磁控濺射設備說明書綜述

1、中國科學院沈b國科學儀器胡制m陽有b艮公司SKYTechnologyDevelopmentCo.Xtd-ChineaeAcademyofSciences國家真空儀器裝工程技術胡夯由叫StateEnginvwingResvarchCenterofVacuumInrtrumvntandDevice聲明:感謝您購買中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司（以下簡稱沈陽科儀公司）的設備，請您在使用該設備之前認真閱讀本說明書，當您拿到該說明書時，請認真閱讀以下聲明。如不接受本聲明，請立即與本公司聯(lián)系，否則視為全部接受本聲明。1 .本說明書所有內容，未經(jīng)沈陽科儀公司書面同意，任何人均不得以任何方式（復制、掃描、

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3、序；保護知識產(chǎn)權從你我做起！人人應該做到這樣！、"44刖百：首先感謝購買我們的設備，本著對您負責的精神，并為了確保給您提供最優(yōu)質的售后服務，特別為您準備了本手冊，請您耐心讀取相關信息。您的義務請您在使用過程中，將發(fā)生故障的操作步驟填寫在用戶反饋問題清單中,我們將參考此表內容盡我們最大的能力在最短的時間內完成維修。如何使用本手冊如果您是初次使用該設備，那么您需要通讀用戶手冊。如果您是一位有經(jīng)驗的用戶，則可以通過目錄查找相關信息。本手冊涉及的字體及符號說明：/字體的大小直接反應父、子關系，符號說明見下表：符號指示性說明IT1描述性說也一沒有先后順序之分Pl比和高一級目錄詳細描述性說明需F

4、先后順序之分-1有先后順序之分提示性說明有利于深刻認識系統(tǒng)，并且可以避免不必要的故障發(fā)生警告性說明必須嚴格遵守的內容，否則會發(fā)生嚴重事故目錄緒言1一、系統(tǒng)簡介11、概述12、工作原理以及技術指標2工作原理：2.技術指標：2.3、系統(tǒng)主要組成3濺射真空室組件：3.上蓋組件：4.真空獲得和工作氣路組件：5'幺,£.安裝機臺架組件：.r7.4、設備安裝,.r.7安裝尺寸：|F.7.配套設施：町.7.二、系統(tǒng)主要機械機構簡介81、磁控MM靶組件.SIFT82、單基片加熱臺組件93、基片加熱公自轉臺組件104、基片擋板組件11三、操作規(guī)程:11磁控濺射沉積系統(tǒng)1、開機前準備工作112、

5、開機（大氣狀態(tài)下泵抽真空）12啟動總電源：1.2大氣狀態(tài)下濺射室泵抽真空:1.23、濺射室處于真空狀態(tài)時抽真空：134、工作流程：13裝入樣品：1.3磁控濺射鍍膜：1.4I5、靶材的取出和更換:156、停機：16V四、電源及控制16分類：17供電要求：17使用說明工*.18電控單元使用說明：*19五、注意事項201、安全用電操作注意事項HF7.202、操作注意事項:21六、常見故障及排除22七、緊急狀況應對方法231、突然斷電232、突然斷水243、出現(xiàn)嚴重漏氣24八、用戶反饋問題清單25九、維護與維修263緒言磁控濺射沉積系統(tǒng)是高真空多功能磁控濺射鍍膜設備。它可用于在高真空背景下，充入高純敏

6、氣，采用磁控濺射方式制備各種金屬膜、介質膜、半導體膜，而且又可以較好地濺射鐵磁材料（Fe、Co、Ni）,制備磁性薄膜。在鍍膜工藝條件下，采用微機控制樣品轉盤和靶擋板，既可以制備單層膜，又可以制備各種多層膜，為新材料和薄膜科學研究領域提供了十分理想的研制手段。一、系統(tǒng)簡介本系統(tǒng)主要由濺射真空室、磁控濺射靶、單基片加熱樣磁臺、基片加熱K自轉臺組件、基片擋板組件、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機臺、真空測量及電控系統(tǒng)等部分組成。附設備總圖如下。磁控濺射沉積系統(tǒng)磁控濺射鍍膜的基本原理是以磁場改變電子運碼城j,束縛和延長E子的運動路徑，提高電子的電離概率和有效地利用0f的能量。因此，了在形成高密度等離子的異常

