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1、真空鍍膜工藝問(wèn)題匯總1 .A12O3打底已增加粘貼性,怎樣鍍A12O3濺射鍍?cè)趺村???qǐng)問(wèn)旋轉(zhuǎn)靶磁場(chǎng) 加在哪里?2 .一 .多弧離子鍍做TiAIN膜1.靶材,材質(zhì)?尺寸? 2.偏壓,一脈沖,直流對(duì) 膜有無(wú)影響?二.高建鋼材質(zhì)刀具,1.立銃刀的鋒利與鍍膜前的酸洗工藝存在矛 盾。三.多弧爐中結(jié)合了磁控柱靶在 TiAIN膜制作過(guò)程中,可采用或利用其磁控 靶的優(yōu)點(diǎn)進(jìn)行,四.用高偏壓加氫氣的輝光放電,是否用對(duì)硬膜的形成不利,會(huì) 影響其硬度嗎?是否用離子轟由(加熱)來(lái)取代此工藝嗎?五.靶材中Ti的純度, 對(duì)膜質(zhì)(硬度,外觀,粗糙毒等)有無(wú)關(guān)系? Ti是否對(duì)工具鍍膜來(lái)說(shuō)是否足夠? 六.真空雜志中有文章介紹,多
2、弧離子鍍中用部分銘靶使TiN膜層中含有銘成分,有助于提高膜的硬度和外觀的光亮度等那么能否采用鈦銘合金靶,達(dá)到其效果?七.TiAl拔能否使其合金化,是否合金化后,在蒸發(fā)靶材時(shí),清除或減少 熔滴的產(chǎn)生?使其多弧離子鍍,并產(chǎn)出的 TiAIN膜質(zhì)光亮,致密。3 .相對(duì)來(lái)說(shuō)磁控濺射技術(shù)比較深?yuàn)W些,聽(tīng)的不是太懂之前中設(shè)接觸過(guò)磁控技 術(shù)書(shū)面知識(shí)比較理論看不透徹,因?yàn)閷I(yè)知識(shí)有限喜歡聽(tīng)籠統(tǒng)一點(diǎn)通俗易懂的。4.1.如何防止靶的電弧放電問(wèn)題2.Si靶Ti靶的氧氣是否一定要用壓電閥來(lái)控制嗎? 3.做高反射鉗時(shí)Si靶Ti 靶的氮?dú)?,氧氣的比例是多少?4.靶的電弧放電與亮孔是否有聯(lián)系? 5.在同樣的 工藝條件下,為什
3、么有些會(huì)出現(xiàn)膜脫落,有時(shí)會(huì)出現(xiàn) SiTi膜脫落。5.鍍鋁制鏡,基片兩頭打弧,為什么?怎么解決?鍍過(guò)鋁后如何保護(hù)?6.1.由于重復(fù)使用的玻璃進(jìn)行了多次鍍膜以后在玻璃表面殘存物沉積且由于 多次清洗造成玻璃表面劃痕增加,最終造成散射光增加反射率降低,如何在不拋 光的情況下,改善(提高)反射率?在鍍膜工藝上有何可行性的解決方案等!為 了增加鉛膜和玻璃的粘合度,一般采用什么方法?如果鍍一層介質(zhì)膜, 可采用什 么材料,不影響反射率?7 .目前國(guó)內(nèi)的膜厚控制技術(shù)均多采用國(guó)外進(jìn)口請(qǐng)問(wèn)國(guó)內(nèi)外的差距在什么地方,如何攻克?TiO2在40WA時(shí)的反射鋁會(huì)下降如果我們鍍 Al需要照顧到紅外 和紫外線有什么方法使得反射率
4、增高,S2O2好象只能作為保護(hù)膜用本身并不能 提高反射率。8 .汽車的熱弓鋼化Low-E怎樣解決膜裂的問(wèn)題?9 .TiO2的沉積溫度? 350c或可在更低溫度下執(zhí)行,最低溫度多少?達(dá)到高 反射率.TiO2的膜層厚度要多少?10 .請(qǐng)介紹一下應(yīng)用于手機(jī)外殼(塑料基材)上的不導(dǎo)電真空鍍的成膜原理。 如何控制生產(chǎn)過(guò)程中同一種產(chǎn)品之間的色差和不導(dǎo)電性差異。請(qǐng)介紹一下金屬膜層與塑膠基材之間提高結(jié)合力的介質(zhì)及附差原理。11為什么控制氧氣流量可以防止靶中毒大面積膜設(shè)備中靶樣間距,靶的設(shè)置密度如何確定?學(xué)生靶斜放更穩(wěn)定,其放置方向角度如何?孚生靶設(shè)計(jì)兩靶間距如何確定?ITO膜中靶材利用,提高靶材利用率移動(dòng)靶面
