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1、1515 秋學(xué)期現(xiàn)代材料測試技術(shù)在線作業(yè) 1 1 單選題判斷題一、單選題(共 1010 道試題,共 5050 分。1.1.對樣品進(jìn)行表面形貌分析時應(yīng)使用(X X 射線衍射(XRXR透射電鏡(TEMTEM掃描電鏡(SEMSEM- 選擇:2.2.能譜儀的分辨率比波譜儀(0高相同選擇: :3.3.塑料一級復(fù)型的分辨率一般只能達(dá)到( (5nm5nm 左右10nm10nm 左右20nm20nm 左右- 選擇:4.4.在入射電子束作用下被轟擊出來并離開樣品表面的樣品的核外電子叫做( (二次電子背散射電子俄歇電子選擇: :5.5.具有 f f 結(jié)構(gòu)晶體的(100100、(110110、(111111、(20
2、0200、(210210、(311311 對應(yīng)的倒易點(diǎn)在衍射時 都有可能落在反射球面上,而晶面(將出現(xiàn)反射。(311(311(200(200(210(210和。- 選擇:6.6.有一體心立方晶體的晶格常數(shù)是 0.286nm0.286nm 用鐵靶 K Ka (入 K Ka =0.194n=0.194n 照射該晶體 能產(chǎn)生(衍射線。三條四條五條六條。- 選擇:7.7.把透鏡像平面允許的軸向偏差定義為(球差景深焦深- 選擇:8.8.樣品微區(qū)成分分析手段包括(。WSWS、ESES 和 XRXRWSWS、ESES 和 EPMEPMTEMTEM、WSWS 和 XRXR- 選擇:9.9.X X 射線連續(xù)譜中
3、存在一個短波極限,其波長入= =(.1.24/V.1.24/V(千伏 nmnm.12.4/V.12.4/V(千伏 nmnm.12.4/V.12.4/V 伏 nmnm- 選擇:10.10.倒易點(diǎn)陣(。同濟(jì)大學(xué)四平路是晶體的真實點(diǎn)陣是實際晶體點(diǎn)陣經(jīng)一定轉(zhuǎn)化而得到的抽象點(diǎn)陣中倒易矢量hkl*hkl*與正空間(hklhkl 晶面平行中倒易矢量hkl*hkl*的模等于正空間(hklhkl 晶面間距的倒數(shù)- 選擇:1515 秋學(xué)期現(xiàn)代材料測試技術(shù)在線作業(yè) 1 1 單選題判斷題二、判斷題(共 1010 道試題,共 5050 分。1.1. 體心立方點(diǎn)陣的系統(tǒng)消光規(guī)律是當(dāng) H H、k k、L L 全為奇數(shù)或全為
4、偶數(shù)時才出現(xiàn) 反射。. .錯誤. .正確- 選擇:2.2. 晶體的電子衍射斑點(diǎn)是相應(yīng)晶體倒易點(diǎn)陣二維截面的放大象。. .錯誤. .正確- 選擇:3.3. 在樣品臺轉(zhuǎn)動的工作模式下,X,X 射線衍射儀探頭轉(zhuǎn)動的角速度是樣品轉(zhuǎn)動角 速度的二倍。錯誤. .正確- 選擇:4.4.透射電鏡圖像的襯度與樣品成分無關(guān). .錯誤. .正確- 選擇:5.5. 放大倍數(shù)是判斷顯微鏡性能的根本指標(biāo)。. .錯誤. .正確- 選擇:6.6. 隨 X X 射線管的電壓升高,入和入諸 E E 隨之減小。. .錯誤. .正確- 選擇:7.7. 背散射電子像和吸收電子像都可以顯示樣品的元素分布狀態(tài)。. .錯誤. .正確- 選擇:8.8. 透射電鏡成像系統(tǒng)中,若使中間鏡物平面與物鏡像平面重合的操作稱為成像 操作; ;而使中間鏡的物平面與物鏡背焦面重合的操作稱為衍射操作。. .錯誤. .正確- 選擇:9.9. 經(jīng)濾波后的 X X 射線是相對的單色光。. .錯誤. .正確- 選擇:10.10.當(dāng) X X 射線管電壓低于臨界電壓時僅可以
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