反滲透清洗方案

1、反滲透清洗方案簡(jiǎn)介： 在正常運(yùn)行一段時(shí)間后，反滲透膜元件會(huì)受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見(jiàn)的是碳酸鈣沉淀、硫酸鈣沉淀、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉淀、硅沉積物、無(wú)機(jī)或有機(jī)沉積混合物、NOM天然有機(jī)物質(zhì)、合成有機(jī)物(如：阻垢劑/分散劑，陽(yáng)離子聚合電解質(zhì))、微生物 (藻類、霉菌、真菌)等污染1 反滲透膜元件的污染與清洗在正常運(yùn)行一段時(shí)間后，反滲透膜元件會(huì)受到給水中可能存在的懸浮物或難溶鹽的污染，這些污染中最常見(jiàn)的是碳酸鈣沉淀、硫酸鈣沉淀、金屬(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)氧化物沉淀、硅沉積物、無(wú)機(jī)或有機(jī)沉積混合物、NOM天然有機(jī)物質(zhì)、合成有機(jī)物(如：阻垢劑/分散劑，陽(yáng)離

2、子聚合電解質(zhì))、微生物 (藻類、霉菌、真菌)等污染。污染性質(zhì)和污染速度取決于各種因素，如給水水質(zhì)和系統(tǒng)回收率。通常污染是漸進(jìn)發(fā)展的，如不盡早控制，污染將會(huì)在相對(duì)較短的時(shí)間內(nèi)損壞膜元件。當(dāng)膜元件確證已被污染，或是在長(zhǎng)期停機(jī)之前，或是作為定期日常維護(hù)，建議對(duì)膜元件進(jìn)行清洗。當(dāng)反滲透系統(tǒng)（或裝置）出現(xiàn)以下癥狀時(shí)，需要進(jìn)行化學(xué)清洗或物理沖洗：在正常給水壓力下，產(chǎn)水量較正常值下降1015%；為維持正常的產(chǎn)水量，經(jīng)溫度校正后的給水壓力增加1015%；產(chǎn)水水質(zhì)降低1015%，透鹽率增加1015%；給水壓力增加1015%；系統(tǒng)各段之間壓差明顯增加。保持穩(wěn)定的運(yùn)行參數(shù)主要是指產(chǎn)水流量、產(chǎn)水背壓、回收率、溫度及T

3、DS。如果這些運(yùn)行參數(shù)起伏不定，建議檢查是否有污染發(fā)生，或者在關(guān)鍵運(yùn)行參數(shù)有變化的前提下反滲透的實(shí)際運(yùn)行是否正常。定時(shí)監(jiān)測(cè)系統(tǒng)整體性能是確認(rèn)膜元件是否已發(fā)生污染的基本方法。污染對(duì)膜元件的影響是漸進(jìn)的，并且影響的程度取決于污染的性質(zhì)。表1“反滲透膜污染特征及處理方法”列出了常見(jiàn)的污染現(xiàn)象和相應(yīng)處理方法。已受污染的反滲透膜的清洗周期根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)實(shí)際情況而定。正常的清洗周期是每3-12個(gè)月一次。當(dāng)膜元件僅僅是發(fā)生了輕度污染時(shí)，重要的是清洗膜元件。重度污染會(huì)因阻礙化學(xué)藥劑深入滲透至污染層，影響清洗效果。清洗何種污染物以及如何清洗要根據(jù)現(xiàn)場(chǎng)污染情況而進(jìn)行。對(duì)于幾種污染同時(shí)存在的復(fù)雜情況，清洗方法是采用低PH

4、和高PH的清洗液交替清洗（應(yīng)先低PH后高PH值清洗）。表1 反滲透膜污染特征及處理方法 污染種類 可能發(fā)生之處 壓降 給水壓力 鹽透過(guò)率 金屬氧化物(Fe、Mn、Cu、Ni、Zn) 一段，最前端膜元件 迅速增加 迅速增加 迅速增加 膠體(有機(jī)和無(wú)機(jī)混合物) 一段，最前端膜元件 逐漸增加 逐漸增加 輕度增加 礦物垢(Ca、Mg、Ba、Sr) 末段，最末端膜元件 適度增加 輕度增加 一般增加 聚合硅沉積物 末段，最末端膜元件 一般增加 增加 一般增加 生物污染 任何位置，通常前端膜元件 明顯增加 明顯增加 一般增加 有機(jī)物污染(難溶NOM) 所有段 逐漸增加 增加 降低 阻垢劑污染 二段最嚴(yán)重 一