5、磁場(chǎng),如何移動(dòng)?12 .中頻學(xué)生靶對(duì)靶間距有沒(méi)有要求, 最佳距離是多少?如何確定?中頻學(xué)生 靶之間有角度放置,放置的角度是否無(wú)限加大對(duì)靶放置?ITO透明電玻璃鍍刷時(shí)對(duì)溫度要求大于350c溫度高低對(duì)膜的均勻性影響有多大, 基本的受熱均勻性是 否也對(duì)膜質(zhì)有影響,該如何解決?鍍大型基片時(shí)出現(xiàn)結(jié)射現(xiàn)象在不浪費(fèi)材料時(shí)該 如何解決為好?所說(shuō)的陽(yáng)極消失是否是指基片被不導(dǎo)電膜附著而消失?13 .在鍍汽車風(fēng)擋玻璃及LOW-E膜時(shí)并沒(méi)有講到鍍膜的抗拉伸效果在彎曲的 過(guò)程中,膜層不會(huì)產(chǎn)生變化么?有什么方式來(lái)檢測(cè)?我從老沒(méi)接觸過(guò)ITO的行業(yè),很想知道ITO靶材的具體成分的構(gòu)成,以及他的合格指標(biāo)。14 .真空不導(dǎo)電的檢
6、測(cè),真空不導(dǎo)電鍍膜最好的方法,不導(dǎo)電鍍膜帶用哪些金 屬?哪種最穩(wěn)定最好?磁控濺射顏色不穩(wěn)定如何解決?鍍膜層發(fā)黃的原因有哪 些?真空度對(duì)鍍膜品質(zhì)有哪些影響?到何種程度為最低?鍍膜層厚度如何控制, 測(cè)量厚度與外觀物性有何關(guān)系?能否邀請(qǐng)高工教授來(lái)廠家徹底培訓(xùn)?需多少費(fèi) 用?15 .氫質(zhì)譜檢漏儀在真空鍍膜中有哪些是何應(yīng)用?如:什么地方需要檢漏?大概漏率是多少?16 .我司在用電頻交流電源后生產(chǎn) TiO2時(shí)發(fā)現(xiàn)其濺射率僅于DC反應(yīng)濺射相 當(dāng),其原因是什么?有沒(méi)有可鋼代雙銀 LW后在市場(chǎng)上出現(xiàn)?有沒(méi)有實(shí)現(xiàn)可能?17 .如何消除或減少有磁控濺射方法獲得的鋁合金膜層的脆性?在磁控濺射 過(guò)程中伴隨開(kāi)一定的基片負(fù)
7、偏壓與所謂的磁控濺射離子鍍有何區(qū)別?因?yàn)橛写?專箸上將前者視為偏壓濺射而大連理工大學(xué)的一篇專利的名稱為后者。18 .學(xué)生靶中兩個(gè)靶距離對(duì)鍍膜影響?學(xué)生靶的靶基距?汽車玻璃中PVB是熱壓上作粘合用?.19 .LOW-E玻功的典型膜系。玻功 SnO2(ZnO)-Ag-NiCrOx-SnO2鍍銀后在 鍍保護(hù)層NiCrOx時(shí)是否用氧氣參與生成反應(yīng)膜層?如有是怎樣避免銀的不膜層 15氧仕,真空鍍膜車間環(huán)境對(duì)鍍膜質(zhì)量的影響?如濕度,溫度潔凈度等一般控 制多少合適于鍍膜純金屬膜產(chǎn)生的儲(chǔ)存?20.多弧離子鍍與磁控濺射幾蒸發(fā)鍍之間的區(qū)別?21 .我公司生產(chǎn)高反射鏡,膜系為 Al-SiTiO2目前使用脈沖濺射做S
8、iO2 和TiO2電源使用AE電源,但脈沖濺射率最大為20KHz,請(qǐng)問(wèn)這個(gè)頻率是否太 小了?我們?cè)阱傾L過(guò)程中,為改善膜層粘貼性,對(duì)AL靶充入少量O2請(qǐng)問(wèn)這樣是否 會(huì)引起電弧放電。注:O2和A2流量比約為2%22 .靶材的用率?引進(jìn)方法措施?圓柱靶伏缺點(diǎn)?23 .在反應(yīng)濺射過(guò)程中濺射速率與氧氣流量之間的遲回線關(guān)系,對(duì)于每一種具體的工藝(靶材與反映氣體種類)是否相對(duì)固是不變的?如果是則可否編制數(shù)據(jù) 庫(kù),合理控制反應(yīng)氣體流量底上限,以人采證盡量大的流量而又不至于“靶中毒” -建立“靶中毒”的預(yù)防系統(tǒng)。24 .塑膠產(chǎn)品CPC或ABS材料表面裝飾性鍍膜采用蒸發(fā)鍍還是磁控濺射更 好?25.1000A的電
