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文檔簡介

1、一.填空題1 .能帶中載流子的有效質(zhì)量反比于能量函數(shù)對于波矢的,引入有效質(zhì)量的意義在于其反映了晶體材料的的作用。(二階導(dǎo)數(shù),內(nèi)部勢場)2 .半導(dǎo)體導(dǎo)帶中的電子濃度取決于導(dǎo)帶的(即量子態(tài)按能量如何分布)和(即電子在不同能量的量子態(tài)上如何分布)。(狀態(tài)密度,費(fèi)米分布函數(shù))3 .兩種不同半導(dǎo)體接觸后,費(fèi)米能級較高的半導(dǎo)體界面一側(cè)帶電,達(dá)到熱平衡后兩者的費(fèi)米能級。(正,相等)4 .半導(dǎo)體硅的價(jià)帶極大值位于空間第一布里淵區(qū)的中央,其導(dǎo)帶極小值位于方向上距布里淵區(qū)邊界約0.85倍處,因此屬于半導(dǎo)體。(100,間接帶隙)5 .間隙原子和空位成對出現(xiàn)的點(diǎn)缺陷稱為;形成原子空位而無間隙原子的點(diǎn)缺陷稱為。(弗侖克

2、耳缺陷,肖特基缺陷)6 .在一定溫度下,與費(fèi)米能級持平的量子態(tài)上的電子占據(jù)概率為,高于費(fèi)米能級2kT能級處的占據(jù)概率為。(1/2,1/1+exp(2)7 .從能帶角度來看,錯(cuò)、硅屬于半導(dǎo)體,而神化稼屬于半導(dǎo)體,后者有利于光子的吸收和發(fā)射。(間接帶隙,直接帶隙)8 .通常把服從的電子系統(tǒng)稱為非簡并性系統(tǒng),服從的電子系統(tǒng)稱為簡并性系統(tǒng)。(玻爾茲曼分布,費(fèi)米分布)9 .對于同一種半導(dǎo)體材料其電子濃度和空穴濃度的乘積與有關(guān),而對于不同的半導(dǎo)體材料其濃度積在一定的溫度下將取決于的大小。(溫度,禁帶寬度)10 .半導(dǎo)體的晶格結(jié)構(gòu)式多種多樣的,常見的Ge和Si材料,其原子均通過共價(jià)鍵四面體相互結(jié)合,屬于結(jié)構(gòu)

3、;與Ge和Si晶格結(jié)構(gòu)類似,兩種不同元素形成的化合物半導(dǎo)體通過共價(jià)鍵四面體還可以形成和纖鋅礦等兩種晶格結(jié)構(gòu)。(金剛石,閃鋅礦)11 .如果電子從價(jià)帶頂躍遷到導(dǎo)帶底時(shí)波矢k不發(fā)生變化,則具有這種能帶結(jié)構(gòu)的半導(dǎo)體稱為禁帶半導(dǎo)體,否則稱為禁帶半導(dǎo)體。(直接,間接)12 .半導(dǎo)體載流子在輸運(yùn)過程中,會受到各種散射機(jī)構(gòu)的散射,主要散射機(jī)構(gòu)有、中性雜質(zhì)散射、位錯(cuò)散射、載流子間的散射和等價(jià)能谷間散射。(電離雜質(zhì)的散射,晶格振動(dòng)的散射)13 .半導(dǎo)體中的載流子復(fù)合可以有很多途徑,主要有兩大類:的直接復(fù)合和通過禁帶內(nèi)的進(jìn)行復(fù)合。(電子和空穴,復(fù)合中心)14 .反向偏置pn結(jié),當(dāng)電壓升高到某值時(shí),反向電流急劇增加

4、,這種現(xiàn)象稱為pn結(jié)擊穿,主要的擊穿機(jī)理有兩種:擊穿和擊穿。(雪崩,隧道)15 .雜質(zhì)可顯著改變載流子濃度;雜質(zhì)可顯著改變非平衡載流子的壽命,是有效的復(fù)合中心。(淺能級,深能級)選擇題1.本征半導(dǎo)體是指(A.不含雜質(zhì)和缺陷A)的半導(dǎo)體。B.電阻率最高C.電子密度和空穴密度相等D.電子密度與本征載流子密度相等2 .如果一半導(dǎo)體的導(dǎo)帶中發(fā)現(xiàn)電子的幾率為零,那么該半導(dǎo)體必定(D)。A.不含施主雜質(zhì)B.不含受主雜質(zhì)C.不含任何雜質(zhì)D.處于絕對零度3 .有效復(fù)合中心的能級必靠近(A)。A.禁帶中部B.導(dǎo)帶C.價(jià)帶D.費(fèi)米能級4 .對于只含一種雜質(zhì)的非簡并n型半導(dǎo)體,費(fèi)米能級Ef隨溫度上升而(D)。A.單

