我國(guó)超高純化學(xué)試劑行業(yè)研究講課教案

1、我國(guó)超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)研究摘要： 是超大規(guī)模集成電路制作過(guò)程中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)化工材料之一，主要用于芯片的清洗、蝕刻， 另外超凈高純?cè)噭┻€用于芯片摻雜和沉淀工藝。超凈高純?cè)噭┑募兌群蜐崈舳葘?duì)集成電路的成品率、電性能及可靠性均有十分重要的影響。超凈高純?cè)噭┑闹饕獞?yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體行業(yè)和太陽(yáng)能行業(yè)，半導(dǎo)體行業(yè)用超凈高純?cè)噭┮笙鄬?duì)較高，目前我國(guó)高端產(chǎn)品主要靠進(jìn)口，國(guó)內(nèi)主要生產(chǎn)中低端產(chǎn)品。太陽(yáng)能行業(yè)在我國(guó)的崛起推動(dòng)了超凈高純?cè)噭┑脑鲩L(zhǎng)。目前國(guó)內(nèi)生產(chǎn)超凈高純?cè)噭┑钠髽I(yè)僅有十余家，且技術(shù)水平比較低下，能生產(chǎn)PPT及試劑的企業(yè)僅兩家?？傮w上該細(xì)分市場(chǎng)存在較高的技術(shù)壁壘和市場(chǎng)壁壘，總體市場(chǎng)前景看好，擁有技術(shù)制高點(diǎn)

2、的企業(yè)將具有很好的發(fā)展前景。1 .行業(yè)概述1.1 定義1.1.1 電子化工材料電子化工材料是電子工業(yè)中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)化工材料，電子工業(yè)的發(fā)展要求電子化工材料與之同步發(fā)展，不斷的更新?lián)Q代，以適應(yīng)其在技術(shù)方面不斷推陳出新的需要。特別是在集成電路（IC）的微細(xì)加工過(guò)程中所需的關(guān)鍵性化工材料主要包括：光刻膠（又稱光致抗蝕劑）、超凈高純?cè)噭ㄓ址Q工藝化學(xué)品）、特種電子氣體和塑封料，其中超凈高純?cè)噭⒐饪棠z、特種電子氣體用于前工序，環(huán)氧塑封料用于后工序。這些微電子化工材料約占IC 材料總成本的20， 其中超凈高純?cè)噭┘s占5%,光刻膠約占4%,電子氣體（純氣、特氣）約占5%6%,環(huán)氧塑封料約占5% 。1.1.

3、2 超凈高純?cè)噭┏瑑舾呒冊(cè)噭?Ultra-clean and High-purity Reagents )在國(guó)際上通稱為工藝化學(xué)品(Process Chemicals )，美歐和中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)又稱濕化學(xué)品(WetChemicals )，是超大規(guī)模集成電路制作過(guò)程中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)化工材料之一，主要用于芯片的清洗、蝕刻， 另外超凈高純?cè)噭┻€用于芯片摻雜和沉淀工藝。超凈高純?cè)噭┑募兌群蜐崈舳葘?duì)集成電路的成品率、電性能及可靠性均有十分重要的影響。超凈高純?cè)噭┚哂衅贩N多、用量大、技術(shù)要求高、貯存有效期短和腐蝕性強(qiáng)等特點(diǎn)，它基于微電子技術(shù)的發(fā)展而產(chǎn)生，一代IC 產(chǎn)品需要一代的超凈高純?cè)噭┡c之配套。它隨著微電子

4、技術(shù)的發(fā)展而同步或超前發(fā)展，同時(shí)它又對(duì)微電子技術(shù)的發(fā)展起著制約作用。依照超凈高純?cè)噭┑挠猛?，可以將其劃分為光刻膠配套試劑、濕法蝕刻劑和濕法工藝試劑。如果依其性質(zhì)可以分為：無(wú)機(jī)酸類、無(wú)機(jī)堿類、有機(jī)溶劑類和其他超凈高純?cè)噭?。有關(guān)資料顯示，超凈高純有機(jī)溶劑在半導(dǎo)體工業(yè)中的消耗比例大致占 10-15% ，其中有機(jī)類化學(xué)品的需求量在微電子化學(xué)品中占總體積的3%以上，市場(chǎng)需求量相當(dāng)可觀。在超凈高純?cè)噭┑陌l(fā)展方面，不同線寬的集成電路必須使用不同規(guī)格的超凈高純?cè)噭┻M(jìn)行蝕刻和清洗。超凈高純?cè)噭┑年P(guān)鍵在于控制其所含的金屬離子的多少和試劑中塵埃顆粒的含量，對(duì)于線寬較小的集成電路，幾個(gè)金屬離子或灰塵就足以報(bào)廢整個(gè)電路