5、般增加 增加 一般增加 氧化損壞(Cl2、Ozone、KmnO4) 一段最嚴(yán)重 一般增加 降低 增咖 水解損壞(超出pH范圍) 所有段 一般降低 降低 增咖 磨蝕損壞(碳粉) 一段最嚴(yán)重 一般降低 降低 增咖 O型圈滲漏(內(nèi)連接管或適配器) 無(wú)規(guī)則，通常在給水適配器處 一般降低 一般降低 增咖 膠圈滲漏(產(chǎn)水背壓造成) 一段最嚴(yán)重 一般降低 一般降低 增咖 膠圈滲漏(清洗或沖洗時(shí)關(guān)閉產(chǎn)水閥造成) 最末端元件 增加(污染初期和壓差升高) 增咖2 污染情況分析碳酸鈣垢：碳酸鈣垢是一種礦物結(jié)垢。當(dāng)阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障時(shí)，或是加酸pH調(diào)節(jié)系統(tǒng)出故障而引起給水pH增高時(shí)，碳酸鈣垢有可能沉積出來(lái)

6、。盡早地檢測(cè)碳酸鈣垢，對(duì)于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。早期檢測(cè)出的碳酸鈣垢可由降低給水的pH值至35，運(yùn)行12小時(shí)的方法去除。對(duì)于沉積時(shí)間長(zhǎng)的碳酸鈣垢，可用低pH值的檸檬酸溶液清洗去除。硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢：硫酸鹽垢是比碳酸鈣垢硬很多的礦物質(zhì)垢，且不易去除。硫酸鹽垢可在阻垢劑/分散劑添加系統(tǒng)出現(xiàn)故障或加硫酸調(diào)節(jié)pH時(shí)沉積出來(lái)。盡早地檢測(cè)硫酸鹽垢對(duì)于防止膜層表面沉積的晶體損傷膜元件是極為必要的。硫酸鋇和硫酸鍶垢較難去除，因?yàn)樗鼈儙缀踉谒械那逑慈芤褐须y以溶解，所以，應(yīng)加以特別的注意以防止此類結(jié)垢的生成。金屬氧化物/氫氧化物污染：典型的金屬氧化物和金屬氫氧化物污染為鐵、鋅、錳

7、、銅、鋁等。這種垢的形成導(dǎo)因可能是裝置管路、容器(罐/槽)的腐蝕產(chǎn)物，或是空氣中氧化的金屬離子、氯、臭氧、鉀、高錳酸鹽，或是由在預(yù)處理過(guò)濾系統(tǒng)中使用鐵或鋁助凝劑所致。聚合硅垢：硅凝膠層垢由溶解性硅的過(guò)飽和態(tài)及聚合物所致，且非常難以去除。需要注意的是，這種硅的污染不同于硅膠體物的污染。硅膠體物污染可能是由與金屬氫氧化物締合或是與有機(jī)物締合而造成的。硅垢的去除很艱難，可采用傳統(tǒng)的化學(xué)清洗方法。如果傳統(tǒng)的方法不能解決這種垢的去除問(wèn)題，請(qǐng)與海德能公司技術(shù)部門聯(lián)系?，F(xiàn)有的化學(xué)清洗藥劑，如氟化氫銨，已在一些項(xiàng)目上得到了成功的使用，但使用時(shí)須考慮此方法的操作危害和對(duì)設(shè)備的損壞，加以防護(hù)措施。膠體污染：膠體是

