年產(chǎn)10000噸超凈高純試劑項目建議書-最新

1、精選優(yōu)質(zhì)文檔-傾情為你奉上發(fā)展超大規(guī)模集成電路用超凈高純試劑的項目（一） 項目介紹1.超凈高純試劑微電子技術的支柱微電子技術主要是指用于半導體器件和集成電路(IC)微細加工制作的一系列蝕刻和處理技術,其中集成電路,特別是大規(guī)模及超大規(guī)模集成電路的微細加工技術又是微電子技術的核心,是電子信息產(chǎn)業(yè)最關鍵、最為重要的基礎。微電子技術發(fā)展的主要途徑之一是通過不斷縮小器件的特征尺寸,增加芯片的面積,以提高集成度和速度。自20世紀70年代后期至今,集成電路芯片的發(fā)展基本上遵循GordonEM預言的摩爾定律,即每隔1.5年集成度增加1倍,芯片的特征尺寸每3年縮小2倍,芯片面積增加約1.5倍,芯片中晶體管數(shù)增

2、加約4倍,也就是說大體上每3年就有一代新的IC產(chǎn)品問世。在國際上,1958年美國首先研制成功集成電路開始,尤其是20世紀70年代以來,集成電路微細加工技術進入快速發(fā)展的時期,這期間相繼推出了4、16、256K;1、4、16、256M;1、1.3、1.4G的動態(tài)存貯器。進入20世紀90年代后期,IC的發(fā)展更迅速,競爭更激烈。美國的Intel公司、AMD公司和日本的NEC公司這3個IC生產(chǎn)廠家的競爭尤為激烈,1999年Intel公司、AMD公司均實現(xiàn)了0.25Lm技術的生產(chǎn)化,緊接著Intel公司在1999年底又實現(xiàn)了0.18Lm技術的生產(chǎn)化,AMD公司也在緊追不舍。到2001年上半年,Intel

3、公司實現(xiàn)了0.13Lm技術的生產(chǎn)化,而到2001年的2季度末,日本的NEC公司宣布突破了0.1Lm工藝技術的難關,率先成功研發(fā)出0.095Lm的半導體工藝技術,現(xiàn)已開始接受全球各地廠商的訂貨,并將于2001年的11月開始批量生產(chǎn)。因此,專家們認為世界半導體工藝技術的發(fā)展將會加速,半導體制造廠商將會以更先進的技術加快升級換代以適應新的市場要求。超凈高純試劑（Ultra-clean and High-purity Reagents）在國際上通稱為工藝化學品（Process Chemicals），美歐和中國臺灣地區(qū)又稱濕化學品（Wet Chemicals），是超大規(guī)模集成電路（即俗稱的“芯片”）制作

4、過程中的關鍵性基礎化工材料之一，主要用于芯片的清洗、蝕刻，另外超凈高純試劑還用于芯片摻雜和沉淀工藝。超凈高純試劑的純度和潔凈度對集成電路的成品率、電性能及可靠性均有十分重要的影響。超凈高純試劑具有品種多、用量大、技術要求高、貯存有效期短和腐蝕性強等特點，它基于微電子技術的發(fā)展而產(chǎn)生，一代IC 產(chǎn)品需要一代的超凈高純試劑與之配套。它隨著微電子技術的發(fā)展而同步或超前發(fā)展，同時它又對微電子技術的發(fā)展起著制約作用。依照超凈高純試劑的用途，可以將其劃分為光刻膠配套試劑、濕法蝕刻劑和濕法工藝試劑。如果依其性質(zhì)可以分為：無機酸類（如鹽酸、硝酸、硫酸、氫氟酸、磷酸等）、無機堿類（如氨水等）、有機溶劑類（如無水

5、乙醇、冰乙酸、三氯乙烯、丙酮等）和其他超凈高純試劑（如雙氧水、氟化氫銨等）。有關資料顯示，超凈高純有機溶劑在半導體工業(yè)中的消耗比例大致占10-15%，其中有機類化學品的需求量在微電子化學品中占總體積的3%以上，市場需求量相當可觀。在超凈高純試劑的發(fā)展方面，與微電子技術另一重要材料光刻膠相似，不同線寬的芯片必須使用不同規(guī)格的超凈高純試劑進行蝕刻和清洗。超凈高純試劑的質(zhì)量關鍵在于控制其所含的金屬離子的多少和試劑中塵埃顆粒的含量，對于線寬較小的超大規(guī)模集成電路，幾個金屬離子或灰塵就足以報廢整個電路。1975 年，國際半導體設備與材料組織（SEMI）制定了國際統(tǒng)一的超凈高純試劑標準，如表1 所示。目前