5、調(diào)上升B.單調(diào)下降C.經(jīng)過一個(gè)極小值趨近EiD.經(jīng)過一個(gè)極大值趨近Ei5 .當(dāng)一種n型半導(dǎo)體的少子壽命由直接輻射復(fù)合決定時(shí),其小注入下的少子壽命正比于(A)。A.1/n0B.1/nC.1/p0D.1/p6 .在Si材料中摻入P,則引入的雜質(zhì)能級(B)A.在禁帶中線處B.靠近導(dǎo)帶底C.靠近價(jià)帶頂D.以上都不是*.7 .公式q/m中的。是半導(dǎo)體載流子的(C)。A.遷移時(shí)間B.壽命C.平均自由時(shí)間D.擴(kuò)散時(shí)間D)靠近Ei。8 .對于一定的n型半導(dǎo)體材料,溫度一定時(shí),減少摻雜濃度,將導(dǎo)致(A.EcB.EvC.EgD.Ef9.在晶體硅中摻入元素(A.錯(cuò)B.磷B)雜質(zhì)后,能形成N型半導(dǎo)體。C.硼D.錫10

6、 .對大注入條件下,在一定的溫度下,非平衡載流子的壽命與(A.平衡載流子濃度成正比C.平衡載流子濃度成反比B.非平衡載流子濃度成正比D.非平衡載流子濃度成反比11 .重空穴是指(C)A.質(zhì)量較大的原子組成的半導(dǎo)體中的空穴B.價(jià)帶頂附近曲率較大的等能面上的空穴C.價(jià)帶頂附近曲率較小的等能面上的空穴D.自旋一軌道耦合分裂出來的能帶上的空穴12 .電子在導(dǎo)帶能級中分布的概率表達(dá)式是(C)。A.exp("k0TB.exp(EcEd)C.exp(EcEf)d.exp(-EF-Ec)k0Tk0Tk0T13.如在半導(dǎo)體中以長聲學(xué)波為主要散射機(jī)構(gòu)是,電子的遷移率n與溫度的(B)。A.平方成正比C.平

7、方成反比3,、,、一一B.士次萬成反比23,、D.一次方成正比214 .把磷化錢在氮?dú)夥罩型嘶?,會有氮取代部分的磷,這會在磷化錢中出現(xiàn)(D)。A.改變禁帶寬度B.產(chǎn)生復(fù)合中心C.產(chǎn)生空穴陷阱D.產(chǎn)生等電子陷阱15 .一般半導(dǎo)體器件使用溫度不能超過一定的溫度,這是因?yàn)檩d流子濃度主要來源于,而將忽略不計(jì)。(A)A.雜質(zhì)電離,本征激發(fā)B.本征激發(fā),雜質(zhì)電離C.施主電離,本征激發(fā)D.本征激發(fā),受主電離16.一塊半導(dǎo)體壽命°=15從比照在材料中會產(chǎn)生非平衡載流子,光照突然停止30因后,其中非平衡載流子將衰減到原來的(C)。A.1/4B.1/eC.1/e2D.1/217 .半導(dǎo)體中由于濃度差引起

8、的載流子的運(yùn)動(dòng)為(B)。A.漂移運(yùn)動(dòng)B.擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)C.熱運(yùn)動(dòng)D.共有化運(yùn)動(dòng)18 .硅導(dǎo)帶結(jié)構(gòu)為(D)。A.位于第一布里淵區(qū)內(nèi)沿<100>方向的6個(gè)球形等能面B. 一半位于第一布里淵區(qū)內(nèi)沿<111>方向的6個(gè)球形等能面C. 一半位于第一布里淵區(qū)內(nèi)沿<111>方向的8個(gè)橢球等能面D.位于第一布里淵區(qū)內(nèi)沿<100>方向的6個(gè)橢球等能面19 .雜質(zhì)半導(dǎo)體中的載流子輸運(yùn)過程的散射機(jī)構(gòu)中,當(dāng)溫度升高時(shí),電離雜質(zhì)散射的概率和晶格振動(dòng)聲子的散射概率的變化分別是(B)。A.變大,變小B.變小,變大C.變小,變小D.變大,變大20 .與半導(dǎo)體相比較,絕緣體的價(jià)帶電子激