8、懸浮在水中的無(wú)機(jī)物或是有機(jī)與無(wú)機(jī)混合物的顆粒，它不會(huì)由于自身重力而沉淀。膠體物通常含有以下一個(gè)或多個(gè)主要組份，如：鐵、鋁、硅、硫或有機(jī)物。非溶性的天然有機(jī)物污染(NOM)：非溶性天然有機(jī)物污染(NOMNatural Organic Matter)通常是由地表水或深井水中的營(yíng)養(yǎng)物的分解而導(dǎo)致的。有機(jī)污染的化學(xué)機(jī)理很復(fù)雜，主要的有機(jī)組份或是腐植酸，或是灰黃霉酸。非溶性NOM被吸附到膜表面可造成RO膜元件的快速污染，一旦吸收作用產(chǎn)生，漸漸地結(jié)成凝膠或塊狀的污染過(guò)程就會(huì)開(kāi)始。微生物沉積：有機(jī)沉積物是由細(xì)菌粘泥、真菌、霉菌等生成的，這種污染物較難去除，尤其是在給水通路被完全堵塞的情況下。給水通路堵塞會(huì)使

9、清潔的進(jìn)水難以充分均勻的進(jìn)入膜元件內(nèi)。為抑制這種沉積物的進(jìn)一步生長(zhǎng)，重要的是不僅要清潔和維護(hù)RO系統(tǒng)，同時(shí)還要清潔預(yù)處理、管道及端頭等。對(duì)膜元件采用氧化性殺菌時(shí)，請(qǐng)與宜興市富華水處理設(shè)備有限公司技術(shù)支持部門聯(lián)系，使用認(rèn)可的殺菌劑。3 清洗液的選擇和使用選擇適宜的化學(xué)清洗藥劑及合理的清洗方案涉及許多因素。首先要與設(shè)備制造商、RO膜元件廠商或RO特用化學(xué)藥劑及服務(wù)人員取得聯(lián)系。確定主要的污染物，選擇合適的化學(xué)清洗藥劑。有時(shí)針對(duì)某種特殊的污染物或污染狀況，要使用RO藥劑制造商的專用化學(xué)清洗藥劑，并且在應(yīng)用時(shí)，要遵循藥劑供應(yīng)商提供的產(chǎn)品性能及使用說(shuō)明。有的時(shí)候可針對(duì)具體情況，從反滲透裝置取出已發(fā)生污染

10、的單支膜元件進(jìn)行測(cè)試和清洗試驗(yàn)，以確定合適的化學(xué)藥劑和清洗方案。為達(dá)到最佳的清洗效果，有時(shí)會(huì)使用一些不同的化學(xué)清洗藥劑進(jìn)行組合清洗。典型地程序是先在低pH值范圍的情況下進(jìn)行清洗，去除礦物質(zhì)垢污染物，然后再進(jìn)行高pH值清洗，去除有機(jī)物。有些清洗溶液中加入了洗滌劑以幫助去除嚴(yán)重的生物和有機(jī)碎片垢物，同時(shí)，可用其它藥劑如EDTA螯合物來(lái)輔助去除膠體、有機(jī)物、微生物及硫酸鹽垢。需要慎重考慮的是如果選擇了不適當(dāng)?shù)幕瘜W(xué)清洗方法和藥劑，污染情況會(huì)更加惡化。4 化學(xué)清洗藥劑的選擇及使用準(zhǔn)則選用的專用化學(xué)藥劑，首先要確保其已由化學(xué)供應(yīng)商認(rèn)定并符合用于海德能公司膜元件的要求。藥劑供應(yīng)商的指導(dǎo)/建議不應(yīng)與海德能公司

11、此技術(shù)服務(wù)公告中推薦的清洗參數(shù)和限定的化學(xué)藥劑種類相沖突；如果正在使用指定的化學(xué)藥劑，要確認(rèn)其已在此海德能公司技術(shù)服務(wù)公告中列出，并符合海德能公司膜元件的要求（咨詢富華公司）；采用組合式方法完成清洗工作，包括適宜的清洗pH、溫度及接觸時(shí)間等參數(shù)，這將會(huì)有利于增強(qiáng)清洗效果；在推薦的最佳溫度下進(jìn)行清洗，以求達(dá)到最好的清洗效率和延長(zhǎng)膜元件壽命的效果；以最少的化學(xué)藥劑接觸次數(shù)進(jìn)行清洗，對(duì)延續(xù)膜壽命有益；謹(jǐn)慎地由低至高調(diào)節(jié)pH值范圍，可延長(zhǎng)膜元件的使用壽命。pH范圍為212(勿超出)；典型地、最有效的清洗方法是從低pH至高pH溶液進(jìn)行清洗。對(duì)油污染膜元件的清洗不能從低pH值開(kāi)始，因?yàn)橛驮诘蚿H時(shí)會(huì)固化；