5、。1.2 行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)1975 年，國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織(SEMI )制定了國(guó)際統(tǒng)一的超凈高純?cè)噭?biāo)準(zhǔn)，如表1 所示。目前，國(guó)際上制備SEMI-C1 到 SEMI-C12 級(jí)超凈高純?cè)噭┑募夹g(shù)都已經(jīng)趨于成熟。隨著集成電路制作要求的提高，對(duì)工藝中所需的液體化學(xué)品純度的要求也不斷提高從技術(shù)趨勢(shì)上看，滿足納米級(jí)集成電路加工需求是超凈高純?cè)噭┙窈蟀l(fā)展方向之一。表1工藝化學(xué)品SEMI國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)等級(jí)SEMI標(biāo)準(zhǔn)C1(Gradel )C7(Grade2 )C8(Grade3 )C12(Grade4)金屬雜質(zhì)/ppb<1ppm<10<1<0.1控制粒徑/師<1.0<0.5&l

6、t;0.5<0.2顆粒/個(gè)/mL<25<25<5*適應(yīng)IC線寬范圍/加>1.20.8 1.20.2 0.60.09 0.2可以看出，超凈高純?cè)噭┲苽涞年P(guān)鍵在于控制并達(dá)到其所要求的雜質(zhì)含量和顆粒度。為使超凈高純?cè)噭┑馁|(zhì)量達(dá)到要求， 需從多個(gè)方面同時(shí)予以保障，包括試劑的提純、包裝、供應(yīng)系統(tǒng)及分析方法等。目前，國(guó)際上普遍使用的提純工藝 有十余種，它們適用于不同成分、不同要求的超凈高純?cè)噭┑纳a(chǎn)，例如，蒸儲(chǔ)、 精儲(chǔ)、連續(xù)精儲(chǔ)、鹽熔精儲(chǔ)、共沸精儲(chǔ)、亞沸騰蒸儲(chǔ)、等溫蒸儲(chǔ)、減壓蒸儲(chǔ)、升 華、化學(xué)處理、氣體吸收等。超凈高純?cè)噭┰谶\(yùn)輸過(guò)程中極易受污染，所以超凈 高純?cè)噭┑陌b及供應(yīng)

7、方式是超凈高純?cè)噭┦褂玫闹匾画h(huán)。特別是顆粒控制的相關(guān)技術(shù)，它貫穿于超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)、運(yùn)輸?shù)氖冀K，包括了環(huán)境控制、工藝控 制、成品包裝控制等各個(gè)環(huán)節(jié)。1.3 超凈高純?cè)噭┑膽?yīng)用在集成電路和分立器件的制作方面，超凈高純?cè)噭┑闹饕猛?，一是用于基片在涂膠前的濕法清洗，二是用于在光刻過(guò)程中的蝕刻及最終的去膠，三是用于硅片本身制作過(guò)程中的清洗。如果依照其性質(zhì)可以分為：無(wú)機(jī)酸類、無(wú)機(jī)堿類、有 機(jī)溶劑類和其他類。有關(guān)資料顯示，超凈高純?cè)噭┰诎雽?dǎo)體工業(yè)中的消耗比例大致為：H2SO4 約占 27%-33%、H2O2 約占 8%-22%、NH40H 約占 8%、HCl約占3%-8%、其他酸約占10%-20%、蝕

8、刻劑約占12%-20% ,有機(jī)溶劑約占 10%-15% 。1.3.1 濕法清洗硅圓片在進(jìn)行工藝加工過(guò)程中，常常會(huì)被不同的雜質(zhì)所沾污，這些雜質(zhì)的沾污 將導(dǎo)致IC的產(chǎn)率下降大約50%。為了獲得高質(zhì)量、高產(chǎn)率的集成電路芯片，必須將這些沾污物去除干凈。有關(guān)沾污類型、來(lái)源和常用清洗試劑見(jiàn)表2。表2 沾污類型、來(lái)源及常用的清洗試劑泊洛類型可能來(lái)源!清洗用化學(xué)品顆粒設(shè)備、超凈向空氣、 工藝氣體和化學(xué)試 劑.去離水 H.! - HiH.HjOkH"）： 膽堿、H 2m .H:iO金強(qiáng)設(shè)備超凈高純?cè)噭? 離子注入、灰化、反 成高子刻迎HCI 皿。2、出口;HF Ji?n仃機(jī)坳超凈間氣體、光刻JR 殘?jiān)?/p>

9、、貯存容器、工 藝化學(xué)試劑2s。4；、Hn -自然氧化物超凈間濕度*去陽(yáng)廣水沖洗HFUI2O:1.3.2 濕法蝕刻它可發(fā)濕法蝕刻是指借助于化學(xué)反應(yīng)從硅圓片的表面去除固體物質(zhì)的過(guò)程。生在全部硅圓片表面或局部未被掩膜保護(hù)的表面上，其結(jié)果是導(dǎo)致固體表面全部或局部的溶解。濕法蝕刻依蝕刻對(duì)象的不同可分為絕緣膜、半導(dǎo)體膜、導(dǎo)體膜及 有機(jī)材料等多種蝕刻。（ 1）絕緣膜的蝕刻絕緣膜蝕刻包括圖形化二氧化硅（SiO2） 膜的蝕刻和氮化硅（Si3N4） 膜蝕刻。其中圖形化二氧化硅膜采用緩沖氫氟酸蝕刻液（BHF）進(jìn)行蝕刻，其目的是為了保護(hù)光刻掩膜和掩膜下的絕緣層。氮化硅膜在室溫下用氫氟酸或磷酸進(jìn)行蝕刻。（ 2）半導(dǎo)體

