年產(chǎn)10000噸超凈高純?cè)噭╉?xiàng)目建議書-最新

1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上發(fā)展超大規(guī)模集成電路用超凈高純?cè)噭┑捻?xiàng)目（一） 項(xiàng)目介紹1.超凈高純?cè)噭┪㈦娮蛹夹g(shù)的支柱微電子技術(shù)主要是指用于半導(dǎo)體器件和集成電路(IC)微細(xì)加工制作的一系列蝕刻和處理技術(shù),其中集成電路,特別是大規(guī)模及超大規(guī)模集成電路的微細(xì)加工技術(shù)又是微電子技術(shù)的核心,是電子信息產(chǎn)業(yè)最關(guān)鍵、最為重要的基礎(chǔ)。微電子技術(shù)發(fā)展的主要途徑之一是通過不斷縮小器件的特征尺寸,增加芯片的面積,以提高集成度和速度。自20世紀(jì)70年代后期至今,集成電路芯片的發(fā)展基本上遵循GordonEM預(yù)言的摩爾定律,即每隔1.5年集成度增加1倍,芯片的特征尺寸每3年縮小2倍,芯片面積增加約1.5倍,芯片中晶體管數(shù)增

2、加約4倍,也就是說大體上每3年就有一代新的IC產(chǎn)品問世。在國(guó)際上,1958年美國(guó)首先研制成功集成電路開始,尤其是20世紀(jì)70年代以來,集成電路微細(xì)加工技術(shù)進(jìn)入快速發(fā)展的時(shí)期,這期間相繼推出了4、16、256K;1、4、16、256M;1、1.3、1.4G的動(dòng)態(tài)存貯器。進(jìn)入20世紀(jì)90年代后期,IC的發(fā)展更迅速,競(jìng)爭(zhēng)更激烈。美國(guó)的Intel公司、AMD公司和日本的NEC公司這3個(gè)IC生產(chǎn)廠家的競(jìng)爭(zhēng)尤為激烈,1999年Intel公司、AMD公司均實(shí)現(xiàn)了0.25Lm技術(shù)的生產(chǎn)化,緊接著Intel公司在1999年底又實(shí)現(xiàn)了0.18Lm技術(shù)的生產(chǎn)化,AMD公司也在緊追不舍。到2001年上半年,Intel

3、公司實(shí)現(xiàn)了0.13Lm技術(shù)的生產(chǎn)化,而到2001年的2季度末,日本的NEC公司宣布突破了0.1Lm工藝技術(shù)的難關(guān),率先成功研發(fā)出0.095Lm的半導(dǎo)體工藝技術(shù),現(xiàn)已開始接受全球各地廠商的訂貨,并將于2001年的11月開始批量生產(chǎn)。因此,專家們認(rèn)為世界半導(dǎo)體工藝技術(shù)的發(fā)展將會(huì)加速,半導(dǎo)體制造廠商將會(huì)以更先進(jìn)的技術(shù)加快升級(jí)換代以適應(yīng)新的市場(chǎng)要求。超凈高純?cè)噭║ltra-clean and High-purity Reagents）在國(guó)際上通稱為工藝化學(xué)品（Process Chemicals），美歐和中國(guó)臺(tái)灣地區(qū)又稱濕化學(xué)品（Wet Chemicals），是超大規(guī)模集成電路（即俗稱的“芯片”）制作

4、過程中的關(guān)鍵性基礎(chǔ)化工材料之一，主要用于芯片的清洗、蝕刻，另外超凈高純?cè)噭┻€用于芯片摻雜和沉淀工藝。超凈高純?cè)噭┑募兌群蜐崈舳葘?duì)集成電路的成品率、電性能及可靠性均有十分重要的影響。超凈高純?cè)噭┚哂衅贩N多、用量大、技術(shù)要求高、貯存有效期短和腐蝕性強(qiáng)等特點(diǎn)，它基于微電子技術(shù)的發(fā)展而產(chǎn)生，一代IC 產(chǎn)品需要一代的超凈高純?cè)噭┡c之配套。它隨著微電子技術(shù)的發(fā)展而同步或超前發(fā)展，同時(shí)它又對(duì)微電子技術(shù)的發(fā)展起著制約作用。依照超凈高純?cè)噭┑挠猛?，可以將其劃分為光刻膠配套試劑、濕法蝕刻劑和濕法工藝試劑。如果依其性質(zhì)可以分為：無機(jī)酸類（如鹽酸、硝酸、硫酸、氫氟酸、磷酸等）、無機(jī)堿類（如氨水等）、有機(jī)溶劑類（如無水