6、，國際上制備SEMI-C1 到SEMI-C12 級超凈高純試劑的技術都已經(jīng)趨于成熟。隨著集成電路制作要求的提高，對工藝中所需的液體化學品純度的要求也不斷提高。技術趨勢上看，滿足納米級集成電路加工需求是超凈高純試劑今后發(fā)展方向之一。表 1 工藝化學品SEMI 國際標準等級SEMI 標準 C1（Grade1） C7（Grade2） C8（Grade3） C12（Grade4）金屬雜質(zhì)/ppb 1ppm 10 1 0.1控制粒徑/m 1.0 0.5 0.5 0.2顆粒/ 個/mL 25 25 5 *適應IC 線寬范圍/m 1.2 0.81.2 0.20.6 0.090.2可以看出，超凈高純試劑制備的

7、關鍵在于控制并達到其所要求的雜質(zhì)含量和顆粒度。為使超凈高純試劑的質(zhì)量達到要求，需從多個方面同時予以保障，包括試劑的提純、包裝、供應系統(tǒng)及分析方法等。目前，國際上普遍使用的提純工藝有十余種，它們適用于不同成分、不同要求的超凈高純試劑的生產(chǎn)，例如，蒸餾、精餾、連續(xù)精餾、鹽熔精餾、共沸精餾、亞沸騰蒸餾、等溫蒸餾、減壓蒸餾、升華、化學處理、氣體吸收等。超凈高純試劑在運輸過程中極易受污染，所以超凈高純試劑的包裝及供應方式是超凈高純試劑使用的重要一環(huán)。特別是顆?？刂频南嚓P技術，它貫穿于超凈高純試劑生產(chǎn)、運輸?shù)氖冀K，包括了環(huán)境控制、工藝控制、成品包裝控制等各個環(huán)節(jié)。2.國內(nèi)外超凈高純試劑生產(chǎn)技術發(fā)展現(xiàn)狀國外

8、20世紀60年代便開始生產(chǎn)電子工業(yè)用試劑,并為微電子加工技術的發(fā)展而不斷開發(fā)新的產(chǎn)品。到目前為止,在國際上以德國E.Merck公司的產(chǎn)量及所占市場份額為最大,其次為美國Ashland、Olin公司及日本的關東株式會社,另外還有美國的MallinckradtBaker公司、英國的B.D.H.公司、前全蘇化學試劑和高純物質(zhì)研究所、三菱瓦斯化學、伊期曼化學公司、AlliedSig-nal公司、Chemtech公司、PVS化學品公司、日本化學工業(yè)公司及德山公司等。近年來,新加坡、臺灣地區(qū)也相繼建立了500010000t級的超凈高純試劑生產(chǎn)基地。目前在國際上從事超凈高純試劑的研究開發(fā)及大規(guī)模生產(chǎn)的主要有

9、德國的E.Merck 公司（包括日本的Merck-Kanto 公司，占全球市場份額26.7%），美國的Ashland公司（市場份額25.7%）、Arch 公司（市場份額9.5%）、Mallinckradt Baker 公司（市場份額4.4%），日本的Wako（市場份額10.1%）、Sumitomo（市場份額7.1%），另外還有日本住友合成、德川、三菱，我國臺灣地區(qū)主要有臺灣Merck、長春、中華、友發(fā)、長新化學、臺硝股份及恒誼等，韓國主要有東友（DONGWOO FINECHEM）、東進（DONGJIN SEMICHEM）、SAMYOUNG FINECHEM 等公司。在技術方面，美國、德國、日本

10、、韓國及我國臺灣地區(qū)目前已經(jīng)在大規(guī)模生產(chǎn)0.20.6m 技術用的超凈高純試劑，其中的過氧化氫、硫酸、異丙醇等主要品種一般在500010000 噸/年的規(guī)模，0.090.2m 技術用超凈高純試劑也已完成前期的工藝研究并形成規(guī)模生產(chǎn)，90nm 以下技術用工藝化學品也已完成技術研究，具備相應的生產(chǎn)能力。國內(nèi)超凈高純試劑的研發(fā)水平及生產(chǎn)技術水平與國際上的先進技術水平相比尚有一定的差距，目前5mIC 技術用MOS 級試劑的生產(chǎn)技術已經(jīng)成熟，并已轉化為規(guī)模生產(chǎn)。0.81.2m 技術用超凈高純試劑（相當于國際SEMI 標準C7 水平）的產(chǎn)業(yè)化技術基本成熟，初步形成生產(chǎn)規(guī)模。0.20.6m 技術用超凈高純試劑