12、清洗和沖洗流向應(yīng)保持相同的方向；當(dāng)清洗多段反滲透裝置時(shí)，最有效的清洗方法分段清洗，這樣可控制最佳清洗流速和清洗液濃度，避免前段的污染物進(jìn)入下游膜元件；用較高pH產(chǎn)品水沖洗洗滌劑可減少泡沫的產(chǎn)生；如果系統(tǒng)已發(fā)生生物污染，就要考慮在清洗之后，加入一個(gè)殺菌劑化學(xué)清洗步驟。殺菌劑必須可在清洗后立即進(jìn)行，也可在運(yùn)行期間定期進(jìn)行(如一星期一次)連續(xù)加入一定的劑量。必須確認(rèn)所使用的殺菌劑與膜元件相容，不會(huì)帶來(lái)任何對(duì)人的健康有害的風(fēng)險(xiǎn)，并能有效地控制生物活性，且成本低；為保證安全，溶解化學(xué)藥品時(shí)，切記要慢慢地將化學(xué)藥劑加入充足的水中并同時(shí)進(jìn)行攪拌；從安全方面考慮，不能將酸與苛性(腐蝕性)物質(zhì)混合。在要使用下一

13、種溶液之前，從RO系統(tǒng)中徹底沖洗干凈滯留的前一種化學(xué)清洗溶液。5 清洗液的選擇表2-常規(guī)清洗液配方提供的清洗溶液是將一定重量(或體積)的化學(xué)藥品加入到100加侖(379升)的潔凈水中(RO產(chǎn)品水或不含游離氯的水)。溶液是按所用化學(xué)藥品和水量的比例配制的。溶劑是RO產(chǎn)品水或去離子水，無(wú)游離氯和硬度。清洗液進(jìn)入膜元件之前，要求徹底混和均勻，并按照目標(biāo)值調(diào)pH值且胺目標(biāo)溫度值穩(wěn)定溫度。常規(guī)的清洗方法基于化學(xué)清洗溶液循環(huán)清洗一小時(shí)和一種任選的化學(xué)藥劑浸泡一小時(shí)的操作而設(shè)定的。表2 常規(guī)清洗液配方(以100加侖，即379升為基準(zhǔn)) 清洗液 主要組份 藥劑量 清洗液pH值 最高清洗液溫度 1 檸檬酸(10

14、0%粉末) 17.0磅(7.7公斤) 用氨水調(diào)節(jié)pH至3.04.0 40 2 鹽酸(HCl)(密度22波美度或濃度36%) 0.47加侖(1.8升) 緩慢加入鹽酸調(diào)節(jié)pH至2.5，調(diào)高pH用氫氧化鈉 35 3 氫氧化鈉(100%粉末)或(50%液體) 0.83磅(0.38公斤)0.13加侖(0.5升) 緩慢加入氫氧化鈉調(diào)節(jié)pH至11.5，調(diào)低pH時(shí)用鹽酸 306 常規(guī)清洗液介紹溶液12.0%(W)檸檬酸(C6H8O7)的低pH(pH值為34)清洗液。以于去除無(wú)機(jī)鹽垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)、金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)及無(wú)機(jī)膠體十分有效。溶液20.5%(W)鹽

15、酸低pH清洗液(pH為2.5)，主要用于去除無(wú)機(jī)物垢(如碳酸鈣垢、硫酸鈣、硫酸鋇、硫酸鍶垢等)，金屬氧化物/氫氧化物(鐵、錳、銅、鎳、鋁等)，及無(wú)機(jī)膠體。這種清洗液比溶液1要強(qiáng)烈些，因?yàn)辂}酸(HCl)是強(qiáng)酸。鹽酸的下述濃度值是有效的：(18波美=27.9%，20波美=31.4%，22波美=36.0%)。溶液30.1%(W)氫氧化鈉高pH清洗液(pH為11.5)。用于去除聚合硅垢。這一洗液是一種較為強(qiáng)烈的堿性清洗液。7 RO膜元件的清潔和沖洗程序RO膜元件可置于壓力容器中，在高流速的情況下，用循環(huán)的清潔水(RO產(chǎn)品水或不含游離氯的潔凈水)流過(guò)膜元件的方式進(jìn)行清洗。RO的清洗程序完全取決于具體情況