5、乙醇、冰乙酸、三氯乙烯、丙酮等）和其他超凈高純?cè)噭ㄈ珉p氧水、氟化氫銨等）。有關(guān)資料顯示，超凈高純有機(jī)溶劑在半導(dǎo)體工業(yè)中的消耗比例大致占10-15%，其中有機(jī)類化學(xué)品的需求量在微電子化學(xué)品中占總體積的3%以上，市場(chǎng)需求量相當(dāng)可觀。在超凈高純?cè)噭┑陌l(fā)展方面，與微電子技術(shù)另一重要材料光刻膠相似，不同線寬的芯片必須使用不同規(guī)格的超凈高純?cè)噭┻M(jìn)行蝕刻和清洗。超凈高純?cè)噭┑馁|(zhì)量關(guān)鍵在于控制其所含的金屬離子的多少和試劑中塵埃顆粒的含量，對(duì)于線寬較小的超大規(guī)模集成電路，幾個(gè)金屬離子或灰塵就足以報(bào)廢整個(gè)電路。1975 年，國(guó)際半導(dǎo)體設(shè)備與材料組織（SEMI）制定了國(guó)際統(tǒng)一的超凈高純?cè)噭?biāo)準(zhǔn)，如表1 所示。目前

6、，國(guó)際上制備SEMI-C1 到SEMI-C12 級(jí)超凈高純?cè)噭┑募夹g(shù)都已經(jīng)趨于成熟。隨著集成電路制作要求的提高，對(duì)工藝中所需的液體化學(xué)品純度的要求也不斷提高。技術(shù)趨勢(shì)上看，滿足納米級(jí)集成電路加工需求是超凈高純?cè)噭┙窈蟀l(fā)展方向之一。表 1 工藝化學(xué)品SEMI 國(guó)際標(biāo)準(zhǔn)等級(jí)SEMI 標(biāo)準(zhǔn) C1（Grade1） C7（Grade2） C8（Grade3） C12（Grade4）金屬雜質(zhì)/ppb 1ppm 10 1 0.1控制粒徑/m 1.0 0.5 0.5 0.2顆粒/ 個(gè)/mL 25 25 5 *適應(yīng)IC 線寬范圍/m 1.2 0.81.2 0.20.6 0.090.2可以看出，超凈高純?cè)噭┲苽涞?/p>

7、關(guān)鍵在于控制并達(dá)到其所要求的雜質(zhì)含量和顆粒度。為使超凈高純?cè)噭┑馁|(zhì)量達(dá)到要求，需從多個(gè)方面同時(shí)予以保障，包括試劑的提純、包裝、供應(yīng)系統(tǒng)及分析方法等。目前，國(guó)際上普遍使用的提純工藝有十余種，它們適用于不同成分、不同要求的超凈高純?cè)噭┑纳a(chǎn)，例如，蒸餾、精餾、連續(xù)精餾、鹽熔精餾、共沸精餾、亞沸騰蒸餾、等溫蒸餾、減壓蒸餾、升華、化學(xué)處理、氣體吸收等。超凈高純?cè)噭┰谶\(yùn)輸過程中極易受污染，所以超凈高純?cè)噭┑陌b及供應(yīng)方式是超凈高純?cè)噭┦褂玫闹匾画h(huán)。特別是顆粒控制的相關(guān)技術(shù)，它貫穿于超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)、運(yùn)輸?shù)氖冀K，包括了環(huán)境控制、工藝控制、成品包裝控制等各個(gè)環(huán)節(jié)。2.國(guó)內(nèi)外超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)技術(shù)發(fā)展現(xiàn)狀國(guó)外

8、20世紀(jì)60年代便開始生產(chǎn)電子工業(yè)用試劑,并為微電子加工技術(shù)的發(fā)展而不斷開發(fā)新的產(chǎn)品。到目前為止,在國(guó)際上以德國(guó)E.Merck公司的產(chǎn)量及所占市場(chǎng)份額為最大,其次為美國(guó)Ashland、Olin公司及日本的關(guān)東株式會(huì)社,另外還有美國(guó)的MallinckradtBaker公司、英國(guó)的B.D.H.公司、前全蘇化學(xué)試劑和高純物質(zhì)研究所、三菱瓦斯化學(xué)、伊期曼化學(xué)公司、AlliedSig-nal公司、Chemtech公司、PVS化學(xué)品公司、日本化學(xué)工業(yè)公司及德山公司等。近年來,新加坡、臺(tái)灣地區(qū)也相繼建立了500010000t級(jí)的超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)基地。目前在國(guó)際上從事超凈高純?cè)噭┑难芯块_發(fā)及大規(guī)模生產(chǎn)的主要有