10、膜蝕刻主要是指單晶硅和多晶硅的蝕刻,通常采用混合酸蝕刻液進(jìn)行蝕刻。（ 3）導(dǎo)體膜蝕刻在 Si 材料集成電路中,金屬導(dǎo)線常采用Al、 Al-Si 合金膜,濕法蝕刻圖形化后 Al 和 Al-Si 金屬膜常采用磷酸蝕刻液進(jìn)行蝕刻。（ 4）有機(jī)材料蝕刻主要是指光刻膠在經(jīng)過(guò)顯影和圖形轉(zhuǎn)移后的去膠。常用的正膠顯影液有四甲基氫氧化銨,去膠劑可采用熱的過(guò)氧化氫-硫酸氧化去膠或采用廠家提供的專用去膠劑或剝離液來(lái)去除膠膜。1.3.3 產(chǎn)業(yè)政策由于超凈高純?cè)噭?duì)IC 行業(yè)發(fā)展的重要性，我國(guó)在政策上鼓勵(lì)該產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，“十五”期間我國(guó)把超凈高純?cè)噭┑难邪l(fā)列入“863 ”計(jì)劃；在 2008 年國(guó)家科技部下發(fā)高新技術(shù)企業(yè)認(rèn)

11、定管理辦法附件中， 明確列出超凈高純?cè)噭儆趪?guó)家重點(diǎn)支持的高新技術(shù)領(lǐng)域。此外， 超高純?cè)噭┑膬纱笙掠萎a(chǎn)業(yè)也是國(guó)家重點(diǎn)支持產(chǎn)業(yè)。IC 行業(yè)在國(guó)家多個(gè)政策文件中單獨(dú)列出，作為重點(diǎn)支持對(duì)象；太陽(yáng)能行業(yè)近年來(lái)在我國(guó)發(fā)展如火如荼，國(guó)家有多個(gè)相關(guān)政策進(jìn)行支持，太陽(yáng)能屋頂”和“金太陽(yáng)”工程等國(guó)家扶持政策陸續(xù)推出，以及新能源產(chǎn)業(yè)振興規(guī)劃2020 年，中國(guó)光伏業(yè)安裝量則很有希望突破20GW 的規(guī)劃量。2 . 國(guó)際上該行業(yè)的基本布局及發(fā)展情況目前在國(guó)際上從事超凈高純?cè)噭┑难芯块_(kāi)發(fā)及大規(guī)模生產(chǎn)的主要有德國(guó)的E.Merk 公司（包括日本的Merck-Kanto 公司，占全球市場(chǎng)份額26.7% ），美國(guó)的 Ashlan

12、d 公司（市場(chǎng)份額25.7%）、 Arch 公司（市場(chǎng)份額9.5%）、Mallinckradt Baker公司（市場(chǎng)份額4.4%）,日本的 Wako （市場(chǎng)份額10.1% ）、Sumitomo （市場(chǎng)份額7.1%），另外還有日本住友合成、德川、三菱，我國(guó)臺(tái)灣地區(qū)主要有臺(tái)灣Merck 、長(zhǎng)春、中華、友發(fā)、長(zhǎng)新化學(xué)、臺(tái)硝股份及恒誼等，韓國(guó)主要有東友（ DONGWOO FINECHEM ） 、 東進(jìn) （ DONGJIN SEMICHEM ） 、SAMYOUNG FINECHEM 等公司。在技術(shù)方面，美國(guó)、德國(guó)、日本、韓國(guó)及我國(guó)臺(tái)灣地區(qū)目前已經(jīng)在大規(guī)模生產(chǎn) 0.20.6叩 技術(shù)用的超凈高純?cè)噭?，其中?/p>

13、 過(guò)氧化氫、硫酸、異丙醇等主要品種一般在 500010000噸/年的規(guī)模，0.09 0.2師 技術(shù)用超凈高純?cè)噭┮惨淹瓿汕捌诘墓に囇芯坎⑿纬梢?guī)模生產(chǎn)，90nm以下技術(shù)用工藝化學(xué)品也已完成技術(shù)研究，具備相應(yīng)的生產(chǎn)能力。隨著上世紀(jì)末世界半導(dǎo)體行業(yè)的迅速發(fā)展，超凈高純?cè)噭┦袌?chǎng)的不斷擴(kuò)大，從事超凈高純?cè)噭┭芯颗c生產(chǎn)的廠家及機(jī)構(gòu)也在增多，生產(chǎn)規(guī)模在不斷擴(kuò)大。但各生產(chǎn)廠家所生產(chǎn)的超凈高純?cè)噭┑臉?biāo)準(zhǔn)各不相同。為了能夠規(guī)范世界超凈高純?cè)噭┑臉?biāo)準(zhǔn)，國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織（SEMI）于1975年成立了 SEMI化學(xué)試劑標(biāo)準(zhǔn)化委員會(huì)，專門制定、規(guī)范超凈高純?cè)噭┑膰?guó)際標(biāo)準(zhǔn)。進(jìn)入21 世紀(jì)，國(guó)際 SEMI 標(biāo)準(zhǔn)化組織