9、發(fā)到導(dǎo)帶所需的能量(A)。A.比半導(dǎo)體的大B.比半導(dǎo)體的小C.與半導(dǎo)體的相等D.不確定21 .一般半導(dǎo)體它的價(jià)帶頂位于,而導(dǎo)帶底位于。(D)A.波矢k=0或附近,波矢kw0B.波矢kw0,波矢k=0或附近C.波矢k=0,波矢kw0D.波矢k=0或附近,波矢kw0或k=022 .錯(cuò)的晶格結(jié)構(gòu)和能帶結(jié)構(gòu)分別是(C)。A.金剛石型和直接禁帶型B.閃鋅礦型和直接禁帶型C.金剛石型和間接禁帶型D.閃鋅礦型和間接禁帶型23 .如果雜質(zhì)既有施主的作用又有受主的作用,則這種雜質(zhì)稱為(D)。A.施主B.復(fù)合中心C.陷阱D.兩性雜質(zhì)24 .雜質(zhì)對于半導(dǎo)體導(dǎo)電性能有很大影響,下面哪兩種雜質(zhì)分別摻雜在硅中能顯著地提高

10、硅的導(dǎo)電性能(C)。A.硼或鐵B.鐵或銅C.硼或磷D.金或銀Ef相等時(shí),電離施主的濃度為施主濃度的(C.1/3D.1/4)倍;25 .當(dāng)施主能級Ed與費(fèi)米能級A.1B.1/226 .同一種施主雜質(zhì)摻入甲、乙兩種半導(dǎo)體,如果甲的相對介電常數(shù)值是乙的2倍,那么用類氫模型計(jì)算結(jié)果是(D)。a是乙的3/4,mn*/m03/4B.甲的施主雜質(zhì)電離能是乙的3/2,弱束縛電子基態(tài)軌道半徑為乙的32/9C.甲的施主雜質(zhì)電離能是乙的D.甲的施主雜質(zhì)電離能是乙的16/3,弱束縛電子基態(tài)軌道半徑為乙的8/332/9,的弱束縛電子基態(tài)軌道半徑為乙的3/827.本征半導(dǎo)體費(fèi)米能級的表達(dá)式是。(B)A.EcEvk

11、6;T,Ndln222NcEcEvk°T|Nvln-22NccC.Ecck0TlnNdD.EcEvA.甲的施主雜質(zhì)電離能是乙的8/3,弱束縛電子基態(tài)軌道半徑為乙的28 .載流子在電場作用下的運(yùn)動(dòng)為(AD.共有化運(yùn)動(dòng)A.漂移運(yùn)動(dòng)B.擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)C.熱運(yùn)動(dòng)29 .下面情況下的材料中,室溫時(shí)功函數(shù)最大的是(A)。A.含硼1x1015cm3的硅B.含磷1x1016cm3的硅C.含硼1x1015cm3,磷1x1016cm3的硅D.純凈的硅30 .一般可以認(rèn)為,在溫度不很高時(shí),能量大于費(fèi)米能級的量子態(tài)基本上,而能量小于費(fèi)米能級的量子態(tài)基本上為,而電子占據(jù)費(fèi)米能級的概率在各種溫度下總是,所以費(fèi)米能級的

12、位置比較直觀地標(biāo)志了電子占據(jù)量子態(tài)的情況,通常就說費(fèi)米能級標(biāo)志了電子填充能級的水平。(A)A.沒有被電子占據(jù),電子所占據(jù),1/2B.電子所占據(jù),沒有被電子占據(jù),1/2C.沒有被電子占據(jù),電子所占據(jù),1/3D.電子所占據(jù),沒有被電子占據(jù),1/3三.簡答題1 .簡要說明費(fèi)米能級的定義、作用和影響因素。答:電子在不同能量量子態(tài)上的統(tǒng)計(jì)分布概率遵循費(fèi)米分布函數(shù):f(E)expEEfkT費(fèi)米能級Ef是確定費(fèi)米分布函數(shù)的一個(gè)重要物理參數(shù),在絕對零度是,費(fèi)米能級Ef反映了未占和被占量子態(tài)的能量分界線,在某有限溫度時(shí)的費(fèi)米能級Ef反映了量子態(tài)占據(jù)概率為二分之一時(shí)的能量位置。確定了一定溫度下的費(fèi)米能級Ef位置,

