wěn)定性?SPUTTER/VEECO SPECTOR美國VEECO公認膜層質(zhì)量最高的機器, 穩(wěn)定性好可鍍的面積少,成本很高SPUTTER/RAS, MM日本SHINCRONULVAC產(chǎn)能大

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