9、德國(guó)的E.Merck 公司（包括日本的Merck-Kanto 公司，占全球市場(chǎng)份額26.7%），美國(guó)的Ashland公司（市場(chǎng)份額25.7%）、Arch 公司（市場(chǎng)份額9.5%）、Mallinckradt Baker 公司（市場(chǎng)份額4.4%），日本的Wako（市場(chǎng)份額10.1%）、Sumitomo（市場(chǎng)份額7.1%），另外還有日本住友合成、德川、三菱，我國(guó)臺(tái)灣地區(qū)主要有臺(tái)灣Merck、長(zhǎng)春、中華、友發(fā)、長(zhǎng)新化學(xué)、臺(tái)硝股份及恒誼等，韓國(guó)主要有東友（DONGWOO FINECHEM）、東進(jìn)（DONGJIN SEMICHEM）、SAMYOUNG FINECHEM 等公司。在技術(shù)方面，美國(guó)、德國(guó)、日本

10、、韓國(guó)及我國(guó)臺(tái)灣地區(qū)目前已經(jīng)在大規(guī)模生產(chǎn)0.20.6m 技術(shù)用的超凈高純?cè)噭?，其中的過氧化氫、硫酸、異丙醇等主要品種一般在500010000 噸/年的規(guī)模，0.090.2m 技術(shù)用超凈高純?cè)噭┮惨淹瓿汕捌诘墓に囇芯坎⑿纬梢?guī)模生產(chǎn)，90nm 以下技術(shù)用工藝化學(xué)品也已完成技術(shù)研究，具備相應(yīng)的生產(chǎn)能力。國(guó)內(nèi)超凈高純?cè)噭┑难邪l(fā)水平及生產(chǎn)技術(shù)水平與國(guó)際上的先進(jìn)技術(shù)水平相比尚有一定的差距，目前5mIC 技術(shù)用MOS 級(jí)試劑的生產(chǎn)技術(shù)已經(jīng)成熟，并已轉(zhuǎn)化為規(guī)模生產(chǎn)。0.81.2m 技術(shù)用超凈高純?cè)噭ㄏ喈?dāng)于國(guó)際SEMI 標(biāo)準(zhǔn)C7 水平）的產(chǎn)業(yè)化技術(shù)基本成熟，初步形成生產(chǎn)規(guī)模。0.20.6m 技術(shù)用超凈高純?cè)噭?/p>

11、（相當(dāng)于國(guó)際SEMI標(biāo)準(zhǔn)C8 水平）的工藝制備技術(shù)及分析測(cè)試技術(shù)有所突破，但由于受相關(guān)配套條件的制約，產(chǎn)業(yè)化技術(shù)還有待進(jìn)一步的完善。部分產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化技術(shù)也將能夠形成規(guī)模化生產(chǎn)，相關(guān)分析測(cè)試方法的研究也有了較大的突破，但總體上仍然受支撐條件落后、配套設(shè)施基礎(chǔ)差等客觀因素的制約，關(guān)鍵的儀器設(shè)備包括容器等必須依賴進(jìn)口，超凈高純?cè)噭┕に囅冗M(jìn)技術(shù)如氣體吸收、離子交換、膜處理技術(shù)等的應(yīng)用要達(dá)到國(guó)外的先進(jìn)水平也有一定的差距，這也導(dǎo)致真正要實(shí)現(xiàn)超凈高純?cè)噭┑墓I(yè)化規(guī)模生產(chǎn)存在較大的差距。我國(guó)半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模在不斷擴(kuò)大，2006 年我國(guó)IC 市場(chǎng)已達(dá)4836 億元。20022006 年5 年間，平均增長(zhǎng)率33.6

12、%。目前國(guó)內(nèi)12 英寸（1 英寸=25.4 毫米）生產(chǎn)線2 條，8 英寸線10 條，占國(guó)內(nèi)47 條生產(chǎn)線總數(shù)的1/4，產(chǎn)能已占全國(guó)的60%，8 英寸以上高端生產(chǎn)線已開始成為國(guó)內(nèi)芯片制造業(yè)主體。按“十二五”計(jì)劃新建的生產(chǎn)線對(duì)于超凈高純?cè)噭┖挠昧繉⒂休^大幅度增長(zhǎng)。此外，隨著國(guó)內(nèi)平板顯示器（FPD）大發(fā)展，2007 上廣電NEC 產(chǎn)能將達(dá)到90K/月，京東方產(chǎn)能將達(dá)到85K/月，二廠、三廠建成后將達(dá)18 萬枚/月。FPD 工藝與VLSI 是類似的，需求的超凈高純?cè)噭┮惨獛兹f噸。在市場(chǎng)供應(yīng)方面，目前1.2mMOS 級(jí)超凈高純?cè)噭┮呀?jīng)全部實(shí)現(xiàn)國(guó)產(chǎn)化，在更高檔次的超凈高純?cè)噭┕?yīng)方面，目前絕大部分需要從其