13、電子在各量子態(tài)上的統(tǒng)計(jì)分布就可完全確定。費(fèi)米能級Ef的物理意義是處于熱平衡狀態(tài)的電子系統(tǒng)的化學(xué)勢,即在不對外做功的情況下,系統(tǒng)中增加一個(gè)電子所引起的系統(tǒng)自由能的變化。半導(dǎo)體中的費(fèi)米能級Ef一般位于禁帶內(nèi),具體位置和溫度、導(dǎo)電類型及摻雜濃度有關(guān)。只有確定了費(fèi)米能級Ef就可以統(tǒng)計(jì)得到半導(dǎo)體導(dǎo)帶中的電子濃度和價(jià)帶中的空穴濃度。2 .在本征半導(dǎo)體中進(jìn)行有意摻雜各種元素,可改變材料的電學(xué)性能。請解釋什么是淺能級雜質(zhì)、深能級雜質(zhì),它們分別影響半導(dǎo)體哪些主要性質(zhì);什么是雜質(zhì)補(bǔ)償?雜質(zhì)補(bǔ)償?shù)囊饬x何在?答:淺能級雜質(zhì)是指其雜質(zhì)電離能遠(yuǎn)小于本征半導(dǎo)體的禁帶寬度的雜質(zhì)。它們電離后將成為帶正電(電離施主)或帶負(fù)電(電

14、離受主)的離子,并同時(shí)向?qū)峁╇娮踊蛳騼r(jià)帶提供空穴。它可有效地提高半導(dǎo)體的導(dǎo)電能力。摻雜半導(dǎo)體又分為n型半導(dǎo)體和p型半導(dǎo)體。深能級雜質(zhì)是指雜質(zhì)所在的能級位置在禁帶中遠(yuǎn)離導(dǎo)帶或價(jià)帶,在常溫下很難電離,不能對導(dǎo)帶的電子或價(jià)帶的空穴的濃度有所貢獻(xiàn),但它可以提供有效的復(fù)合中心,在光電子開關(guān)器件中有所應(yīng)用。當(dāng)半導(dǎo)體中既有施主又有受主時(shí),施主和受主將先互相抵消,剩余的雜質(zhì)最后電離,這就是雜質(zhì)補(bǔ)償。利用雜質(zhì)補(bǔ)償效應(yīng),可以根據(jù)需要改變半導(dǎo)體中某個(gè)區(qū)域的導(dǎo)電類型,制造各種器件。3 .什么叫受主?什么叫受主電離?受主電離前后有何特征?答:半導(dǎo)體中摻入受主雜質(zhì)后,受主電離后將成為帶負(fù)電的離子,并同時(shí)向價(jià)帶提供空穴

15、,這種雜質(zhì)就叫受主。受主電離成為帶負(fù)電的離子(中心)的過程就叫受主電離。受主電離前帶不帶電,電離后帶負(fù)電。4 .什么叫復(fù)合中心?何謂間接復(fù)合過程?有哪四個(gè)微觀過程?試說明每個(gè)微觀過程和哪些參數(shù)有關(guān)。答:半導(dǎo)體內(nèi)的雜質(zhì)和缺陷能夠促進(jìn)復(fù)合,稱這些促進(jìn)復(fù)合的雜質(zhì)和缺陷為復(fù)合中心;間接復(fù)合:非平衡載流子通過復(fù)合中心的復(fù)合;四個(gè)微觀過程:俘獲電子,發(fā)射電子,俘獲空穴,發(fā)射空穴;俘獲電子:和導(dǎo)帶電子濃度和空穴復(fù)合中心濃度有關(guān)。發(fā)射電子:和復(fù)合中心能級上的電子濃度。俘獲空穴:和復(fù)合中心能級上的電子濃度和價(jià)帶空穴濃度有關(guān)。發(fā)射空穴:和空的復(fù)合中心濃度有關(guān)。5 .漂移運(yùn)動(dòng)和擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)有什么不同?兩者之間有什么聯(lián)系