14、又根據(jù)超凈高純?cè)噭┰谑澜绶秶鷥?nèi)的實(shí)際發(fā)展情況對(duì)原有的分類體系進(jìn)行了歸并，按品種進(jìn)行分類，每個(gè)品種歸并為一個(gè)指導(dǎo)性的標(biāo)準(zhǔn)，其中包括多個(gè)用于不同工藝技術(shù)的等級(jí)（具體見(jiàn)表1）。隨著集成電路的發(fā)展，設(shè)計(jì)規(guī)范尺寸已進(jìn)入亞微米、 深亞微米時(shí)代，對(duì)與之配套使用的超凈高純?cè)噭┨岢隽烁叩囊螅w粒和雜質(zhì)含量要減少13個(gè)數(shù)量級(jí)，并對(duì)儲(chǔ)運(yùn)也提出了更高的要求。為了適應(yīng)新的發(fā)展，在進(jìn)入90年代初各主要生產(chǎn)廠家積極推進(jìn)化學(xué)品的經(jīng)營(yíng)服務(wù)（CMS）,即化學(xué)品供應(yīng)者在IC現(xiàn)場(chǎng)， 承擔(dān)調(diào)查IC生產(chǎn)工藝與化學(xué)品的相關(guān)因素，協(xié)調(diào)解決有關(guān)工藝化學(xué)品在應(yīng)用過(guò) 程中的技術(shù)問(wèn)題，使IC生產(chǎn)者與化學(xué)品供應(yīng)者形成了緊密的合作伙伴。由于推 行C

15、MS,降低了企業(yè)的運(yùn)行費(fèi)用，縮短了研究開(kāi)發(fā)周期，增強(qiáng)了質(zhì)量保證，改 進(jìn)了生產(chǎn)安全，減少了危險(xiǎn)品的貯存量，保證化學(xué)品在使用點(diǎn)上的高質(zhì)量。另外 根據(jù)用戶要求，工藝化學(xué)品生產(chǎn)者還可以按 SEMI標(biāo)準(zhǔn)提供混配好的蝕刻液如緩 沖氫氟酸蝕刻液、混合酸蝕刻液和磷酸蝕刻液。3 .國(guó)內(nèi)行業(yè)特點(diǎn)，布局及市場(chǎng)前景3.1 行業(yè)發(fā)展我國(guó)超凈高純?cè)噭┭兄破鸩接?70年代中期。1980年北京化學(xué)試劑研究所（試劑所）在國(guó)內(nèi)率先研制成功 5 Mm技術(shù)用的22種MOS級(jí)試劑，另外原上 ?；瘜W(xué)試劑總廠、原天津試劑三廠等幾家單位也生產(chǎn) MOS級(jí)試劑。隨著集成電 路集成度的不斷提高，對(duì)超凈高純?cè)噭┲械目扇苄噪s質(zhì)和固體顆粒的控制越來(lái)越

16、嚴(yán)，同時(shí)對(duì)生產(chǎn)環(huán)境、包裝方式及包裝材質(zhì)等提出了更高的要求。此后，國(guó)內(nèi)相 繼研制成功BV- I級(jí)、BV- II級(jí)和BV-m級(jí)超凈高純?cè)噭?，其中BV-IH級(jí)超凈高 純?cè)噭┻_(dá)到國(guó)際SEMI-C7標(biāo)準(zhǔn)的水平（具體標(biāo)準(zhǔn)如表 3所示），適用于0.8 1.2師工藝技術(shù)的加工制作，并在 九五”末期形成了 500噸/年的中試規(guī)模。表3 MOS級(jí)與BV-III級(jí)超凈高純?cè)噭┚唧w指標(biāo)比較試劑級(jí)別指標(biāo)MOS級(jí)超凈高純?cè)噭┙饘匐s質(zhì)含量： 500ppb 非金屬雜質(zhì)含量： 1ppm(3) 5加 顆?？刂茷椋?27個(gè)/mLBV一m級(jí)超凈高純?cè)噭?金屬雜質(zhì)含量： 10ppb非金屬雜質(zhì)含量: 500Ppm(3) 0.5師 顆粒控