7、輝光放電中，正離子對靶材轟擊所引起的靶更加有效。技術指標:極限真空度（Pa）（經(jīng)烘烤除氣后）系統(tǒng)真空檢漏漏率（Pa.L/S）系統(tǒng)經(jīng)大氣抽氣，40分鐘可以達到（Pa）停泵關機12小時后真空度（Pa）濺射室-54.0義10-75X10-46.6義10<1Pa3、系統(tǒng)主要組成濺射真空室組件:圓筒型真空室尺寸450X350mm電動上掀蓋結構，可內烘煨100150C,選用不銹鋼材料制造，氮弧焊接，表面進行化學拋光處理，接口采用金屬墊圈密riHr封或氟橡膠圈密封。真空室組件上焊有各種規(guī)格的法蘭接口如下:序號接口大小X接口密封方式數(shù)量萬部件名稱1.1CF100無氧銅圈-1觀察窗口1.21CF63無氧銅

8、圈1觀察1.3CF16無氧銅圈進氣管路和放氣閥1.4CF150無氧銅圈1（600升/秒）分子泵1.5CF100無氧銅圈33個磁控濺射靶接口1.6CF35無氧銅圈61個高真空電離規(guī)管1個旁抽角閥3磁控濺射沉積系統(tǒng)1個四芯陶封引線法蘭接口3個備用口1.7RF25氟橡膠圈1基片擋板組件接口1.8CF16無氧銅圈11個備用接口1.9CF16無氧銅圈1電阻規(guī)接口上蓋組件:助上蓋升降時定位的擋片。上蓋組件上可以安裝電動提升傅構組件，中加裝單基片加熱樣品臺。28真空獲得和工作氣路組件:濺射真空室選用分子泵T+機械泵R通過一個超高真空閘板閥G主抽，并riv4v通過一個旁抽角閥V1進行旁路抽氣；通過兩路MFO量

9、流量控制器充工作氣體，）Jjm!每路配有角閥V5、V6,配有混氣室，還可以不走混氣室從角閥V2單獨進氣。JMfc流量范圍：一路200SCCM一路100SCCM通過V4閥充入無松氣放氣。代號名稱聯(lián)接方式安裝位置N用途Mr廠家V1CF35角閥雙刀口濺射真空翔。壁、氣沈科儀V2、V3Dg16角閥一刀一濺射真空室側壁r充入工作氣體沈科儀V4Dg16角閥一刀一濺射真空室彳放氣/充干燥氮氣沈科儀V5、V6Dg16角閥雙卡套的氣路面板上充氣七星華創(chuàng)GCC-150-B超高真空閘板閥雙刀濺射真空室側面伸出的彎管上主抽閥沈科儀T分子泵（抽速600L/S）CF150刀口主抽泵北京科儀安裝機臺架組件:采用優(yōu)質方鋼型材

10、(50mmX50mmX4mm)焊接成，前面和兩側面安裝快卸圍板，表面噴塑處理；機臺表面用不銹鋼蒙皮裝飾；底面安裝四只腳輪，可固定?？梢苿?；安裝機架尺寸：L1115XW860XH1000mm,。4、設備安裝；飛安裝尺寸：將設備安裝機架移到指定位置，擰動腳輪升降，調節(jié)機，Kw置。安裝機架平面尺寸：L1115XW1000mm(包括伸出的閘板KM),電控柜平面尺寸：610X650mmi義2臺。配套設施：整機配電要求：接三相電源380V±6%50Hz,三火線一零線，功率15KW配置多路接線插座。聯(lián)接地線要求：本設備需要配備良好的接地，對地電阻2歐姆。接冷卻水系統(tǒng)，具有民用自來水或循環(huán)冷卻水，水