11、（相當于國際SEMI標準C8 水平）的工藝制備技術及分析測試技術有所突破，但由于受相關配套條件的制約，產(chǎn)業(yè)化技術還有待進一步的完善。部分產(chǎn)品的產(chǎn)業(yè)化技術也將能夠形成規(guī)?；a(chǎn)，相關分析測試方法的研究也有了較大的突破，但總體上仍然受支撐條件落后、配套設施基礎差等客觀因素的制約，關鍵的儀器設備包括容器等必須依賴進口，超凈高純試劑工藝先進技術如氣體吸收、離子交換、膜處理技術等的應用要達到國外的先進水平也有一定的差距，這也導致真正要實現(xiàn)超凈高純試劑的工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)存在較大的差距。我國半導體市場規(guī)模在不斷擴大，2006 年我國IC 市場已達4836 億元。20022006 年5 年間，平均增長率33.6

12、%。目前國內(nèi)12 英寸（1 英寸=25.4 毫米）生產(chǎn)線2 條，8 英寸線10 條，占國內(nèi)47 條生產(chǎn)線總數(shù)的1/4，產(chǎn)能已占全國的60%，8 英寸以上高端生產(chǎn)線已開始成為國內(nèi)芯片制造業(yè)主體。按“十二五”計劃新建的生產(chǎn)線對于超凈高純試劑耗用量將有較大幅度增長。此外，隨著國內(nèi)平板顯示器（FPD）大發(fā)展，2007 上廣電NEC 產(chǎn)能將達到90K/月，京東方產(chǎn)能將達到85K/月，二廠、三廠建成后將達18 萬枚/月。FPD 工藝與VLSI 是類似的，需求的超凈高純試劑也要幾萬噸。在市場供應方面，目前1.2mMOS 級超凈高純試劑已經(jīng)全部實現(xiàn)國產(chǎn)化，在更高檔次的超凈高純試劑供應方面，目前絕大部分需要從其

13、他國家或地區(qū)進口，SEMI標準C8 水平及以上檔次的產(chǎn)品則全部依賴進口。進口產(chǎn)品的主要來源有日本、韓國、美國等國家及我國的臺灣地區(qū)。表2 我國目前電子化學品進口量和國產(chǎn)產(chǎn)品市場占有率產(chǎn)品 國產(chǎn)量 進口量 國產(chǎn)產(chǎn)品市場占有率超凈高純試劑 10819.0 噸 60353.8 噸 17.9%我國超凈高純試劑的研制起步于20世紀70年代中期,1980年由北京化學試劑研究所在國內(nèi)率先研制成功適合中小規(guī)模集成電路5m技術用的22種MOS級試劑。隨著集成電路集成度的不斷提高,對超凈高純試劑中的可溶性雜質(zhì)和固體顆粒的控制越來越嚴,同時對生產(chǎn)環(huán)境、包裝方式及包裝材質(zhì)等提出了更高的要求。為了滿足我國集成電路發(fā)展的

14、需求,國家自“六五”開始至“八五”,將超凈高純試劑的研究開發(fā)列入了重點科技攻關計劃,并由北京化學試劑研究所承擔攻關任務。到目前為止,北京化學試劑研究所已相繼推出了BV-級、BV-級和BV-級超凈高純試劑,其中BV-級超凈高純試劑達到國際SEMI-C7標準的水平,適用于0.81.2Lm工藝技術(14M)的加工制作,并在“九五”末期形成了500t年的中試規(guī)模。目前北京化學試劑研究所正在進行用于0.20.6Lm工藝技術的BV-級超凈高純試劑的研究開發(fā)。“十五”期間，國家科技部將“VLSI 用超凈高純試劑研究”課題列入了“863”超大規(guī)模集成電路配套材料重大專項計劃之中，由北京化學試劑研究所、上海華誼

