干膜技術(shù)資料ppt課件

1、干膜技術(shù)資料中山市藍(lán)圖佳科技中山市藍(lán)圖佳科技 工程師：工程師： 袁斌袁斌電路圖形轉(zhuǎn)移資料的演化v印制電路圖形的轉(zhuǎn)移所運(yùn)用的原資料，自出現(xiàn)印制電路以來(lái)，原資料的研制與開(kāi)發(fā)科學(xué)攻關(guān)任務(wù)從未停頓過(guò)。從原始階段設(shè)計(jì)采用抗蝕油漆或蟲(chóng)膠漆手工描畫(huà)簡(jiǎn)單的線路圖形轉(zhuǎn)移工藝技術(shù)的需求。但隨著微電子技術(shù)的飛速開(kāi)展，大規(guī)模集成電路和超大規(guī)模集成電路的廣泛運(yùn)用，要求印制電路板的制造技術(shù)，必需順應(yīng)高密度、高精度、細(xì)導(dǎo)線、窄間距及小孔徑電路圖形轉(zhuǎn)移需求。幾十年來(lái)，研制與開(kāi)發(fā)出新型的光致抗蝕劑與電路圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)：如光致抗蝕干膜、濕法貼膜技術(shù)、電泳光致抗蝕膜和直接成像技術(shù)，都逐漸地被制造印制電路板商家所采用，使電路圖形的轉(zhuǎn)移

2、質(zhì)量大幅度的提高。為表達(dá)簡(jiǎn)便，就印制電路板制造過(guò)程中，所采用的電路圖形轉(zhuǎn)移原資料，按順序加以簡(jiǎn)單論述：一、液體感光膠： 液體感光膠在印制線路板初期消費(fèi)中，被許多廠家所采用。它具有極明顯的優(yōu)點(diǎn)即配制簡(jiǎn)單、涂層薄、分辨率高和本錢(qián)較低等。這些液體感光膠主體樹(shù)脂最初采用以骨膠、聚乙烯醇膠為主。前者的主要缺陷是質(zhì)量不穩(wěn)定，控制厚度困難，與基材銅箔的外表敷形程度不太理想；后者雖然敷形程度好，但其涂覆層的厚度難以均勻一致的進(jìn)展控制。它們的分辨率卻是很高的，導(dǎo)線寬度與間距可以到達(dá)0.15-0.05mm。但由于受其涂布方法手搖或涂布離心機(jī)和涂層的非均勻性的限制，以及其抗蝕才干受室內(nèi)環(huán)境的濕度影響較大，不適宜大批

3、量印制電路板的消費(fèi)。 二、光致抗蝕干膜： 光致抗蝕干膜是六十年代后期研制與開(kāi)發(fā)出來(lái)的光成像原資料。由主體樹(shù)脂和光引發(fā)劑或光交聯(lián)劑組成。又根據(jù)感光資料的種類(lèi)的不同，有的添加觸變劑、流平劑、填料等。此種資料的最大特點(diǎn)是分辨率高、抗蝕才干強(qiáng)、涂布均勻、感光層的厚度可制形成25m、分辨率到達(dá)極限值為0.10mm。工序操作簡(jiǎn)單易實(shí)現(xiàn)自動(dòng)化消費(fèi)，適宜大批量印制電路板消費(fèi)。但隨著組裝密度要求越來(lái)越高，印制電路圖形的導(dǎo)細(xì)更細(xì)和間距更窄。采用此類(lèi)光致抗蝕干膜，要制造出0.10-0.076mm導(dǎo)線寬度就顯得更加困難。而且制造出更薄的光致抗蝕干膜，從加工手段分析是不太能夠。所以，基干膜本身厚度與涂覆尺寸的收縮限制再