11、溫25C,水壓2.5X105Pa,流量達到12L/min,及回水通道。各水路均安裝水流控制器，發(fā)生斷水時將自動切斷設備總電源。安裝場地面積25W，高度要求高于2.4m。要求安裝場地的標準溫度為2024C,標準相對濕度為50%60%。要求有普通氮氣，工作氣體，壓強要在23個大氣壓之間。要求有外排廢氣管道。!注意：接通電源后，首先確認機械泵旋轉方向，如果發(fā)現(xiàn)反轉，則應調相?？谝籌f二、系統(tǒng)主要機械機構簡介1、磁控濺射靶組件、磁控濺射靶組件主所件包括靶頭、可折彎靶支桿、CF100無氧銅圈密封的靶法蘭、齒輪減速異步電動機帶動的靶擋板系統(tǒng)和螺旋升降機構等組成。濺射真空室采用多靶濺射結構，靶在下，基片在上

12、，向上濺射成膜，濺射真空室下底盤上有三個靶位；靶材尺寸小60mm（其中一個可以濺射磁性材料）；永磁靶RF、DC兼容；靶內有水冷（每個靶單獨水路冷卻）；三個靶可共同折向上面的樣品中心，靶與樣品距離90110mmT調；每個靶配有單獨的屏蔽罩，以避免靶間交叉污染（非共濺時安裝使用）；每個靶配有單獨的電動擋板，計算機控制擋板開合。!提示：以后磁控靶需要寄給我們進行維修時，靶頭和支桿可以直接從真空室內拆下，不用拆卸靶法蘭部分。拆卸前請事先聯(lián)系設計人員，我們會提供一個盲堵，保證您其余的工作不受影響。2、單基片加熱臺組件單基片加熱臺組件安裝在真空室上蓋組件上，可以放置直徑Q為0mm勺基片?；訜嶙罡邷囟?

13、00c±1C,由熱電彳刎環(huán)反饋控制?！边M電機帶動下,實現(xiàn)連續(xù)回轉，轉速510轉/分，配有手動控制擋，算片可加負偏壓-200V。3、基片加熱公自轉臺組件基片加熱公自轉臺組件安裝在真空室上蓋組件上育癡上可以同日展置6個基片，可放置50mm的基片。六個工位中,中兩個工位安爐（切換加熱），基片加熱最高溫度600c±1：由熱電偶閉環(huán)反!ij。在伺服電機+減速器+同步帶帶輪傳動機構帶動下，實現(xiàn)03600公轉（當拆掉加熱爐后可連續(xù)回轉），并通過光柵編碼器機構實現(xiàn)基而i定位，計算機控制公轉到位及鍍膜過程。基片行加負偏壓二200V。4、基片擋板組件基片擋板組件的擋板上開一個孔，對準一個基片，

14、該基片擋板與基片加熱公自轉臺組件都用計算機控制轉動，僅對一片基片在不同靶位下濺射鍍膜。該國藝完成后，可計算機控制轉至第二片基片繼續(xù)鍍膜。當;需要共啰時，需該基片擋板組件的上半部分即可，不用全部拆下。三、操作規(guī)程：1、開機前準備工作.1t開動水閥，接通冷卻水，檢查水壓是否足夠大，水壓控制器是否起作用，保護各水路暢通。檢查總供電電源配線是否完好，地線是否接好，所有儀表電源開關全部處于關閉狀態(tài)。檢查分子泵、機械泵油是否標注到刻線處，如沒有達到刻線標記應及時加油。檢查系統(tǒng)所有閥門是否全部處于關閉狀態(tài)，確定濺射室完全處在抽真空前為封閉狀態(tài)。2、開機（大氣狀態(tài)下泵抽真空）啟動總電源：確認所有電源開關都在關