16、?答:漂移運(yùn)動(dòng)是載流子在外電場的作用下發(fā)生的定向運(yùn)動(dòng),而擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)是由于濃度分布不均勻?qū)е螺d流子從濃度高的地方向濃度底的方向的定向運(yùn)動(dòng)。前者的推動(dòng)力是外電場,后者的推動(dòng)力則是載流子的分布引起的。漂移運(yùn)動(dòng)與擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)之間通過遷移率與擴(kuò)散系數(shù)相聯(lián)系。而非簡并半導(dǎo)體的遷移率與擴(kuò)散系數(shù)則通過愛因斯坦關(guān)系相聯(lián)系,二者的比值與溫度成反比關(guān)系。即_q_DkoT6 .簡要說明pn結(jié)空間電荷區(qū)如何形成?答:當(dāng)p型半導(dǎo)體和n型半導(dǎo)體結(jié)合形成pn結(jié)時(shí),由于兩者之間存在載流子濃度梯度,從而導(dǎo)致了空穴從p區(qū)到n區(qū)、電子從n區(qū)到p區(qū)的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)。對于p區(qū),空穴離開后留下了不可動(dòng)的帶負(fù)電荷的電離受主,因此在p區(qū)一側(cè)出現(xiàn)了一個(gè)負(fù)電

17、荷區(qū);同理對于n區(qū),電子離開后留下了不可動(dòng)的帶正電荷的電離施主,因此在n區(qū)一側(cè)出現(xiàn)了一個(gè)正電荷區(qū)。這樣帶負(fù)電荷的電離受主和帶正電荷的電離施主形成了一個(gè)空間電荷區(qū),并產(chǎn)生了從n區(qū)指向p區(qū)的內(nèi)建電場。在內(nèi)建電場作用下,載流子的漂移運(yùn)動(dòng)和擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)方向相反,內(nèi)建電場阻礙載流子的擴(kuò)散運(yùn)動(dòng)。隨內(nèi)建電場增強(qiáng),載流子的擴(kuò)散和漂移達(dá)到動(dòng)態(tài)平衡。此時(shí)就形成了一定寬度的空間電荷區(qū),并在空間電荷區(qū)兩端產(chǎn)生了電勢差,即pn結(jié)接觸電勢差。7 .簡要說明載流子有效質(zhì)量的定義和作用。2答:能帶中電子或空穴的有效質(zhì)量m的定義式為:m一一d2E(k)dk2有效質(zhì)量m與能量函數(shù)E(k)對于波矢k的二次微商,即能帶在某處的曲率成反比

18、;能帶越窄,曲率越小,有效質(zhì)量越大,能帶越寬,曲率越大,有效質(zhì)量越?。辉谀軒ы敳?,曲率小于零,則有效質(zhì)量為負(fù)值,在能帶底部,曲率大于零,則有效質(zhì)量為正值。有效質(zhì)量的意義在于它概括了內(nèi)部勢場的作用,使得在解決半導(dǎo)體中載流子在外場作用下的運(yùn)動(dòng)規(guī)律時(shí),可以不涉及內(nèi)部勢場的作用。8 .對于摻雜的元素半導(dǎo)體Si、Ge中,一般情形下對載流子的主要散射機(jī)構(gòu)是什么?寫出其主要散射機(jī)構(gòu)所決定的散射幾率和溫度的關(guān)系。答:對摻雜的元素半導(dǎo)體材料Si、Ge,其主要的散射機(jī)構(gòu)為長聲學(xué)波散射和電離雜質(zhì)散射其散射幾率和溫度的關(guān)系為:3/23/2聲學(xué)波散射:psT,電離雜質(zhì)散射:RNiT9 .說明能帶中載流子遷移率的物理意義

19、和作用。答:載流子遷移率反映了單位電場強(qiáng)度下載流子的平均漂移速度,其定義式為:Vd、2A/j一r;其單位為:cm/VsE半導(dǎo)體載流子遷移率的計(jì)算公式為:qm其大小與能帶中載流子的有效質(zhì)量成反比,與載流子連續(xù)兩次散射間的平均自由時(shí)間成正比。確定了載流子遷移率和載流子濃度就可確定該載流子的電導(dǎo)率。四.證明題1 .試推證:對于只含一種復(fù)合中心的間接帶隙半導(dǎo)體晶體材料,在穩(wěn)定條件下非平衡載流子的凈復(fù)合率公式.2UNj/pniprnnnirpppi證:題中所述情況,主要是間接復(fù)合起作用,包含以下四個(gè)過程。甲:電子俘獲率=rnn(Nt-nt)乙:電子產(chǎn)生率=rnnintni=niexp(Et-Ei)/koT)丙:空穴俘獲率=rppnt?。嚎昭óa(chǎn)生率=rppi(Nt-nt)pi=niexp(Ei-Et)/koT)穩(wěn)定情況下凈復(fù)合率U=甲-乙=丙-丁(1)穩(wěn)定時(shí)甲+丁=丙+乙將四個(gè)過程的表達(dá)式代入上式解得ntNtnrnpjprn(nni)rp(ppi)將四個(gè)過程的表達(dá)式和(

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