4、提高是很困難的三、濕法貼膜技術(shù)： v 從本錢(qián)分析，采用干膜法進(jìn)展圖形轉(zhuǎn)移，消費(fèi)中采用此法時(shí)間最長(zhǎng)，而采用濕法貼膜技術(shù)，是最近幾年的事情。它是利用干膜水溶性特點(diǎn)，使膜面部分液體方式排斥基板外表留在缺陷處的氣泡并能填滿和粘著結(jié)實(shí)，經(jīng)濕影后確保細(xì)導(dǎo)線圖形的完好性和一致性。其本質(zhì)是排斥基板面上與干膜間殘留的微氣泡，以免呵斥精細(xì)導(dǎo)線產(chǎn)生質(zhì)量缺陷缺口、針孔、斷線等。其分辨率可到達(dá)0.08mm。但是這種工藝方法也不能夠再繼續(xù)提高其分辨率。 四、陽(yáng)極法電堆積光致抗蝕劑： 印制電路圖形的導(dǎo)線越來(lái)越細(xì)、孔徑越來(lái)越小及孔環(huán)越來(lái)越窄的開(kāi)展趨勢(shì)永無(wú)停頓，芯片間腳間距從1.27mm降到0.75-0.625mm甚至更小。實(shí)

5、踐上焊盤(pán)尺寸僅比孔徑大0.05mm；當(dāng)孔中心距為1.25mm中間布線0.10mm三根導(dǎo)線，此時(shí)焊盤(pán)僅比孔徑大0.12mm。因此焊盤(pán)每邊比孔徑大0.06mm。這種規(guī)格要求的印制電路板無(wú)論是雙面、多層或SMT用印制電路板以及出現(xiàn)BGA板即球柵陣列一種組裝構(gòu)造工藝。就BGA用的多層印制電路板板外層導(dǎo)線寬度為0.10-0.12mm、內(nèi)層導(dǎo)線寬度為0.10mm、間距為0.075mm，其電路圖形的轉(zhuǎn)移采用上述任何原資料都無(wú)法到達(dá)其技術(shù)目的。因此研制與開(kāi)發(fā)更新型的光致抗蝕劑-陽(yáng)極法電堆積光致抗蝕劑ED法其根本原理是將水溶性的有機(jī)酸化合物等溶于槽液內(nèi)，構(gòu)成帶有正、負(fù)荷的有機(jī)樹(shù)脂團(tuán)，而把基板銅箔作為一個(gè)極性類(lèi)似

6、電鍍一樣進(jìn)展“電鍍即電泳，在銅的外表構(gòu)成5-30m光致抗蝕膜層，是可控制的。其分辨率可到達(dá)0.05-0.03mm。這種電路圖形轉(zhuǎn)移資料是很有開(kāi)展出路的工藝方法。當(dāng)然任何新型有圖形轉(zhuǎn)移資料都有它的局限性，隨著高科技的開(kāi)展還會(huì)研制與開(kāi)發(fā)更適宜更佳的原資料。 干膜光致抗蝕的種類(lèi)干膜光致抗蝕的種類(lèi)v概述 ：干膜光致抗蝕劑產(chǎn)生于1968年，而在七十年代初開(kāi)展起來(lái)的i種感光資料，我國(guó)于七十 年代中期開(kāi)場(chǎng)干膜的研制和運(yùn)用，至今已有幾種產(chǎn)品用于印制電路板消費(fèi)，由于干膜具有良好的工藝性能、優(yōu)良的成像性和耐化學(xué)藥品的性能，在圖形電鍍工藝中，它對(duì)于制造精細(xì)細(xì)導(dǎo)線、 提高消費(fèi)率、簡(jiǎn)化工序、改善產(chǎn)質(zhì)量量等方面起到了其它

7、光致抗蝕劑所起不到的作用。運(yùn)用干膜制造印制板有如下特點(diǎn)：v1.有較高的分辨率，普通線寬可做到01mm；v2.干膜運(yùn)用在圖形電鍍工藝中，電鍍加厚在高而垂直的夾壁問(wèn)進(jìn)展，在鍍層厚度小于 抗 蝕劑厚度時(shí)，可以防止產(chǎn)生鍍層突延和防止去膜時(shí)抗蝕劑嵌入鍍層下面，保證線條精度；v3.干膜的厚度和組成一致，防止成像時(shí)的不延續(xù)性，可靠性高；v4.運(yùn)用干膜，大大簡(jiǎn)化了印制板制造工序，有利于實(shí)現(xiàn)機(jī)械化、自動(dòng)化。 干膜光致抗蝕劑種類(lèi) v根據(jù)顯影和去膜的方法可把干膜分為三種類(lèi)型：v1.溶劑型干膜運(yùn)用有機(jī)溶劑作顯影劑和去膜劑，例如用111三氯乙烷顯影，二氯甲烷去膜，這兩種溶 劑遇火不熄滅。醋酸丁酯等有機(jī)溶劑也可用作顯影和

