CHI660電化學(xué)工作站使用說(shuō)明

1、CHI660電化學(xué)工作站使用說(shuō)明介紹人：肖輝同學(xué)儀器硬件指標(biāo)與使用注意事項(xiàng)n控制電位：10Vn電流：250mAn2、3、4電極體系n參比電極輸入阻抗：1012n電位分辨率：0.1mVn靈敏度：0.11012A/V共34檔n測(cè)量范圍：測(cè)量范圍：10靈敏度靈敏度n電流測(cè)量下線：50pAn工作環(huán)境：1530，相對(duì)濕度080%注意：工作時(shí)紅夾頭和綠夾頭不能直接連接將文件數(shù)據(jù)列表轉(zhuǎn)換成文本文件設(shè)置文本文件格式導(dǎo)入文本文件系統(tǒng)設(shè)置通信口設(shè)置通信速度電化學(xué)技術(shù)簡(jiǎn)介循環(huán)伏安法（循環(huán)伏安法（Cyclic Voltammetry）下圖是CV 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖對(duì)應(yīng)的參數(shù)設(shè)定輸出的是I-V曲線線性掃描伏安法

2、（線性掃描伏安法（Linear Sweep Voltammetry）下圖是LSV 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖對(duì)應(yīng)的參數(shù)設(shè)定輸出的是I-V曲線Staircase Voltammetry下圖是SCV 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖對(duì)應(yīng)的參數(shù)設(shè)定輸出的是I-V曲線Tafel Plot下圖是TAFEL 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖對(duì)應(yīng)的參數(shù)設(shè)定輸出的是log（I）-V曲線計(jì)時(shí)電流法計(jì)時(shí)電流法（Chronoamperometry）下圖是CA 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖對(duì)應(yīng)的參數(shù)設(shè)定輸出的是I-t曲線計(jì)時(shí)電量法（計(jì)時(shí)電量法（Chronocoulometry）下圖是CC 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖對(duì)應(yīng)的參數(shù)設(shè)定輸

3、出的是通過(guò)電極的電量通過(guò)電極的電量-t曲線A.C. Voltammetry下圖是ACV 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖輸出的是I-V曲線交流阻抗（交流阻抗（A.C. Impedance）下圖是IMP 技術(shù)的輸出電壓隨時(shí)間變化圖 電化學(xué)暫態(tài)技術(shù)的一種。常用的是正弦波交流阻抗技術(shù)?？刂齐姌O電流（或電極電勢(shì)）使按正弦波規(guī)律隨時(shí)間小幅度變化，同時(shí)測(cè)量作為其響應(yīng)的電極電勢(shì)（或電流）隨時(shí)間的變化規(guī)律。這一響應(yīng)經(jīng)常以直接測(cè)得的電極系統(tǒng)的交流阻抗Z或?qū)Ъ{Y來(lái)代替。電極阻抗一般用復(fù)數(shù)表示,即ZZ-jZ （或YY-jY）,虛部常是電容性的,因此Z 前用負(fù)號(hào)。 電位溶出分析電位溶出分析Potentiometric St

4、ripping Analysis輸出電位時(shí)間關(guān)系A(chǔ)mperometric i-t CurveSample Interval選擇應(yīng)根據(jù)試驗(yàn)時(shí)間來(lái)選擇，不過(guò)Sample Interval越長(zhǎng)，噪聲越少。輸出：I-t曲線電化學(xué)噪聲測(cè)量電化學(xué)噪聲測(cè)量Electrochemical Noise Measurement 在電化學(xué)噪聲測(cè)量中，沒(méi)有內(nèi)部輸出信號(hào)，也不使用對(duì)電極。在測(cè)量時(shí)，將工作電極（綠夾頭）浸到溶液中，同時(shí)在將另一個(gè)電極一頭浸到溶液中一頭接地。如果要測(cè)噪聲電勢(shì)，則可把參比電極也加入溶液中。電勢(shì)增益Open Circuit Potential - Time(OCPT)實(shí)驗(yàn)中，不接對(duì)電極，將工作電極和參比電極接在一起?？刂撇藛谓榻B實(shí)驗(yàn)條件控制反復(fù)運(yùn)行實(shí)驗(yàn)設(shè)置可測(cè)量開(kāi)路電壓IR降補(bǔ)償濾波器設(shè)定電解池控制產(chǎn)生個(gè)階躍信號(hào)，但不數(shù)據(jù)采集和顯示溶出伏安法，設(shè)定后電沉積步驟會(huì)加在普通伏安法步驟