15、（集團）公司等單位承擔，其研究的主要目的是完成0.130.10m 技術ULSI 用超凈高純試劑的研究與開發(fā)工作，此項目現(xiàn)已完成，關鍵品種的制備工藝已趨完善，配套支撐條件基本上可以滿足研發(fā)的要求，顆粒、金屬雜質(zhì)、陰離子及TOC 等分析測試方法的研究也取得了一系列成果，為“十二五”的產(chǎn)業(yè)化技術及更加深入的研究奠定了良好的技術基礎。上海華誼（集團）公司為推進“863” 課題研究開發(fā)工作，加快研究及產(chǎn)業(yè)化進程，于2003 年1 月組建了由華誼集團公司、中遠化工有限公司、三愛富新材料股份有限公司和上?；瘜W試劑研究所等多元投資的上海華誼微電子化學品有限公司,成為執(zhí)行“863”計劃的實體、主體，擁有600

16、平方米實驗室、10000 平方米凈化室和配置相應的試驗設備等。通過“863” 課題的研究開發(fā)，不僅提升了在超凈高純試劑方面的技術水平，也培養(yǎng)了一大批專業(yè)技術人才。2004 年由上海華誼（集團）公司、上海中遠化工有限公司和臺灣聯(lián)仕共同出資組建成立合資公司上海華誼微電子材料有限公司，建成15000 噸/年規(guī)模的超凈高純試劑生產(chǎn)線，現(xiàn)已正式投產(chǎn)，投資2.2 億萬人民幣，生產(chǎn)各類微電子化學品，主要有：30%雙氧水、96%硫酸、29%氨水、37%鹽酸、69%硝酸、99.7%醋酸、40%氟化銨，產(chǎn)品質(zhì)量達到當前市場0.13m 線寬半導體制造業(yè)要求以及0.09m 半導體生產(chǎn)線質(zhì)量標準的要求。上海華誼微電子材

17、料有限公司建筑面積近13000 平方米，建有世界一流水平的生產(chǎn)線和凈化包裝線。實驗室部分有潔凈房259 平方米，最高潔凈要求可以達到10 級。擁有價值近1500 萬元的大型精密測試儀器和技術裝備，如測試限達到<1ppt（10-12）的電感耦合等離子光譜-質(zhì)譜儀（ICP-MS）、測試限<0.1ppb（10-9）的原子吸收光譜儀（AA）、紫外-可見分光光譜儀（U.V）、極譜儀、總碳分析儀、<0.1ppb 的離子色譜儀（IC）、氣相色譜儀（GC）、高效液相色譜儀（HPLC）、激光散射顆粒測定儀（PMC）、空氣凈化顆粒測試儀、微波消化器等。上海華誼微電子材料有限公司已于2006 年年

18、中建成投產(chǎn)。產(chǎn)品已開始進入主要集成電路廠家試用，如中芯國際、臺積電，并出口東南亞。3.微電子技術與超凈高純試劑在西部地區(qū)的發(fā)展西部地區(qū)的微電子技術相對于沿海地區(qū)來說發(fā)展較晚，但現(xiàn)今也進入了快速發(fā)展的階段。2004年成都地區(qū)首先引進了8英寸芯片的生產(chǎn)線，并將其定為1號工程，總投資12億人民幣。隨后又引進了幾條8英寸及12英寸生產(chǎn)線，并將微電子產(chǎn)業(yè)列為支柱產(chǎn)業(yè)。從2005年8月開始，重慶市就著手建立西永微電子工業(yè)園，計劃到2010年達到年產(chǎn)值1000億元，占國內(nèi)同類市場份額的10%。建成中國西部門類最齊全，規(guī)模最大的集成電路制造研發(fā)基地和國家軟件業(yè)基地，成為中國西部“硅谷”?，F(xiàn)已有茂德、日月光等臺

19、資企業(yè)及IBM、HP等IT巨頭進駐園區(qū)。隨著IT企業(yè)巨頭的遷移落戶，地處西部的成渝地區(qū)正在改變?nèi)螂娮有畔a(chǎn)業(yè)的格局，以電子信息產(chǎn)業(yè)為代表的產(chǎn)業(yè)轉移效應正在顯現(xiàn)。最新的數(shù)據(jù)顯示，2011年15月，成都全市出口便攜式電腦242.94萬臺，全部為平板電腦，出口金額為10.29億美元，約占全市出口總額的16%；而重慶便攜式電腦出口量達242.7萬臺，出口金額為8.4億美元，占全市出口總量的20%。成都市商務局相關負責人介紹，去年同期成都便攜式電腦出口的數(shù)據(jù)幾乎為零。隨著鴻富錦公司產(chǎn)能的進一步提升和仁寶、緯創(chuàng)等IT企業(yè)的陸續(xù)投產(chǎn)，這一數(shù)字還將繼續(xù)放量增長，預計全年成都市出口便攜式電腦將超過2000萬臺