15、閉狀態(tài)后，按下總電源開關，此時電源三相指示燈全亮，供電正常!提示：如果電源三相指示燈沒有全亮，應檢查供電電源是否缺相。在確認電源正常之后方可進行下一步工作。大氣狀態(tài)下濺射室泵抽真空： 打開旁抽閥vi 啟動機械泵r按下機械泵R開關，機械泵指示燈亮，此時機械泵工小，再打開分子Rt口處的電磁閥DF開關，指示燈亮，打開復合計，測量真空。（復合真空計居DF-5227使用詳見說明書） 啟動分子泵T（FF-160/620C）先打開分子泵T電源開關，當其空計顯示的真空度高于20Pa時，關閉旁抽閥V1,并迅速打開閘板閥G然后打開分子泵啟動JBT其加速指示燈亮，電源控制面板上顯示頻率，分子泵開始正常工作，）8分鐘

16、，加速指示燈滅，正常燈亮，頻率顯示為600時，分子泵作狀態(tài)。再用分子泵連續(xù)抽氣，經(jīng)烘一一烤后，磁控濺射室的真空仗可達到極限真空度4X10-5Pa指標。!提示:設備中的閘板閥設有開關指示功能，閘板閥門開關時手感輕松，在閥門關閉時可聽到一聲響動，同時力量減小、有明顯的空程，這時閥門已經(jīng)關閉到位，不要繼續(xù)硬性旋動手柄,以免閥門傳動機構受到損壞。開啟時也有一聲響動，行程指示到位后閥門也開啟到位。!警告: i=rI_I閥門開啟前，必須平衡閥門兩側的壓力（閥門兩側必須同時是真空或大氣）閥板兩側壓力差必須小于3000Pa,如果壓力大于3000Pa硬性開啟閥門會造成密封圈及傳動機構的損壞，造成閥門無法使用（此

17、項要特別注意，閥門開啟時一定要注意觀察閥門兩側的壓差）。在閥門使用過程中如發(fā)現(xiàn)異樣的聲音或者開關閥門時力量異常，首先應該觀察閥門前后真空系統(tǒng)的壓力是否平衡，如果有壓差必須停止強行開啟，待壓力平衡后再進行開啟，以免損壞機構。3、濺射室處于真空狀態(tài)時抽真空：首先,打開復合真空計觀察系統(tǒng)真空度.如果長時間的（io天以上）未開機,i空度高于3040Pa,這時應該按上面所說的濺射室泵抽真空中的操作步驟進行系-i統(tǒng)抽氣；如果真空度在35Pa時，即可直接開啟閘板閥G然后依次牙心機械泵，錄電磁閥DF、分子泵T,進行系統(tǒng)抽真空，待真空度達到實驗濺射室要求的本底真空即可。JU4、工作流程：裝入樣品：濺射室暴露大氣

18、：關閉閘板閥G,確認旁抽閥所和角閥V2、V3處于關閉狀態(tài)，然后打開放氣閥V4,向濺射室內充入干燥氮氣。裝入樣品：濺射室內氮氣壓力平衡后即可利用升降機提升濺射室上蓋，靶基距調到合理值，然后將清洗好的樣品放入襯底托內，將其放入樣品轉臺內，然后再將濺射室上蓋落下，關閉放氣閥V4,對濺射室泵抽真空（按前面所說的步驟進行操作）至實驗要求的本底真空度。磁控濺射鍍膜: 待本底真空達到本次實驗所預期要求后，稍關閉閘板閥G（不要關死），用真空計監(jiān)測真空度。 向濺射室充氣：充氣前將氣瓶關死，打開VSV6,緩慢打開V&打開質量流量計電源，預熱3分鐘，將質量流量計打到清洗擋，抽空氣路后關閉各閥，將質量流量計打

19、到關閉擋；緩慢打開進氣截止閥V2,此時抽取管路中的氣體，達到預期真空后，關閉這些截止閥，進行充氣工作。若所充氣體需經(jīng)混氣后進入真空室，則打開V3及機架前面板上的進氣閥V5或V6（根據(jù)需要選擇）；若需單路直接進氣，則打開V2。然后打開MFC質量流量計電源，通過流量計充入工作氣體。通過適當調節(jié)閘板閥G關閉的大小來調節(jié)濺射工作壓強。小注：打開質量流量計電源，在MFCS量流量計電源的閥開關處于“關閉”位;將設定流量調到零，再開氣瓶給氣，待零點穩(wěn)定后，轉“閥控”阿，并將流，（I至所需值，則實際流量跟蹤設定值而改變。關閉質量流量計時，將閥開關置于“關閉”-泣，再將修源開關關閉a。!提示：充氣過程中需用真空