16、，必要時(shí)更換用于循環(huán)的清潔水。RO膜元件的常規(guī)清洗程序如下：在60psi(4bar)或更低壓力條件下進(jìn)行低壓沖洗，即從清洗罐中(或相當(dāng)?shù)乃?向壓力容器中泵入清潔水然后排放掉，運(yùn)行幾分鐘。沖洗水必須是潔凈的、去除硬度、不含過(guò)渡金屬和余氯的RO產(chǎn)品水或去離子水。在清洗罐中配制特定的清洗溶液。配制用水必須是去除硬度、不含過(guò)渡金屬和余氯的RO產(chǎn)品水或去離子水。溫度和pH應(yīng)調(diào)到所要求的值。啟動(dòng)清洗泵將清洗液泵入膜組件內(nèi)，循環(huán)清洗約一小時(shí)或是要求的時(shí)間（咨詢供應(yīng)商技術(shù)人員）。在起始階段，清洗液返回至RO清洗罐之前，將最初的的回流液排放掉，以免系統(tǒng)內(nèi)滯留的水對(duì)清洗溶液造成稀釋。在最初的5分鐘內(nèi)，慢慢地將流

17、速調(diào)節(jié)到最大設(shè)計(jì)流速的1/3。這可以減少由污物的大量沉積而造成的潛在污堵。在第二個(gè)5分鐘內(nèi)，增加流速至最大設(shè)計(jì)流速的2/3，然后，再增加流速至設(shè)計(jì)的最大流速值。如果需要，當(dāng)pH的變化大于1，就要重新調(diào)回到原數(shù)值。根據(jù)需要，可交替采用循環(huán)清洗和浸泡程序。浸泡時(shí)間建議選擇1至8小時(shí)（請(qǐng)咨詢富華公司）。要謹(jǐn)慎地保持合適的溫度和pH。化學(xué)清洗結(jié)束之后，要用清潔水(去除硬度、不含金屬離子如鐵和氯的RO產(chǎn)品水或去離子水)進(jìn)行低壓沖洗，從清洗裝置/部件中去除化學(xué)藥劑的殘留部分，排放并沖洗清洗罐，然后再用清潔水完全注滿清洗罐以作沖洗之用。從清洗罐中泵入所有的沖洗水沖洗壓力容器至排放。如果需要，可進(jìn)行第二次清洗

18、。一旦RO系統(tǒng)已用貯水罐中的清潔水完全沖洗后，就可用預(yù)處理給水進(jìn)行最終的低壓沖洗。給水壓力應(yīng)低于60psi(4bar)，最終沖洗持續(xù)進(jìn)行直至沖洗水干凈，且不含任何泡沫和清洗劑殘余物。通常這需要1560分鐘。操作人員可用干凈的燒瓶取樣，搖勻，監(jiān)測(cè)排放口處沖洗水中洗滌劑和泡沫的殘留情況。洗液的去除情況可用測(cè)試電導(dǎo)的方法進(jìn)行，如沖洗水至排放出水的電導(dǎo)在給水電導(dǎo)的1020%以內(nèi)，可認(rèn)為沖洗已接近終點(diǎn)；pH表也可用于測(cè)定，來(lái)比較沖洗水至排放出水與給水的pH值是否接近。一旦所有級(jí)段已清洗干凈，且化學(xué)藥劑也已沖洗掉，RO可重新開(kāi)始置于運(yùn)行程序中，但初始的產(chǎn)品水要進(jìn)行排放并監(jiān)測(cè)，直至RO產(chǎn)水可滿足工藝要求(電導(dǎo)、pH值等)。為得到穩(wěn)定的RO產(chǎn)水水質(zhì)，這一段恢復(fù)時(shí)間有時(shí)需要從幾小時(shí)到幾天，尤其是在經(jīng)過(guò)高pH清洗后。8 反滲透膜的化學(xué)清洗與水沖洗清洗時(shí)將清洗溶液以低壓大流