20、。而在今年年初，成都市市長葛紅林也表示，預計到今年10月，成都將形成1億臺電腦生產(chǎn)能力，其中平板電腦7200萬臺，筆記本電腦和臺式電腦2800萬臺。目前品牌商戴爾、聯(lián)想已經(jīng)落戶成都。而重慶的筆記本電腦生產(chǎn)能力更是發(fā)展迅猛，以“垂直整合”模式先后引進惠普、宏碁、華碩等多家品牌廠商，從打造“亞洲最大筆記本電腦基地”發(fā)展到打造“全球最大筆記本電腦生產(chǎn)基地”，最近又提出“云端計劃”。升級后的重慶IT產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)規(guī)模將拓展到2億臺。其中，筆記本電腦產(chǎn)能1億臺；1億臺電腦終端設備。臺式電腦的產(chǎn)能2000萬臺；成像打印設備的產(chǎn)能2000萬3000萬臺；交換設備產(chǎn)能200萬300萬臺；顯示器產(chǎn)能3000萬4000

21、萬臺；再加上路由器等電子設備。屆時，整個信息產(chǎn)業(yè)有望達到1萬億產(chǎn)值，取代重慶傳統(tǒng)的汽摩，成為第一支柱產(chǎn)業(yè)。正是在電子信息產(chǎn)業(yè)轉移的大潮下，四川省委政策研究室副主任李后強表示，一個足以改寫全球IT業(yè)版圖的“中國電子谷”正在成渝經(jīng)濟區(qū)悄然崛起。目前，全球每兩臺電腦所用CPU中就有一臺“成都造”，未來，全球2/3的iPad來自成都，全球1/3的筆記本電腦出自重慶。按超凈高純試劑占微電子行業(yè)產(chǎn)值35%計算，僅重慶超凈高純試劑產(chǎn)值將達到300500億元。西三角之一角的西安微電子工業(yè)發(fā)展得比較早；貴州地區(qū)的微電子工業(yè)也正處于蓬勃發(fā)展時期，正在建設一條8英寸芯片生產(chǎn)線。綜上所述，西南地區(qū)也已具備了超大規(guī)模集

22、成電路的相當大的產(chǎn)能。但是，與之相配套的超凈高純試劑卻基本是空白，至今沒有單位生產(chǎn)此類品種。目前已建成生產(chǎn)線的用料全部依賴進口。（二）發(fā)展超凈高純試劑項目的建設內(nèi)容超凈高純試劑共包括有如鹽酸、硝酸、硫酸、氫氟酸、磷酸、雙氧水、無水乙醇、丙酮、甲苯、三氯乙烯等20多個品種。其生產(chǎn)工藝是以這此產(chǎn)品的化學試劑為原料，在專用的潔凈廠房中用專用的石英玻璃設備中進行亞沸蒸餾、分子蒸餾等工藝提純。使其雜質(zhì)指標達到超凈高純試劑的要求。然后在嚴格不受外界污染的條件下輸送到100級凈化間中的10級工作臺中，用事先經(jīng)過潔凈處理并達到要求的容器分裝、封口后，經(jīng)專用通道輸出到潔凈的外包裝間。進入100級凈化間的工作人員

23、要盡量少，并嚴格按潔凈要求動作，事先要在萬級潔凈間內(nèi)更換防塵工作服后經(jīng)風淋間淋至達到要求才能進入。包裝容器在普通潔凈工作間先用純水洗凈，然后進入萬級工作間進行精洗，然后由專用通道進入100級凈化間內(nèi)，用達到要求的超凈高純水漂洗至合格后，再供使用。因此，生產(chǎn)超凈高純試劑必須要有下列設施：100級超凈工作間及外圍的萬級凈化間；10萬級凈化間及在其中安裝的各種生產(chǎn)設備；超凈包裝容器的清洗的設備及超凈工作間；超凈高純水生產(chǎn)設備；空氣及液體中塵埃顆粒的測試儀器；超凈高純試劑中的雜質(zhì)測試設備（ppt級至ppb級）。1.超凈廠房的建設現(xiàn)在8英寸的芯片生產(chǎn)線，芯片線路線寬都在0.81.2m，需要控制0.8m以