20、計監(jiān)測真空度不低于20Pa射頻濺射：起輝壓強：在設定進氣量恒定情況下，.調節(jié)閘板閥Gd!室真空度維持在0.410Pa,可保證磁控靶正常起輝；濺射工作壓強：根據(jù)工藝需要，適當調節(jié)mFC%氣量，使濺射室真空度維持在0.5Pa以下，此時磁控靶應能穩(wěn)定工作血弧。射頻電源可切換對應靶，可現(xiàn)場根據(jù)要求設置控制各個靶接射頻電源。射頻電源和匹配器的使用詳見射頻電源使用說明書 直流濺射：直流電源有兩臺可根據(jù)要求切換對應靶。（詳見直流濺射電源使用說明書） 計算機控制鍍膜：通過程序控制，使樣品按所設定模式進行工作，鍍制單層膜或多層膜，鍍多層膜的靶位可任意組合，在每個靶下停留時間任意設置。程序運行結束后將自動保存結束

21、前的狀態(tài)，并保存計算機文件中，下次運行時，這些狀態(tài)將自動讀入以恢復以前狀態(tài)，所以在程序未運行期間，不建議使用手動操作轉盤，以免再次運行時造成樣品位置錯誤。停止濺射鍍膜: 首先關閉基片擋板，再關上各磁控靶擋板，通過計算機關閉步進電機電源，再關閉計算機電源。 關閉射頻、直流和勵磁電源，關閉MFCM量流量計電源。 關閉濺射室進氣截止閥V2、V&VSV6,全開I、板閥G,使濺射室用分子泵T直接抽氣，進入高真空狀態(tài)。使用ZDF-5227監(jiān)測濺射室真空度，進入10-4Pa或0-5Pa。1 取出樣品：，鍍膜完成后，將閘板閥G關閉，再將電離規(guī)關閉。然后打開接鋼瓶的放氣閥V4,向濺射室充入干燥氮氣。電動

22、提升真空室上蓋，戴上潔凈手套，從樣品臺上JrmHiijjflH取出鍍好的樣品。之后，馬上裝入新的樣品，重復上述各項工作。j5、靶材的取出和更換:濺射室可以在停分子泵暴露大氣的情況3出或更換靶材，?？梢栽诜肿颖霉ぷ鞯臅r候操作。在分子泵工作的時候更換靶材步驟如下： 在分子泵T單獨對濺射室抽氣工作時，先而次閥G關閉，檢查V2、V3是否處于關閉狀態(tài)。然后關閉真空計閥V4使濺射室充入大氣（最好充入干燥氮氣）； 當濺射室內氮氣壓力與大氣壓力平衡后，使用升降機將濺射室的上蓋提起，之后拆下基片樣品擋板，電動打開需要更換靶材的靶擋板，擰下靶屏蔽蓋，并卸下靶壓蓋，即可對真空室內的靶材進行取出或更換，然后再將靶壓蓋

23、及靶屏蔽蓋裝上，結束后再用升降機將上蓋落下；!提示：靶屏蔽蓋和靶材之間的距離建議控制在23mm之間。如發(fā)現(xiàn)上蓋壓偏，需要重新升起上蓋，找正后再落下。 參照前面濺射室泵抽真空的步驟，對系統(tǒng)抽真空，重復前面所做的工作流程6、停機: 首先，關閉系統(tǒng)內所有閥門，尤其注意關閉閘板閥G和旁抽閥V1,進氣閥V2、V3,放氣閥V4,使系統(tǒng)保持真空。 其次，關閉各路電源，先關各路儀表電源，然后關分子泵T電源，當頻率數(shù)顯為“200”以下后關閉電磁閥DF,關閉機械泵R,最后關閉總電源及所有水路。!提示:實驗完成后，如果真空室內非常熱，這時，要通過分子泵對系統(tǒng)進行較長的時間抽氣，等到系統(tǒng)內部溫度降到100c左右時才能