13、他國(guó)家或地區(qū)進(jìn)口，SEMI標(biāo)準(zhǔn)C8 水平及以上檔次的產(chǎn)品則全部依賴進(jìn)口。進(jìn)口產(chǎn)品的主要來源有日本、韓國(guó)、美國(guó)等國(guó)家及我國(guó)的臺(tái)灣地區(qū)。表2 我國(guó)目前電子化學(xué)品進(jìn)口量和國(guó)產(chǎn)產(chǎn)品市場(chǎng)占有率產(chǎn)品 國(guó)產(chǎn)量 進(jìn)口量 國(guó)產(chǎn)產(chǎn)品市場(chǎng)占有率超凈高純?cè)噭?10819.0 噸 60353.8 噸 17.9%我國(guó)超凈高純?cè)噭┑难兄破鸩接?0世紀(jì)70年代中期,1980年由北京化學(xué)試劑研究所在國(guó)內(nèi)率先研制成功適合中小規(guī)模集成電路5m技術(shù)用的22種MOS級(jí)試劑。隨著集成電路集成度的不斷提高,對(duì)超凈高純?cè)噭┲械目扇苄噪s質(zhì)和固體顆粒的控制越來越嚴(yán),同時(shí)對(duì)生產(chǎn)環(huán)境、包裝方式及包裝材質(zhì)等提出了更高的要求。為了滿足我國(guó)集成電路發(fā)展的

14、需求,國(guó)家自“六五”開始至“八五”,將超凈高純?cè)噭┑难芯块_發(fā)列入了重點(diǎn)科技攻關(guān)計(jì)劃,并由北京化學(xué)試劑研究所承擔(dān)攻關(guān)任務(wù)。到目前為止,北京化學(xué)試劑研究所已相繼推出了BV-級(jí)、BV-級(jí)和BV-級(jí)超凈高純?cè)噭?其中BV-級(jí)超凈高純?cè)噭┻_(dá)到國(guó)際SEMI-C7標(biāo)準(zhǔn)的水平,適用于0.81.2Lm工藝技術(shù)(14M)的加工制作,并在“九五”末期形成了500t年的中試規(guī)模。目前北京化學(xué)試劑研究所正在進(jìn)行用于0.20.6Lm工藝技術(shù)的BV-級(jí)超凈高純?cè)噭┑难芯块_發(fā)。“十五”期間，國(guó)家科技部將“VLSI 用超凈高純?cè)噭┭芯俊闭n題列入了“863”超大規(guī)模集成電路配套材料重大專項(xiàng)計(jì)劃之中，由北京化學(xué)試劑研究所、上海華誼

15、（集團(tuán)）公司等單位承擔(dān)，其研究的主要目的是完成0.130.10m 技術(shù)ULSI 用超凈高純?cè)噭┑难芯颗c開發(fā)工作，此項(xiàng)目現(xiàn)已完成，關(guān)鍵品種的制備工藝已趨完善，配套支撐條件基本上可以滿足研發(fā)的要求，顆粒、金屬雜質(zhì)、陰離子及TOC 等分析測(cè)試方法的研究也取得了一系列成果，為“十二五”的產(chǎn)業(yè)化技術(shù)及更加深入的研究奠定了良好的技術(shù)基礎(chǔ)。上海華誼（集團(tuán)）公司為推進(jìn)“863” 課題研究開發(fā)工作，加快研究及產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程，于2003 年1 月組建了由華誼集團(tuán)公司、中遠(yuǎn)化工有限公司、三愛富新材料股份有限公司和上海化學(xué)試劑研究所等多元投資的上海華誼微電子化學(xué)品有限公司,成為執(zhí)行“863”計(jì)劃的實(shí)體、主體，擁有600

16、平方米實(shí)驗(yàn)室、10000 平方米凈化室和配置相應(yīng)的試驗(yàn)設(shè)備等。通過“863” 課題的研究開發(fā)，不僅提升了在超凈高純?cè)噭┓矫娴募夹g(shù)水平，也培養(yǎng)了一大批專業(yè)技術(shù)人才。2004 年由上海華誼（集團(tuán)）公司、上海中遠(yuǎn)化工有限公司和臺(tái)灣聯(lián)仕共同出資組建成立合資公司上海華誼微電子材料有限公司，建成15000 噸/年規(guī)模的超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)線，現(xiàn)已正式投產(chǎn)，投資2.2 億萬人民幣，生產(chǎn)各類微電子化學(xué)品，主要有：30%雙氧水、96%硫酸、29%氨水、37%鹽酸、69%硝酸、99.7%醋酸、40%氟化銨，產(chǎn)品質(zhì)量達(dá)到當(dāng)前市場(chǎng)0.13m 線寬半導(dǎo)體制造業(yè)要求以及0.09m 半導(dǎo)體生產(chǎn)線質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)的要求。上海華誼微電子材