17、制為： 25個(gè)/mL 相當(dāng)于國(guó)際SEMI-C7標(biāo)準(zhǔn)的水平。到本世紀(jì)初，5 Mm IC技術(shù)用MOS級(jí)試劑的生產(chǎn)技術(shù)已經(jīng)成熟，并已轉(zhuǎn)化 為規(guī)模生產(chǎn)。0.81.2 Mm IC技術(shù)用BV一m級(jí)超凈高純?cè)噭?相當(dāng)于國(guó)際SEMI 標(biāo)準(zhǔn)C7水平)的產(chǎn)業(yè)化技術(shù)也已經(jīng)成熟。0.20.6加IC技術(shù)用BV- IV級(jí)超凈高 純?cè)噭?相當(dāng)于國(guó)際SEMI標(biāo)準(zhǔn)C8水平)的工藝制備技術(shù)及分析測(cè)試技術(shù)有較大 的突破，但規(guī)模化生產(chǎn)技術(shù)的瓶頸問(wèn)題還有待進(jìn)一步的解決。近幾年，我國(guó)超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)又取得了長(zhǎng)足的進(jìn)步，少數(shù)企業(yè)已經(jīng)對(duì)國(guó)際SEMI標(biāo)準(zhǔn)C8水平的試劑實(shí)施規(guī)模化生產(chǎn)，并研制出國(guó)際 SEMI標(biāo)準(zhǔn)C12水平試劑。然而，盡管在“十五

18、”期間國(guó)家科技部就將 0.1加 水平用超凈高純?cè)噭┝腥肓?“ 863 ”重大 專項(xiàng)計(jì)劃中，但國(guó)內(nèi)企業(yè)對(duì)該級(jí)別產(chǎn)品關(guān)鍵的制備技術(shù)、分析測(cè)試技術(shù)依舊沒(méi)有真正解決，產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性尚無(wú)法達(dá)到實(shí)用化的要求。目前僅有兩家企業(yè)能實(shí)現(xiàn)個(gè)別該級(jí)別產(chǎn)品的規(guī)模化生產(chǎn)。3.2 市場(chǎng)狀況近年來(lái)，隨著我國(guó)經(jīng)濟(jì)的發(fā)展，半導(dǎo)體行業(yè)和太陽(yáng)能行業(yè)發(fā)展迅速， 給我國(guó) 的超凈高純?cè)噭┨峁┝藦V闊的市場(chǎng)空間。目前，我國(guó)超凈高純?cè)噭┦袌?chǎng)主要有以下三大特點(diǎn)：(1)國(guó)內(nèi)主要生產(chǎn)中低端產(chǎn)品，高端產(chǎn)品靠進(jìn)口。如前文所述，我國(guó)超凈高純?cè)噭┑纳a(chǎn)技術(shù)還比較低，目前國(guó)內(nèi)生產(chǎn)超凈高純?cè)噭┑钠髽I(yè)數(shù)量不多， 并 且技術(shù)水平相對(duì)低下。國(guó)內(nèi)超高純?cè)噭┑闹髁魇?

19、SEMI標(biāo)準(zhǔn)C7、C8水平，能規(guī) ?；a(chǎn)SEMI標(biāo)準(zhǔn)C8水平超凈高純?cè)噭┣曳€(wěn)定性較高的企業(yè)屈指可數(shù)，僅有 兩家企業(yè)能生產(chǎn)PPT級(jí)超凈高純?cè)噭┲械膯我划a(chǎn)品。因此，總體上我國(guó)超凈高 純?cè)噭┢髽I(yè)主要針對(duì)中低端市場(chǎng)，高端市場(chǎng)的產(chǎn)品主要依賴于進(jìn)口(如表4),進(jìn)口產(chǎn)品的主要來(lái)源有日本、韓國(guó)、美國(guó)等國(guó)家及我國(guó)的臺(tái)灣地區(qū)。表4我國(guó)2007年超凈高純?cè)噭┻M(jìn)口量和國(guó)產(chǎn)產(chǎn)品市場(chǎng)占有率產(chǎn)品國(guó)產(chǎn)量進(jìn)口量國(guó)產(chǎn)產(chǎn)品市場(chǎng)占后率超凈高純?cè)噭?0819.0 噸60353.8 噸17.90%(2)產(chǎn)品多規(guī)格、多品種并存。超凈高純?cè)噭┓N類較多，常用的超凈高純 試劑有硫酸、雙氧水、鹽酸、氫氟酸、硝酸、氨水、異丙醇、氟化俊緩蝕溶液等。

20、 各種試劑都有其特定的作用。止匕外，國(guó)內(nèi)超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)企業(yè)水平參差不齊， 并且使用的標(biāo)準(zhǔn)也不統(tǒng)一。有些企業(yè)采用北京化學(xué)試劑研究所得標(biāo)準(zhǔn)， 有些企業(yè) 因?yàn)橐M(jìn)外資，采用了 SEMI國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)，從而造成了我國(guó)超凈高純?cè)噭┦袌?chǎng)多規(guī) 格、多品種并存的格局。(3)就產(chǎn)品的行業(yè)分布來(lái)看，超凈高純?cè)噭┑膽?yīng)用主要集中于半導(dǎo)體行業(yè)和太陽(yáng)能行業(yè)。太陽(yáng)能行業(yè)在我國(guó)迅速崛起之前，超凈高純?cè)噭┲饕獞?yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)。然而，半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超凈高純?cè)噭┑囊蠛芨撸?并且該行業(yè)發(fā)展迅速更 新很快，我國(guó)超凈高純?cè)噭┻_(dá)不到相關(guān)要求，從而導(dǎo)致絕大部分產(chǎn)品依賴于進(jìn)口， 我國(guó)超凈高純?cè)噭┊a(chǎn)業(yè)發(fā)展緩慢。 近年來(lái)，太陽(yáng)能行業(yè)發(fā)展迅速，并且該行