24、上的塵埃顆粒。需要建設100級的超凈廠房，主要用于產(chǎn)品灌裝和產(chǎn)品檢測，共需要300平米。其次，為適應8英寸以上芯片生產(chǎn)線，超凈高純試劑的高要求，在100級的超凈室內(nèi)還需設置10級的超凈工作臺，核心操作都在超凈工作臺內(nèi)完成。這樣形成逐級嚴格的控制，更利于保證潔凈度。除上述的核心部分的100級超凈室與10級超凈工作臺外，還必須設置更大規(guī)模的與其配套的萬級超凈室與十萬級潔凈室。2.生產(chǎn)提純設備的添置現(xiàn)今的超凈高純試劑其雜質(zhì)含量已要求在ppb級至ppt級，在這樣的要求下，一般采用普通玻璃設備都難以達到，必須采用優(yōu)質(zhì)的石英玻璃來制作各種生產(chǎn)設備才能達到要求。這些石英玻璃必須經(jīng)過專業(yè)設計并嚴格控制加工過程

25、才能制造出來。3.超凈包裝容器自動清洗線的設計安裝超凈高純試劑的包裝容器，歷來是其發(fā)展過程中的瓶頸問題，很多情況下是可以生產(chǎn)出合格產(chǎn)品，但經(jīng)包裝后就不能使用了，除了包裝容器的材質(zhì)的選擇外，嚴格的清洗過程很有必要。其預清洗還可以用人工參加，到最后超凈階段就不是靠手工能洗得出來的了，必須設計專業(yè)的清洗設備，在超凈工作間內(nèi)自動清洗才能達到要求。4.超凈高純水的生產(chǎn)超凈高純水主要用于生產(chǎn)設備的清洗及包裝容器中的清洗，其質(zhì)量的好壞直接影響到超凈高純試劑產(chǎn)品的質(zhì)量。傳統(tǒng)的超凈高純水生產(chǎn)工藝是采用反滲透加離子交換工藝，水質(zhì)雖可達到使用要求，但離子交換工藝操作中大量使用酸堿，并生成大量酸堿廢液難以處理，本項目

26、擬采用最新技術電去離子工藝，出水質(zhì)量更優(yōu)，不再產(chǎn)生酸堿廢水，運行成本更低。5.分析測試儀器的添置液體塵埃顆粒計數(shù)器、氣體塵埃顆粒計數(shù)器、原子吸收光譜儀等專業(yè)分析儀器及其他許多常規(guī)分析設備，更先進的等離子光譜或電感耦合等離子光譜質(zhì)譜儀。（三）項目建設規(guī)模及投資概算項目總目標：年產(chǎn)10000噸SEMI C8C12級超凈高純試劑；年產(chǎn)值：2.5億元；年利稅：1.4億元。項目包括如下工程（總計：6850萬元）：1.超凈工作間（合計2600萬元）：300m2100級（0.2m級）超凈工作間及配套設施設備，600萬元；1000 m2萬級超凈工作間及配套設施設備，1000萬元；10000 m210萬級潔凈生

27、產(chǎn)廠房及配套設施設備，1000萬元。2.生產(chǎn)設備（合計2350萬元）年產(chǎn)1500噸超凈高純硫酸設備，200萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純鹽酸設備，100萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純硝酸設備，100萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純雙氧水設備，300萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純無水乙醇設備，100萬元；年產(chǎn)1000噸超凈高純氨水設備，100萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純甲醇設備，50萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純異丙醇設備，50萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純氫氟酸設備，200萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純磷酸設備，100萬元；年產(chǎn)500噸超凈高純冰乙酸設備，50萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純氟化銨設備，50萬元；年產(chǎn)100噸