17、料有限公司建筑面積近13000 平方米，建有世界一流水平的生產(chǎn)線和凈化包裝線。實(shí)驗(yàn)室部分有潔凈房259 平方米，最高潔凈要求可以達(dá)到10 級(jí)。擁有價(jià)值近1500 萬元的大型精密測(cè)試儀器和技術(shù)裝備，如測(cè)試限達(dá)到<1ppt（10-12）的電感耦合等離子光譜-質(zhì)譜儀（ICP-MS）、測(cè)試限<0.1ppb（10-9）的原子吸收光譜儀（AA）、紫外-可見分光光譜儀（U.V）、極譜儀、總碳分析儀、<0.1ppb 的離子色譜儀（IC）、氣相色譜儀（GC）、高效液相色譜儀（HPLC）、激光散射顆粒測(cè)定儀（PMC）、空氣凈化顆粒測(cè)試儀、微波消化器等。上海華誼微電子材料有限公司已于2006 年年

18、中建成投產(chǎn)。產(chǎn)品已開始進(jìn)入主要集成電路廠家試用，如中芯國(guó)際、臺(tái)積電，并出口東南亞。3.微電子技術(shù)與超凈高純?cè)噭┰谖鞑康貐^(qū)的發(fā)展西部地區(qū)的微電子技術(shù)相對(duì)于沿海地區(qū)來說發(fā)展較晚，但現(xiàn)今也進(jìn)入了快速發(fā)展的階段。2004年成都地區(qū)首先引進(jìn)了8英寸芯片的生產(chǎn)線，并將其定為1號(hào)工程，總投資12億人民幣。隨后又引進(jìn)了幾條8英寸及12英寸生產(chǎn)線，并將微電子產(chǎn)業(yè)列為支柱產(chǎn)業(yè)。從2005年8月開始，重慶市就著手建立西永微電子工業(yè)園，計(jì)劃到2010年達(dá)到年產(chǎn)值1000億元，占國(guó)內(nèi)同類市場(chǎng)份額的10%。建成中國(guó)西部門類最齊全，規(guī)模最大的集成電路制造研發(fā)基地和國(guó)家軟件業(yè)基地，成為中國(guó)西部“硅谷”?，F(xiàn)已有茂德、日月光等臺(tái)

19、資企業(yè)及IBM、HP等IT巨頭進(jìn)駐園區(qū)。隨著IT企業(yè)巨頭的遷移落戶，地處西部的成渝地區(qū)正在改變?nèi)螂娮有畔a(chǎn)業(yè)的格局，以電子信息產(chǎn)業(yè)為代表的產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移效應(yīng)正在顯現(xiàn)。最新的數(shù)據(jù)顯示，2011年15月，成都全市出口便攜式電腦242.94萬臺(tái)，全部為平板電腦，出口金額為10.29億美元，約占全市出口總額的16%；而重慶便攜式電腦出口量達(dá)242.7萬臺(tái)，出口金額為8.4億美元，占全市出口總量的20%。成都市商務(wù)局相關(guān)負(fù)責(zé)人介紹，去年同期成都便攜式電腦出口的數(shù)據(jù)幾乎為零。隨著鴻富錦公司產(chǎn)能的進(jìn)一步提升和仁寶、緯創(chuàng)等IT企業(yè)的陸續(xù)投產(chǎn)，這一數(shù)字還將繼續(xù)放量增長(zhǎng)，預(yù)計(jì)全年成都市出口便攜式電腦將超過2000萬臺(tái)

20、。而在今年年初，成都市市長(zhǎng)葛紅林也表示，預(yù)計(jì)到今年10月，成都將形成1億臺(tái)電腦生產(chǎn)能力，其中平板電腦7200萬臺(tái)，筆記本電腦和臺(tái)式電腦2800萬臺(tái)。目前品牌商戴爾、聯(lián)想已經(jīng)落戶成都。而重慶的筆記本電腦生產(chǎn)能力更是發(fā)展迅猛，以“垂直整合”模式先后引進(jìn)惠普、宏碁、華碩等多家品牌廠商，從打造“亞洲最大筆記本電腦基地”發(fā)展到打造“全球最大筆記本電腦生產(chǎn)基地”，最近又提出“云端計(jì)劃”。升級(jí)后的重慶IT產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)規(guī)模將拓展到2億臺(tái)。其中，筆記本電腦產(chǎn)能1億臺(tái)；1億臺(tái)電腦終端設(shè)備。臺(tái)式電腦的產(chǎn)能2000萬臺(tái)；成像打印設(shè)備的產(chǎn)能2000萬3000萬臺(tái)；交換設(shè)備產(chǎn)能200萬300萬臺(tái)；顯示器產(chǎn)能3000萬4000