21、業(yè)對(duì) 超凈高純?cè)噭┑囊笙鄬?duì)較低，加上我國(guó)對(duì)國(guó)外超凈高純?cè)噭┫冗M(jìn)技術(shù)的吸收和 引進(jìn)，業(yè)內(nèi)個(gè)別企業(yè)已經(jīng)有較高的技術(shù)水平和較大的生產(chǎn)規(guī)模。（ 4） 就地區(qū)分布來(lái)看，我國(guó)超凈高純?cè)噭┲饕性陂L(zhǎng)三角和北京、河北、天津一帶。國(guó)內(nèi)生產(chǎn)超凈高純?cè)噭┑钠髽I(yè)在南方主要集中在上海、蘇州和江陰地區(qū)，其中上海以華誼為主，蘇州主要包括瑞紅、聯(lián)創(chuàng)、晶瑞、蘇瑞及達(dá)諾爾等，江陰包括江陰化學(xué)試劑廠、江化、 潤(rùn)瑪?shù)龋?北方依舊以北京化學(xué)試劑研究所為主，另外還有天津的風(fēng)帆和近兩年迅速發(fā)展的一家河北企業(yè)。3.3 行業(yè)前景隨著各領(lǐng)域高科技的發(fā)展，微電子行業(yè)呈現(xiàn)加速勢(shì)頭，具體表現(xiàn)在集成電路的集成度迅速提高，相對(duì)線寬不斷減小，多晶硅柵極

22、寬度及其相應(yīng)的溝道寬度也降低到納米級(jí)。微電子行業(yè)本身的特性決定了它對(duì)清洗劑的高要求，國(guó)內(nèi)微電子行業(yè)發(fā)展水平遠(yuǎn)低于國(guó)外的重要外因之一便是目前我國(guó)能生產(chǎn)電子級(jí)超凈高純?cè)噭┑钠髽I(yè)寥寥無(wú)幾。并且， 由于芯片價(jià)格高，芯片企業(yè)對(duì)超純?cè)噭┑膬r(jià)格不敏感， 一般不會(huì)輕易嘗試國(guó)內(nèi)的產(chǎn)品，因此， 國(guó)內(nèi)超凈高純?cè)噭┢髽I(yè)的發(fā)展存在著技術(shù)上和市場(chǎng)上的雙重門檻，不易得到發(fā)展。然而，隨著國(guó)際化的產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移，我國(guó)芯片制造業(yè)迅速發(fā)展，市場(chǎng)對(duì)相關(guān)輔料的強(qiáng)烈需求吸引了國(guó)外技術(shù)的進(jìn)入和國(guó)內(nèi)研發(fā)力量的增加，從而引起我國(guó)超凈高純?cè)噭┘夹g(shù)水平的迅速提高。到2008年末全球性的經(jīng)濟(jì)危機(jī)使得芯片企業(yè)開(kāi)始考慮成本節(jié)約，從而增加了對(duì)相關(guān)輔料價(jià)格的敏感

23、性。于是， 綜合兩方面的因素，芯片企業(yè)開(kāi)始試用國(guó)內(nèi)的超凈高純?cè)噭?，為我?guó)超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)的發(fā)展帶來(lái)了契機(jī)。目前我國(guó)超凈高純?cè)噭┒啻?，在半?dǎo)體行業(yè)中 0.81.2加、0.50.6加、0.250.35加、90nm180nm 技術(shù)用的超凈高純?cè)噭┟恳粰n次的需求量都超過(guò)萬(wàn)噸的水平。其中， 分立器件制作技術(shù)用超凈高純?cè)噭┲饕性贛OS試劑及相當(dāng)于0.81.2 m的技術(shù)水平，其需求量在萬(wàn)噸級(jí)以上。LCD包括TFT-LCD用超凈高純?cè)噭┲饕?MOS試劑及相當(dāng)于0.81.2師 和0.50.6 加 的技術(shù)水平，用量超過(guò)萬(wàn)噸級(jí)， 0.250.35叩、90nm180nm 技術(shù)主要 用于生產(chǎn)8 寸和 12