24、關閉系統(tǒng)。四、電源及控制分類:真空測量部分：真空計：復合真空計供電電源真空獲得部分：控制電源分子泵電源供電電源材料制備部分包括:流量顯示儀加熱控溫電源直流電源直流電源偏壓電源射頻電源樣品轉動控制電源靶擋板控制電源供電電源供電電源供電要求:真空獲得李分與濺射鍍膜部分供電需3相380V(50Hz)工業(yè)動力電，總功率約15KW供電要求分為以下六部分:供電電源(1)_22.5mmX 3電壓：3相380V(50Hz)容量：7.5KVA要求：由3P20A空氣開關供電，連接電纜采用四芯橡套:+1.5mm<1（空氣開關采用工業(yè)用動力型，以下均同樣要求，從略。）供電電源（2）:電壓：3相380V（50Hz

25、）容量：7.5KVA要求：由3P20A空氣開關供電，連接電纜采用四芯橡套：2.5mn2X3+15mnmx1使用說明注意事項：設備操作人員必須高度重視電氣安全問題，嚴格遵守用電安全規(guī)程，防止電氣事故造成人身傷害或設備損壞。嚴禁帶電拆卸接線端子、焊片、接插件等電氣連接件！嚴禁帶電打開電源機箱，接觸任何電器元件！禁止無電氣技術資格和相關經(jīng)驗者從事本說明書允許的故障排除工作。設備必須可靠接地。本系統(tǒng)中所有設備裝置的金用萍殼都應可厘地（包括主機真空設備及電源機柜）。各部會出空裝置按要環(huán)行單閘（空氣開關）供電，不允許一閘多用經(jīng)常對設備進行安全檢查，確保電邸元絕緣良好，的接地或接零保護，檢查有無漏電'

26、;絕緣老化情況；亍電氣設備和保護裝置的檢查、.檢修、試驗及清掃，防設備電氣事故和誤使用前的準備和檢查按照本說明書的“供電要求”，可靠連接各部分電控裝置，將各部分裝置及主機外殼可靠接“地”。檢查供電電源電壓、容量是否符合要求，有無缺相等故障。檢查電控裝置與主機設備的電氣連接，確保連接正確可靠。檢查有無漏電、絕緣老化情況。檢查各部分電控單元的開關狀態(tài)，應能正常工作，并均設置為初始狀態(tài);檢查各電源負載是否產(chǎn)生短路或斷路，所有電控單元應能正常工作。電控單元使用說明:真空計:系統(tǒng)采用ZD15227型數(shù)顯復合真空計測量真空室的真空度，量程1xio5Pa1X105Pa。真空計由供電電源（1）提供AC220V

27、電源插座供電，具體使用方法及注意事項詳見“附件”中的（ZD15227型數(shù)顯復合真空計）使用說明書?？刂齐娫矗涸撾娫礊檎婵斋@得控制電源的主要單元：控制如下單元：機械泵：控制機械泵的啟動和停止，按鈕“開”按下燈:亮，繼電器吸合，機械泵工作；按鈕“關”按下燈火；繼電器陶F,機械泵停止工作；,JSf電磁閥：控制電磁閥的啟動和停止，按鈕境卡燈亮，繼電合，電磁閥工作；照明：控制照明的啟動和停止，按鈕按下燈亮，繼!即吸合，照明工作；烘烤：控制烘烤的啟動和停止，按亮，繼電器吸合，烘烤工作，旋轉功率調節(jié)旋鈕可烤功率；上蓋開、降：報同，h蓋的升降,按下“升”或將“降”后，真空室蓋即上升或下降；松開按鈕，真空室蓋停