21、萬臺(tái)；再加上路由器等電子設(shè)備。屆時(shí)，整個(gè)信息產(chǎn)業(yè)有望達(dá)到1萬億產(chǎn)值，取代重慶傳統(tǒng)的汽摩，成為第一支柱產(chǎn)業(yè)。正是在電子信息產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移的大潮下，四川省委政策研究室副主任李后強(qiáng)表示，一個(gè)足以改寫全球IT業(yè)版圖的“中國(guó)電子谷”正在成渝經(jīng)濟(jì)區(qū)悄然崛起。目前，全球每?jī)膳_(tái)電腦所用CPU中就有一臺(tái)“成都造”，未來，全球2/3的iPad來自成都，全球1/3的筆記本電腦出自重慶。按超凈高純?cè)噭┱嘉㈦娮有袠I(yè)產(chǎn)值35%計(jì)算，僅重慶超凈高純?cè)噭┊a(chǎn)值將達(dá)到300500億元。西三角之一角的西安微電子工業(yè)發(fā)展得比較早；貴州地區(qū)的微電子工業(yè)也正處于蓬勃發(fā)展時(shí)期，正在建設(shè)一條8英寸芯片生產(chǎn)線。綜上所述，西南地區(qū)也已具備了超大規(guī)模集

22、成電路的相當(dāng)大的產(chǎn)能。但是，與之相配套的超凈高純?cè)噭﹨s基本是空白，至今沒有單位生產(chǎn)此類品種。目前已建成生產(chǎn)線的用料全部依賴進(jìn)口。（二）發(fā)展超凈高純?cè)噭╉?xiàng)目的建設(shè)內(nèi)容超凈高純?cè)噭┕舶ㄓ腥琨}酸、硝酸、硫酸、氫氟酸、磷酸、雙氧水、無水乙醇、丙酮、甲苯、三氯乙烯等20多個(gè)品種。其生產(chǎn)工藝是以這此產(chǎn)品的化學(xué)試劑為原料，在專用的潔凈廠房中用專用的石英玻璃設(shè)備中進(jìn)行亞沸蒸餾、分子蒸餾等工藝提純。使其雜質(zhì)指標(biāo)達(dá)到超凈高純?cè)噭┑囊蟆Ｈ缓笤趪?yán)格不受外界污染的條件下輸送到100級(jí)凈化間中的10級(jí)工作臺(tái)中，用事先經(jīng)過潔凈處理并達(dá)到要求的容器分裝、封口后，經(jīng)專用通道輸出到潔凈的外包裝間。進(jìn)入100級(jí)凈化間的工作人員

23、要盡量少，并嚴(yán)格按潔凈要求動(dòng)作，事先要在萬級(jí)潔凈間內(nèi)更換防塵工作服后經(jīng)風(fēng)淋間淋至達(dá)到要求才能進(jìn)入。包裝容器在普通潔凈工作間先用純水洗凈，然后進(jìn)入萬級(jí)工作間進(jìn)行精洗，然后由專用通道進(jìn)入100級(jí)凈化間內(nèi)，用達(dá)到要求的超凈高純水漂洗至合格后，再供使用。因此，生產(chǎn)超凈高純?cè)噭┍仨氁邢铝性O(shè)施：100級(jí)超凈工作間及外圍的萬級(jí)凈化間；10萬級(jí)凈化間及在其中安裝的各種生產(chǎn)設(shè)備；超凈包裝容器的清洗的設(shè)備及超凈工作間；超凈高純水生產(chǎn)設(shè)備；空氣及液體中塵埃顆粒的測(cè)試儀器；超凈高純?cè)噭┲械碾s質(zhì)測(cè)試設(shè)備（ppt級(jí)至ppb級(jí)）。1.超凈廠房的建設(shè)現(xiàn)在8英寸的芯片生產(chǎn)線，芯片線路線寬都在0.81.2m，需要控制0.8m以

24、上的塵埃顆粒。需要建設(shè)100級(jí)的超凈廠房，主要用于產(chǎn)品灌裝和產(chǎn)品檢測(cè)，共需要300平米。其次，為適應(yīng)8英寸以上芯片生產(chǎn)線，超凈高純?cè)噭┑母咭?，?00級(jí)的超凈室內(nèi)還需設(shè)置10級(jí)的超凈工作臺(tái)，核心操作都在超凈工作臺(tái)內(nèi)完成。這樣形成逐級(jí)嚴(yán)格的控制，更利于保證潔凈度。除上述的核心部分的100級(jí)超凈室與10級(jí)超凈工作臺(tái)外，還必須設(shè)置更大規(guī)模的與其配套的萬級(jí)超凈室與十萬級(jí)潔凈室。2.生產(chǎn)提純?cè)O(shè)備的添置現(xiàn)今的超凈高純?cè)噭┢潆s質(zhì)含量已要求在ppb級(jí)至ppt級(jí)，在這樣的要求下，一般采用普通玻璃設(shè)備都難以達(dá)到，必須采用優(yōu)質(zhì)的石英玻璃來制作各種生產(chǎn)設(shè)備才能達(dá)到要求。這些石英玻璃必須經(jīng)過專業(yè)設(shè)計(jì)并嚴(yán)格控制加工過程