24、寸晶圓，目前國(guó)內(nèi)生產(chǎn)8 寸和 12 寸晶圓的生產(chǎn)線需消耗的超凈高純?cè)噭┏^(guò)5 萬(wàn)噸，但該細(xì)分領(lǐng)域要求超凈高純?cè)噭┻_(dá)到SEMI 標(biāo)準(zhǔn) C8以上和 C12 水平，而國(guó)內(nèi)技術(shù)水平相對(duì)較低，因此絕大部分產(chǎn)品來(lái)自于進(jìn)口。據(jù)有關(guān)資料顯示，未來(lái)的三年中我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)將保持15.3%的行業(yè)復(fù)合增長(zhǎng)率，而超凈高純?cè)噭⒈３衷诎雽?dǎo)體行業(yè)一半左右的增長(zhǎng)速度即接近8% 的年增長(zhǎng)率， 因此， 我們可以預(yù)計(jì)三年之后我國(guó)半導(dǎo)體行業(yè)對(duì)超凈高純?cè)噭┑男枨髮⑦_(dá)到 8.8 萬(wàn)噸以上，按產(chǎn)品均價(jià)1.2 萬(wàn)元 /噸，則市場(chǎng)規(guī)模超過(guò)10.56 億元。此外， 我國(guó)太陽(yáng)能行業(yè)近幾年快速發(fā)展，迅速給超凈高純?cè)噭?lái)了另一個(gè)巨大的市場(chǎng)，總體上，

25、目前太陽(yáng)能行業(yè)對(duì)超凈高純?cè)噭┑男枨罅吭? 萬(wàn)噸左右。由于對(duì)產(chǎn)品的要求相對(duì)較低，對(duì)于我國(guó)企業(yè)而言，太陽(yáng)能行業(yè)成為更為有效的潛在市場(chǎng)，以蘇州晶瑞為例，該企業(yè)80% 的產(chǎn)品供應(yīng)給太陽(yáng)能領(lǐng)域，而供應(yīng)給半導(dǎo)體行業(yè)和TFT-LCD 的僅為 20% 。 從世界范圍來(lái)看，太陽(yáng)能電池行業(yè)近十年的年均增長(zhǎng)率達(dá)40% ， 我國(guó) 2001-2007 年太陽(yáng)能電池行業(yè)的年均增長(zhǎng)率達(dá)150% 。我們以世界平均增長(zhǎng)率為基礎(chǔ)，同樣估計(jì)超凈高純?cè)噭┰鲩L(zhǎng)率為太陽(yáng)能行業(yè)的一半， 那么三年之后太陽(yáng)能行業(yè)對(duì)超凈高純?cè)噭┑男枨罅繉⒊^(guò)7 萬(wàn)噸， 按產(chǎn)品均價(jià) 1 萬(wàn)元 /噸，則市場(chǎng)規(guī)模超過(guò)7 億元?？傮w上，目前我國(guó)超凈高純?cè)噭┦袌?chǎng)規(guī)模達(dá)1

26、0 萬(wàn)噸，產(chǎn)值超過(guò)11.5 億，三年后市場(chǎng)規(guī)?？蛇_(dá)15.8 萬(wàn)噸，產(chǎn)值達(dá)18 億左右，市場(chǎng)發(fā)展迅速，前景看好。但不得不提的是，半導(dǎo)體行業(yè)和太陽(yáng)能行業(yè)的發(fā)展態(tài)勢(shì)決定了超凈高純行業(yè)的發(fā)展， 而這兩個(gè)行業(yè)都具有周期性，因此， 短期內(nèi)超凈高純?cè)噭┰谖覈?guó)將得到迅速 的發(fā)展，長(zhǎng)期則依賴于下游的太陽(yáng)能行業(yè)和半導(dǎo)體行業(yè)，存在一定的不確定性。4. 行業(yè)內(nèi)競(jìng)爭(zhēng)狀況超凈高純?cè)噭┬袠I(yè)是電子工業(yè)材料的細(xì)分行業(yè)，目前國(guó)內(nèi)技術(shù)水平不高，大部分產(chǎn)品需要進(jìn)口。目前該行業(yè)的國(guó)內(nèi)生產(chǎn)企業(yè)僅有十多家，下面分別對(duì)比這些企業(yè)并分析行業(yè)內(nèi)的競(jìng)爭(zhēng)情況。如表5所示，目前我國(guó)僅有兩家企業(yè)能夠規(guī)?；a(chǎn) PPT級(jí)超凈高純?cè)噭?，常熟達(dá)諾爾由美籍華人