8、去膜，但易熄滅，很不平安。 溶劑型干膜是美國(guó)最早研制并投入大量消費(fèi)的一種干膜，我國(guó)早期也研制過(guò)。它的優(yōu)點(diǎn)是 技術(shù)成熟，工藝穩(wěn)定，耐酸耐堿，運(yùn)用范圍廣。但是，運(yùn)用這種干膜需求耗費(fèi)大量的有機(jī)溶劑，需 要價(jià)錢(qián)昂貴的顯影和去膜設(shè)備及輔助安裝，消費(fèi)本錢(qián)高，溶劑有毒，污染環(huán)境，所以日趨以水溶 性干膜所取代，僅在特殊要求時(shí)才運(yùn)用。v 2. 水溶型干膜它包括半水溶性和全水溶性兩種。半水溶性干膜顯影劑和去膜劑以水為主，并加有215的有機(jī)溶劑。全水溶性的干膜顯影劑和去膜劑是堿的水溶液。半水溶性干膜本錢(qián)較低，而 全水溶性干膜的本錢(qián)最低，毒性亦小。v 3.干顯影或剝離型干膜這種干膜不需用任何顯影溶劑，而是利用干膜的感

9、光部分與未感光部分對(duì)聚酯薄膜外表 和加工工件外表附著力的差別，在從曝光板上撕下聚酷薄膜時(shí)，未曝光的不需求的干膜隨聚酯 薄膜剝離下來(lái)，在加工工件外表留下已曝光的干膜；由此得到所需求的干膜圖像。v v根據(jù)干膜的用途，可把干膜分為抗蝕干膜、掩孔干膜和阻焊干膜，抗蝕干膜和掩孔干膜用 作制造印制板圖像，而阻焊干膜是涂覆在印制板廢品板的外表上，有選擇地維護(hù)印制板外表， 以便在焊接元器件時(shí)，防止導(dǎo)線和焊盤(pán)問(wèn)的短路、橋接，它也是印制板外表的永久性維護(hù)層，能 起到防潮、防霉、防鹽霧等作用。由于阻焊干膜的本錢(qián)高，并且在運(yùn)用中需求昂貴的真空貼膜 設(shè)備，因此被近年來(lái)飛速開(kāi)展的液體感光阻焊劑所替代。 干膜光致抗蝕劑的構(gòu)

10、造、感光膠層的主要成分及作用干膜光致抗蝕劑的構(gòu)造、感光膠層的主要成分及作用v干膜光致抗蝕劑的構(gòu)造干膜光致抗蝕劑的構(gòu)造 干膜光致抗蝕劑由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯維護(hù)膜三部干膜光致抗蝕劑由聚酯薄膜，光致抗蝕劑膜及聚乙烯維護(hù)膜三部分組成。分組成。 聚酯薄膜是支撐感光膠層的載體，使之涂布成膜，厚度聚酯薄膜是支撐感光膠層的載體，使之涂布成膜，厚度通常為通常為25m左右。聚酯薄膜在曝左右。聚酯薄膜在曝 光之后顯影之前除去，防止曝光之后顯影之前除去，防止曝光時(shí)氧氣向抗蝕劑層分散，破壞游離基，引起感光度下降。光時(shí)氧氣向抗蝕劑層分散，破壞游離基，引起感光度下降。 聚乙聚乙烯膜是復(fù)蓋在感光膠層上的維護(hù)膜，防

11、止灰塵等污物粘污干膜，烯膜是復(fù)蓋在感光膠層上的維護(hù)膜，防止灰塵等污物粘污干膜，防止在卷膜時(shí)，每層防止在卷膜時(shí)，每層 抗蝕劑膜之間相互粘連。聚乙烯膜普通厚度抗蝕劑膜之間相互粘連。聚乙烯膜普通厚度為為25m左右。左右。 光致抗蝕劑膜為干膜的主體，多為負(fù)性感光資料，光致抗蝕劑膜為干膜的主體，多為負(fù)性感光資料，其厚度視其用途不同，有假設(shè)干種規(guī)格，最薄的可以是十幾個(gè)微其厚度視其用途不同，有假設(shè)干種規(guī)格，最薄的可以是十幾個(gè)微米，最厚的可達(dá)米，最厚的可達(dá)100m。v 干膜光致抗蝕劑的制造是先把預(yù)先配制好的感光膠在高清潔度的干膜光致抗蝕劑的制造是先把預(yù)先配制好的感光膠在高清潔度的條件下，在高精度的涂條件下，在