25、才能制造出來。3.超凈包裝容器自動(dòng)清洗線的設(shè)計(jì)安裝超凈高純?cè)噭┑陌b容器，歷來是其發(fā)展過程中的瓶頸問題，很多情況下是可以生產(chǎn)出合格產(chǎn)品，但經(jīng)包裝后就不能使用了，除了包裝容器的材質(zhì)的選擇外，嚴(yán)格的清洗過程很有必要。其預(yù)清洗還可以用人工參加，到最后超凈階段就不是靠手工能洗得出來的了，必須設(shè)計(jì)專業(yè)的清洗設(shè)備，在超凈工作間內(nèi)自動(dòng)清洗才能達(dá)到要求。4.超凈高純水的生產(chǎn)超凈高純水主要用于生產(chǎn)設(shè)備的清洗及包裝容器中的清洗，其質(zhì)量的好壞直接影響到超凈高純?cè)噭┊a(chǎn)品的質(zhì)量。傳統(tǒng)的超凈高純水生產(chǎn)工藝是采用反滲透加離子交換工藝，水質(zhì)雖可達(dá)到使用要求，但離子交換工藝操作中大量使用酸堿，并生成大量酸堿廢液難以處理，本項(xiàng)目

26、擬采用最新技術(shù)電去離子工藝，出水質(zhì)量更優(yōu)，不再產(chǎn)生酸堿廢水，運(yùn)行成本更低。5.分析測(cè)試儀器的添置液體塵埃顆粒計(jì)數(shù)器、氣體塵埃顆粒計(jì)數(shù)器、原子吸收光譜儀等專業(yè)分析儀器及其他許多常規(guī)分析設(shè)備，更先進(jìn)的等離子光譜或電感耦合等離子光譜質(zhì)譜儀。（三）項(xiàng)目建設(shè)規(guī)模及投資概算項(xiàng)目總目標(biāo)：年產(chǎn)10000噸SEMI C8C12級(jí)超凈高純?cè)噭荒戤a(chǎn)值：2.5億元；年利稅：1.4億元。項(xiàng)目包括如下工程（總計(jì)：6850萬元）：1.超凈工作間（合計(jì)2600萬元）：300m2100級(jí)（0.2m級(jí)）超凈工作間及配套設(shè)施設(shè)備，600萬元；1000 m2萬級(jí)超凈工作間及配套設(shè)施設(shè)備，1000萬元；10000 m210萬級(jí)潔凈生

27、產(chǎn)廠房及配套設(shè)施設(shè)備，1000萬元。2.生產(chǎn)設(shè)備（合計(jì)2350萬元）年產(chǎn)1500噸超凈高純硫酸設(shè)備，200萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純鹽酸設(shè)備，100萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純硝酸設(shè)備，100萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純雙氧水設(shè)備，300萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純無水乙醇設(shè)備，100萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純氨水設(shè)備，100萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純甲醇設(shè)備，50萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純異丙醇設(shè)備，50萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純氫氟酸設(shè)備，200萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純磷酸設(shè)備，100萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純冰乙酸設(shè)備，50萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純氟化銨設(shè)備，50萬元；年產(chǎn)100噸

28、超凈高純氟化氫銨設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純乙酸乙酯設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純乙酸丁酯設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純甲苯設(shè)備，50萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純二甲苯生產(chǎn)設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純?nèi)燃淄樯a(chǎn)設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純四氯化碳生產(chǎn)設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純乙二醇生產(chǎn)設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純?nèi)纫蚁┥a(chǎn)設(shè)備，50萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純二氯甲烷生產(chǎn)設(shè)備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純環(huán)己烷生產(chǎn)設(shè)備，30萬無；年產(chǎn)100噸超凈高純丁酮生產(chǎn)設(shè)備，30萬元；與以上各產(chǎn)品相對(duì)應(yīng)的超過濾系統(tǒng)（UF），500萬元。3.超凈高純水