9、流可使鴇絲產(chǎn)生多少溫度?電阻鴇絲投入多少是否取決于投入的產(chǎn)品多少是怎樣的匹配蒸發(fā)鍍材后鍍材的分布是怎樣的?26 .蒸發(fā)鍍膜時(shí),鍍材的粒子有沒(méi)有運(yùn)行規(guī)則外界溫度對(duì)鍍膜前后2件性能或外觀的影響?27 .有沒(méi)有一些資料,用什么資料(六素)搭配鍍出一些比較花樣的顏色。有 透明的也有不透明的(我們土話叫礦金,礦銀,礦灰古銅等是不是真空蒸發(fā)鍍也 能鍍得出來(lái)(配電子槍)鍍玻璃上。28 .鍍膜材料進(jìn)行去氣如何進(jìn)行?需注意哪些問(wèn)題?鍍膜過(guò)程中產(chǎn)生的X射線如何預(yù)防?29 .用什么樣的方法來(lái)清洗真空室內(nèi)壁?30 .磁控濺射和蒸發(fā)鍍,哪一種工藝使玻璃表面針孔更少,針孔的多少和 C2 靶材有什么關(guān)系?還和哪幾種因素有關(guān)
10、?蒸發(fā)鍍膜的玻璃效率還是磁控濺射效率高我們98年用過(guò)貴公司鍍膜機(jī)(平面磁控濺射臥式 12米長(zhǎng),先發(fā)現(xiàn)效率低已 滿足不了我們需求,請(qǐng)問(wèn)我們需要在添一臺(tái)設(shè)備,需再添一臺(tái)什么樣的設(shè)備(我 們主要做汽車反光鏡磁控濺射鍍膜用循環(huán)水電阻率是多少,有什么具體要求?銘和氫化銘在玻璃上面的反射率最高能達(dá)到多少?31 .如何控制加熱器的加熱均溫區(qū)有什么好的方法,移動(dòng)基片的測(cè)溫方法?對(duì)卷繞鍍膜中的跑偏和褶皺現(xiàn)象該如何解決?卷繞中的平靶是否是附帶旋轉(zhuǎn) 的?32 .真空不導(dǎo)電膜層電性能的檢測(cè)方法,真空不導(dǎo)電常用哪些金屬?哪幾種最穩(wěn)定?產(chǎn)品進(jìn)行鹽霧實(shí)驗(yàn)時(shí)(附著力差)為什么會(huì)這樣?33 .對(duì)于升華的膜材如S2O2 ZnS,
11、在蒸發(fā)前去氣應(yīng)以多長(zhǎng)時(shí)間為宜,在蒸發(fā) 深度去氣時(shí)?如果提高膜材蒸發(fā)溫度,提高蒸發(fā)速度是可以提高生產(chǎn)速度的,但對(duì)成膜質(zhì) 量有何影響?34 .真空蒸鍍膜層不太均勻可通過(guò)加何種修正裝置改善?原理為何?蒸發(fā)強(qiáng)如何進(jìn)行對(duì)膜材的去氣?精確控制蒸發(fā)溫度的方法為何?加熱電阻如螺旋鴇絲上殘留的鍍材如錫,對(duì)產(chǎn)品上鍍層的均勻性的影響如何?加離子源的主要作用是什么?原來(lái)的設(shè)備上沒(méi)有離子源可增加嗎?是否還要 同時(shí)配電子槍?請(qǐng)介紹一下組分蒸發(fā)指什么?DC磁控濺射的基35 .DC磁控濺射能否與多弧相結(jié)合,深鍍硬膜?或能否在 礎(chǔ)上改進(jìn)后加以利用?鍍膜前的處理對(duì)水質(zhì)有無(wú)嚴(yán)格的要求?.酸洗過(guò)程是否對(duì)所刀具都必要?高壓輝光清洗是否越高越好?36 .膜層的色差問(wèn)題怎樣解決?玻璃反射率和透過(guò)率標(biāo)準(zhǔn)是多少?在生產(chǎn)汽車后視鏡時(shí),充 O2需要中頻電源嗎?腔體內(nèi)針孔問(wèn)題更樣解決,DC磁控濺射,生產(chǎn)汽車后視鏡.羅茨泵旁邊閥一旦打不開(kāi)怎么辦,能不能失去作用?在羅茨泵前真空泵是要比羅茨泵高,還是要低,還是平衡,三者之間關(guān)系有影響 嗎?擴(kuò)散泵與加熱器的關(guān)系?37 .多弧離子鍍的膜層不均勻,有色差,
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