28、超凈高純氟化氫銨設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純乙酸乙酯設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純乙酸丁酯設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純甲苯設備，50萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純二甲苯生產(chǎn)設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純?nèi)燃淄樯a(chǎn)設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純四氯化碳生產(chǎn)設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純乙二醇生產(chǎn)設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純?nèi)纫蚁┥a(chǎn)設備，50萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純二氯甲烷生產(chǎn)設備，30萬元；年產(chǎn)100噸超凈高純環(huán)己烷生產(chǎn)設備，30萬無；年產(chǎn)100噸超凈高純丁酮生產(chǎn)設備，30萬元；與以上各產(chǎn)品相對應的超過濾系統(tǒng)（UF），500萬元。3.超凈高純水

29、生產(chǎn)設備（300萬元）建設日產(chǎn)達200噸超凈高純水生產(chǎn)設備，水質(zhì)達到18M以上，采用電去離子（EDI技術）與反滲透結合工藝，塵埃顆粒0.2m以上10個/ml，TOC10ppb，DO50ppb。4.包裝容器清洗生產(chǎn)線六條（800萬元）500ml玻璃瓶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量10000個；3000ml玻璃瓶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量2000個；500ml塑料瓶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量10000個；2.5升塑料桶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量2000個；25升塑料桶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量500個；1000升塑料桶清洗生產(chǎn)線一條，日處理量500個。5.購買分析測試儀器（合計500萬元）激光氣體塵埃顆粒測試儀

30、一臺，20萬元；激光液體塵埃顆粒測試儀一臺，30萬元；電感耦合等離子光譜質(zhì)譜儀一臺，400萬元；無火焰原子吸收光譜儀一臺，50萬元。6.生產(chǎn)廢水處理回收系統(tǒng)（300萬元）日處理量200噸，處理后90%以上的水回收再投入生產(chǎn)線，5%回收后作中水使用，5%達標無污染排放。生產(chǎn)中的廢氣處理系統(tǒng)在生產(chǎn)設備中設計解決。（四）項目投資經(jīng)濟效益及風險分析產(chǎn)品銷售收入以平均每噸產(chǎn)品2.5萬元計，100%達產(chǎn)并銷售，銷售收入為25000萬元。在產(chǎn)品的成本組成中：原材料成本平均占10%；水、電動力成本：100%達產(chǎn)占20%；50%達產(chǎn)占25%；25%達產(chǎn)占30%；人工工資管理成本：100%達產(chǎn)占1%；50%達產(chǎn)占

31、1.5%；25%達產(chǎn)占2.0%。本項目投資6850萬元，因本項目的產(chǎn)業(yè)是技術進步快的產(chǎn)業(yè)，更新?lián)Q代快，所以全部資產(chǎn)加速折舊，以五年內(nèi)全部折完計（建設兩年，達產(chǎn)三年），生產(chǎn)年平均折舊2283.3萬元。項目投產(chǎn)后，工作人員約60人，人均工資以3000元/月計。據(jù)以上條件計算如下：100%達產(chǎn)，利稅計算：25000×（100%-10%-20%-1%）-2283.3=17250-2283.3=14966.7(萬元)；50%達產(chǎn)，利稅計算：25000×50%（100%-25%-10%-1.5%）-2283.8=7937.5-2283.3=5654.2(萬元)；25%達產(chǎn)，利稅計算：2

32、5000×25%（100%-30%-10%-2%）-2283.3=3625-2283.3=1341.7(萬元)；盈虧點計算：即盈虧點產(chǎn)量為1575噸，年銷售收入為：3937.5萬元。由以上分析可知，本項目由于其技術含量高，產(chǎn)品附加值高，有著很強的抗風險能力。（五）項目環(huán)境安全風險分析超凈高純試劑的生產(chǎn)要求潔凈的環(huán)境，基本不會產(chǎn)生污染，但如不合理處理，必然破壞大好環(huán)境。本項目的超凈高純試劑生產(chǎn)中，廢水、廢氣、固體廢物都有產(chǎn)生，且以廢水為主。本項目生產(chǎn)中產(chǎn)生的廢氣，主要是蒸餾尾氣，這部分尾氣在生產(chǎn)工藝設備設計中已考慮解決，將尾氣回收利用，不但解決了環(huán)境污染問題，而且一定程度上可降低生產(chǎn)成本。本項目生產(chǎn)中產(chǎn)生的固體廢渣很少，主要是用過的濾膜，每年約在200公斤左右，都是塑料制品，清洗后可作廢塑料回收。本項目產(chǎn)生的廢水量較大，預計達產(chǎn)后將達每天200噸，這些廢水的組成有三種情況：其一，是量最大的洗容器用的沖洗水，約占90%以上，這部分