29、生產(chǎn)設(shè)備（300萬元）建設(shè)日產(chǎn)達(dá)200噸超凈高純水生產(chǎn)設(shè)備，水質(zhì)達(dá)到18M以上，采用電去離子（EDI技術(shù)）與反滲透結(jié)合工藝，塵埃顆粒0.2m以上10個(gè)/ml，TOC10ppb，DO50ppb。4.包裝容器清洗生產(chǎn)線六條（800萬元）500ml玻璃瓶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量10000個(gè)；3000ml玻璃瓶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量2000個(gè)；500ml塑料瓶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量10000個(gè)；2.5升塑料桶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量2000個(gè)；25升塑料桶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量500個(gè)；1000升塑料桶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量500個(gè)。5.購(gòu)買分析測(cè)試儀器（合計(jì)500萬元）激光氣體塵埃顆粒測(cè)試儀

30、一臺(tái)，20萬元；激光液體塵埃顆粒測(cè)試儀一臺(tái)，30萬元；電感耦合等離子光譜質(zhì)譜儀一臺(tái)，400萬元；無火焰原子吸收光譜儀一臺(tái)，50萬元。6.生產(chǎn)廢水處理回收系統(tǒng)（300萬元）日處理量200噸，處理后90%以上的水回收再投入生產(chǎn)線，5%回收后作中水使用，5%達(dá)標(biāo)無污染排放。生產(chǎn)中的廢氣處理系統(tǒng)在生產(chǎn)設(shè)備中設(shè)計(jì)解決。（四）項(xiàng)目投資經(jīng)濟(jì)效益及風(fēng)險(xiǎn)分析產(chǎn)品銷售收入以平均每噸產(chǎn)品2.5萬元計(jì)，100%達(dá)產(chǎn)并銷售，銷售收入為25000萬元。在產(chǎn)品的成本組成中：原材料成本平均占10%；水、電動(dòng)力成本：100%達(dá)產(chǎn)占20%；50%達(dá)產(chǎn)占25%；25%達(dá)產(chǎn)占30%；人工工資管理成本：100%達(dá)產(chǎn)占1%；50%達(dá)產(chǎn)占

31、1.5%；25%達(dá)產(chǎn)占2.0%。本項(xiàng)目投資6850萬元，因本項(xiàng)目的產(chǎn)業(yè)是技術(shù)進(jìn)步快的產(chǎn)業(yè)，更新?lián)Q代快，所以全部資產(chǎn)加速折舊，以五年內(nèi)全部折完計(jì)（建設(shè)兩年，達(dá)產(chǎn)三年），生產(chǎn)年平均折舊2283.3萬元。項(xiàng)目投產(chǎn)后，工作人員約60人，人均工資以3000元/月計(jì)。據(jù)以上條件計(jì)算如下：100%達(dá)產(chǎn)，利稅計(jì)算：25000×（100%-10%-20%-1%）-2283.3=17250-2283.3=14966.7(萬元)；50%達(dá)產(chǎn)，利稅計(jì)算：25000×50%（100%-25%-10%-1.5%）-2283.8=7937.5-2283.3=5654.2(萬元)；25%達(dá)產(chǎn)，利稅計(jì)算：2

32、5000×25%（100%-30%-10%-2%）-2283.3=3625-2283.3=1341.7(萬元)；盈虧點(diǎn)計(jì)算：即盈虧點(diǎn)產(chǎn)量為1575噸，年銷售收入為：3937.5萬元。由以上分析可知，本項(xiàng)目由于其技術(shù)含量高，產(chǎn)品附加值高，有著很強(qiáng)的抗風(fēng)險(xiǎn)能力。（五）項(xiàng)目環(huán)境安全風(fēng)險(xiǎn)分析超凈高純?cè)噭┑纳a(chǎn)要求潔凈的環(huán)境，基本不會(huì)產(chǎn)生污染，但如不合理處理，必然破壞大好環(huán)境。本項(xiàng)目的超凈高純?cè)噭┥a(chǎn)中，廢水、廢氣、固體廢物都有產(chǎn)生，且以廢水為主。本項(xiàng)目生產(chǎn)中產(chǎn)生的廢氣，主要是蒸餾尾氣，這部分尾氣在生產(chǎn)工藝設(shè)備設(shè)計(jì)中已考慮解決，將尾氣回收利用，不但解決了環(huán)境污染問題，而且一定程度上可降低生產(chǎn)成本。本項(xiàng)目生產(chǎn)中產(chǎn)生的固體廢渣很少，主要是用過的濾膜，每年約在200公斤左右，都是塑料制品，清洗后可作廢塑料回收。本項(xiàng)目產(chǎn)生的廢水量較大，預(yù)計(jì)達(dá)產(chǎn)后將達(dá)每天200噸，這些廢水的組成有三種情況：其一，是量最大的洗容器用的沖洗水，約占90%以上，這部分