28、止升降；到達限位位置，真空室蓋同樣停止升降。_提示控制電源照明、烘烤按鈕均為帶鎖按鈕，按下后自鎖，動作后指示燈亮。再按按鈕，按紐抬起時，工作停止。烘烤按鈕按下后，調節(jié)烘烤旋鈕，烘烤燈逐漸加大功率。由供電電源通過雙頭四芯航插連接電纜提供3相380V電源提示輸出電纜必須按照接頭附近所做標記正確連接！加熱溫控電源：加熱溫控電源由日本公司生產(chǎn)的溫度控制器、移相觸發(fā)模塊、可控硅以及外電路構成。樣品加熱溫度可控需要控溫時首先接好控溫電源的電源線、輸出加熱線和熱電偶的連接線。連接時，要注意熱電偶的正負極。按照控溫表說明書將控溫表的各項指標設置好，然后按相應的按鈕開關“加熱”，控溫電源開始工作。順時針調節(jié)“功

29、率限制”電位器旋鈕，使加熱爐正常升溫。當溫度升到控溫表所設定的溫度時，由系統(tǒng)控制加熱爐開始恒溫。當試驗作完后，將“功率限制”電位器旋鈕反時針調到“0”，然后按按鈕開關“停止”，控溫電源停止工作。靶檔板控制電源：打開電源開關，按一下相應的靶檔板“開”按鈕，可打開檔板，按一下“關”按鈕可關閉檔板。分子泵電源FF160/620型（北京科儀）分子泵的驅動控制電源，具有海和過熱保M1、安全用電操作注意事項設備操作人員必須高度重視電氣安全問題，嚴格遵守用電安全規(guī)程，防止電氣事故造成人身傷害！使用動力電時，應先檢查電源開關、電機和設備各部份是否良好。如有故障,應先排除后，方可接通電源。啟動或關閉電器設備時，

30、必須將開關扣嚴或拉妥，防止似接非接狀況。人員較長時間離開房間或電源中斷時，要切斷電源開關，尤其是要注意切斷加熱電器設備的電源開關。電源或電器設備的保險燒斷時，應先查明燒斷原因，排除故障后，再按原負荷選用適宜的保險絲進行更換，不得隨意加大或用其它金屬線代用。沒有掌握電器安全操作的人員不得擅自更改電器設施，或隨意拆修電器設備。若要打開電源柜后蓋，必須先斷開設備總控電源。!必須注意：檢修設備務必事先斷開所有電氣設備的電源！.2、操作注意事項：磁控靶、分子泵工作時，-定要通水冷卻。,在使用機械泵旁抽前保證分子泵口與電磁閥處于關閉狀態(tài)，特別是分子產(chǎn)停真空室暴露大氣后粗抽時，否則大氣從分子泵排氣口進入泵體

31、，急劇加大負載，損壞泵。二：A打開機械泵抽大氣時，旁抽閥要緩慢一打開，且抽氣嵋聞不要過長，10多帕時開分子泵，否則容易造成油污染。系統(tǒng)由大氣抽到低真空的過程中禁止開雅燈和照明燈。濺射室烘烤時，真空室壁面及觀察窗溫度不得超過100。在室體內濺射完畢或加熱爐工作完畢之后，樣品冷卻，真空室內溫度060C以下時再暴露大氣。濺射室暴露大氣前一定要關緊IB以免損壞分子泵，同時要關緊氣路截止閥，以免氣路受污更。當上蓋處于打開狀態(tài)時，要時刻注意保護真空室上端密封面。在取出或更換樣品、靶材時，要注意真空室的清潔；同時要保證屏蔽罩與靶材之間的距離小于3mm嚴禁閘板閥一端是大氣一端是真空的條件下打開閘板閥。突然停電

32、時，所有電源要復位，過5-7分鐘后，才能重新啟動分子泵。六、常見故障及排除故障現(xiàn)象可能的原因排除方法“供電電源”無法接通電源供電線路故障，缺相或電壓偏低或相序錯誤由供電部門查找原因，排除故障真空抽上不去緊固件沒擰緊擰緊緊固件（可使用酒精判斷有漏的法蘭連接處）快卸接口密封面處有雜物擦拭密封面真空腔內有灰塵和水蒸氣先清洗真空室，再烘烤電極法蘭密封不嚴和我們聯(lián)系，更換新的電極法蘭密封膠圈老化更換新的膠圈U靶頭里的聚四氟絕緣件受熱變形和我們聯(lián)系更換新的絕緣件L前級真空抽不上去前級管道及電磁閥的泄露檢漏后如果有泄露，更換機械泵是否油不夠或油質變劣.要定期查看油標，及時加注或更換新jflF、油。分子泵白嫌