27、曹總等人建立，原樣復(fù)制美國(guó)超凈高純氨水工藝流程與設(shè)備，目前產(chǎn)能6000 噸左右， 09 年凈利 200 多萬(wàn)， 2010 年凈利潤(rùn)可達(dá)500 多萬(wàn)。目前公司規(guī)模不大，產(chǎn)品比較單一，但擁有技術(shù)制高點(diǎn)，前景看好。并且，公司準(zhǔn)備募集資金建立硫酸、硝酸和鹽酸生產(chǎn)線，豐富產(chǎn)品種類，從而進(jìn)一步加強(qiáng)公司的競(jìng)爭(zhēng)力。蘇瑞電子材料有限公司為中國(guó)和比利時(shí)合資企業(yè)，比利時(shí)公司占有其 51% 股權(quán)，蘇州晶瑞的實(shí)際控制人擁有其49% 的股權(quán)。目前蘇瑞產(chǎn)能2000 噸，主要產(chǎn)品是雙氧水，是目前國(guó)內(nèi)唯一能規(guī)?；a(chǎn)雙氧水的企業(yè)。蘇州晶瑞是一家中港合資企業(yè)，由港資控股，公司產(chǎn)能2 萬(wàn)噸， 目前處于滿負(fù)荷生產(chǎn)狀態(tài)。公司的產(chǎn)品包括

28、光刻膠和超凈高純?cè)噭﹥刹糠?，其中氫氟?000多噸， 占公司利潤(rùn)來(lái)源的一半。晶瑞生產(chǎn)的產(chǎn)品處于中高端水平，目前在行業(yè)中擁有較好的口碑，由于產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)較好，其產(chǎn)品價(jià)格高于同類企業(yè)。在市場(chǎng)分布上， 晶瑞 80% 的產(chǎn)品應(yīng)用于太陽(yáng)能領(lǐng)域，20% 用于半導(dǎo)體、TFT-LCD 領(lǐng)域。2009 年公司凈利潤(rùn)達(dá)到3300 萬(wàn)元，預(yù)計(jì)2010 年凈利潤(rùn)可達(dá)到5000 萬(wàn)元。此外，晶瑞目前已經(jīng)在建一條萬(wàn)噸級(jí)氫氟酸生產(chǎn)線，預(yù)計(jì)今年11 月可投產(chǎn)；公司還計(jì)劃在蘇北建立一條8.3 萬(wàn)噸級(jí)加大公司的規(guī)模優(yōu)勢(shì)，并且開(kāi)拓北方市場(chǎng)。蘇州瑞紅主要生產(chǎn)光刻膠、顯影劑以及各類超凈高純?cè)噭且患抑腥蘸腺Y企業(yè)，其中日方占股46%

29、 ，蘇州晶瑞的實(shí)際控制人擁有其54% 的股權(quán)， 2009年公司的凈利潤(rùn)達(dá)到1000 萬(wàn)。江陰潤(rùn)瑪電子材料有限公司產(chǎn)能在2500 噸左右， 主要產(chǎn)品包括硫酸、氨水、氫氟酸等。公司產(chǎn)品95% 針對(duì)太陽(yáng)能市場(chǎng)，僅5% 左右的產(chǎn)品針對(duì)半導(dǎo)體市場(chǎng)，公司的總體戰(zhàn)略路線是低價(jià)路線。江陰化學(xué)品有限公司創(chuàng)立較早，產(chǎn)品豐富，產(chǎn)能為3000 噸，其主要產(chǎn)品是CMOS 級(jí)、 MOS 級(jí)和低顆粒高純?cè)噭?。江化微電子有限公司產(chǎn)能達(dá)到5000 噸， 其產(chǎn)品類型與晶瑞相似，但技術(shù)水平低于晶瑞，江化部分產(chǎn)品從達(dá)諾爾公司購(gòu)入。上海華誼微電子材料有限公司于2004 年由上海華誼（集團(tuán)） 公司、 上海中遠(yuǎn)化工有限公司和臺(tái)灣聯(lián)仕共同出

30、資組建成立，建成15000 噸 /年規(guī)模的超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)線，現(xiàn)已正式投產(chǎn)。投資2.2 億萬(wàn)人民幣，生產(chǎn)各類微電子化學(xué)品，主要有：30% 雙氧水、 96% 硫酸、 29% 氨水、 37% 鹽酸、 69% 硝酸、 99.7%醋酸、40%氟化錢，產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)到當(dāng)前市場(chǎng)0.13叩線寬半導(dǎo)體制造業(yè)要求以及0.09叩半導(dǎo)體生產(chǎn)線質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的要求。公司擁有價(jià)值近1500萬(wàn)元的大型精密測(cè)試儀器和技術(shù)裝備，如測(cè)試限達(dá)到<1ppt （ 10-12 ）的電感耦合等離子光譜 -質(zhì)譜儀（ICP-MS ）、測(cè)試限<0.1ppb （ 10-9 ）的原子吸收光譜儀（AA）、紫外-可見(jiàn)分光光譜儀（U.V）、極譜儀、總碳分析儀、<0.1ppb的離子色譜儀（IC）、氣相色譜儀（GC）、高效液相色譜儀（HPLC）、激光散射顆粒測(cè)定儀（ PMC ）、空氣凈化顆粒測(cè)試儀、微波消化器等。上海華誼微電子材料有限公司已于 2006 年年中建成投產(chǎn)。產(chǎn)品已開(kāi)始進(jìn)入主要集成電路廠家試用，如中芯國(guó)際、臺(tái)積電，并出口東南亞。然而，近兩年公司發(fā)展并不順利，產(chǎn)品未得