33、標也要定期檢查彩勺半年時間婕次）已經(jīng)給水，但水流繼電器仍舊報警水流繼電器未動作/夕屏:水流水流繼電器壞,IK磁控靶水路有堵塞先確認是管堵塞，否則需要頭清理內部水路閘板閥打不開3閥板兩側壓力差3.0x10Pa衡兩側壓力后打開密封面有污物附著用無塵布將污物清洗干凈密封面有劃費一用拋光紙拋光閘板閥密封不良密封面膠圈磨損更換新閥板（與生產(chǎn)廠家聯(lián)系）波紋管損壞更換波紋管或補焊（與生產(chǎn)廠家聯(lián)系）閥殼受拉1.2xl05Pa調節(jié)閥殼兩側法蘭的間隙閘板閥閥門關閉時力量大或無法閥殼受拉1.2xl05Pa調節(jié)閥殼兩側法蘭的間隙關閉數(shù)字信號出現(xiàn)干擾地線接觸不良好良好接地分子泵正常啟動后，電離規(guī)不啟動電離規(guī)損壞更換熱偶

34、值還沒有達到1xl0-2Pa手動打開“電離”按鈕確認真空達到1xi0-2Pa,然后調節(jié)熱偶值。轉動件轉動不靈活軸承內有雜物拆卸后用超聲波清洗電機電源線連接松動緊固電源線接頭加熱絲引線、陶瓷管、照明烘烤燈引線陶瓷管或測溫熱偶陶瓷管易被鍍膜，表面金屬化，以至不起絕緣作用長期鍍膜此時應在暴露大氣時卸下陶瓷管，放在卜盛有H2O2溶劑的燒杯中，用電爐加熱，煮沸3040分鐘即可。靶不起輝長時間使用或者過熱導致磁鋼退磁，和我們聯(lián)叁靶電源有故歸詳見別源使用說明書更換了靶材,t強沒變.不同的靶材，起輝壓畀盡相同使用新靶材時出現(xiàn)輝光不穩(wěn)定，有打火現(xiàn)象出現(xiàn)正?，F(xiàn)象，由于新靶材表面律桀物或氧化物層（非導體）造成的等到

35、污染七物層完全剝離掉后即可作，建議安裝前清洗靶材其他未列出故障現(xiàn)象發(fā)生時，請及時填寫在“顧客反饋稀"”頁中，并與我們聯(lián)系!真空計、分子泵等常原好時除方法詳見其說明書。七、緊急狀況應對方法1、突然斷電首先關閉進氣閥和氣源及旁抽管道（如果此時用旁抽）及時手動關閉閘板閥，保持真空狀態(tài)關掉總供電電源和其他電源將各電源操作按鈕撥回到初始位置，保證設備下次實驗的正常啟動和運行2、突然斷水本設備主要采用冷卻水冷卻分子泵，冷卻水的通斷由水流繼電器控制，并且在總供電電源中設置了斷水報警保護，如果遇到突然斷水的情況，設備會自動鳴笛報警。3、由現(xiàn)嚴重漏氣.首先實驗室應該保證空氣流動暢通的環(huán)境，具備排氣及尾氣處理設施。一旦出現(xiàn)嚴重漏氣的情況時，請及時關掉氣源，打開排氣設施。如果工作氣體中含有與空氣結合易燃易爆的氣體，還應該遠離明火。如果工作氣體中含有對人身體有毒有害氣體，所有人員應立即撤離，報請專業(yè)人員處理。一般情況下，發(fā)現(xiàn)設備有漏氣現(xiàn)象時，及時關閉各控制臉，并且保雇統(tǒng)原有真空狀態(tài)。停止分子泵和機械泵對系統(tǒng)抽真剪檢查漏氣點r八、用戶反饋問題清單中國科學院沈陽科學儀器