12、高精度的涂 布機(jī)上涂覆于聚酯薄膜上，經(jīng)烘道枯燥并布機(jī)上涂覆于聚酯薄膜上，經(jīng)烘道枯燥并冷卻后，覆上聚乙烯維護(hù)膜，卷繞在一個(gè)輥芯上。冷卻后，覆上聚乙烯維護(hù)膜，卷繞在一個(gè)輥芯上。v光致抗蝕劑膜層的主要成分及作用光致抗蝕劑膜層的主要成分及作用 ：我國(guó)大量用于消費(fèi)的是全：我國(guó)大量用于消費(fèi)的是全水溶性干膜，這里引見(jiàn)的是全水溶性干膜感光膠層的組成。水溶性干膜，這里引見(jiàn)的是全水溶性干膜感光膠層的組成。 v1)粘結(jié)劑(成膜樹(shù)脂) 作為光致抗蝕劑的成膜劑，使感光膠各組份粘結(jié)成膜，起抗蝕劑偽骨架作用，它在光致聚 合過(guò)程中不參與化學(xué)反響。 要求粘結(jié)劑具有較好的成膜性；與光致抗蝕劑的各組份有較好的互溶性；與加工金屬外表

13、 有較好的附著力；它很容易從金屬外表用堿溶液除去；有較好的抗蝕、抗電鍍、抗冷流、耐熱等 性能。 粘結(jié)劑通常是酯化或酰胺化的聚苯乙烯順丁烯二酸酐樹(shù)脂(聚苯丁樹(shù)脂)。 v2)光聚合單體 它是光致抗蝕劑膠膜的主要組份，在光引發(fā)劑的存在下，經(jīng)紫外光照射發(fā)生聚合反響，生 成體型聚合物，感光部分不溶于顯影液，而未曝光部分可經(jīng)過(guò)顯影除去，從而構(gòu)成抗蝕圖像。多 元醇烯酸酯類(lèi)及甲基丙烯酸酯類(lèi)是廣泛運(yùn)用的聚合單體，例如季戊四醇三丙烯酸酯是較好的 光聚合單體。 v3)光引發(fā)劑在紫外光線照射下，光引發(fā)劑吸收紫外光的能量產(chǎn)生游離基，而游離基進(jìn)一步引發(fā)光聚合 單體交聯(lián)。干膜光致抗蝕劑通常運(yùn)用安息香醚、叔丁基恿醌等作光引發(fā)

14、劑。v4)增塑劑 可添加干膜抗蝕劑的均勻性和柔韌性。三乙二醇雙醋酸脂可作為增塑劑。 v5)增粘劑 可添加干膜光致抗蝕劑與銅外表的化學(xué)結(jié)合力，防止因粘結(jié)不牢引起膠膜起翹、滲鍍等弊 病。常用的增粘劑如苯并三氮唑。 v6)熱阻聚劑 在干膜的消費(fèi)及運(yùn)用過(guò)程中，很多步驟需求接受熱能，為阻止熱能對(duì)干膜的聚協(xié)作用參與 熱阻聚劑。如甲氧基酚、對(duì)苯二酚等均可作為熱阻聚劑。v7)色料 為使干膜呈現(xiàn)艷麗的顏色，便于修版和檢查而添加色料。如參與孔雀石綠、蘇丹三等色料 使干膜呈現(xiàn)艷麗的綠色、蘭色等。v8)溶劑為溶解上述各組份必需運(yùn)用溶劑。通常采用丙酮、酒精作溶劑。 此外有些種類(lèi)的干膜還參與光致變色劑，使之在曝光后增色或

15、減色，以鑒別能否曝光，這 種干膜又叫變色于膜。什么是圖像轉(zhuǎn)移什么是圖像轉(zhuǎn)移v制造印制板過(guò)程中的一道工序就是將照相底版上的電路圖像轉(zhuǎn)移到覆銅箔層壓板上，構(gòu)成一種抗蝕或抗電鍍的掩膜圖像?？刮g圖像用于“印制蝕刻工藝，即用維護(hù)性的抗蝕資料在覆銅箔層壓板上構(gòu)成正相圖像，那些未被抗蝕劑維護(hù)的不需求的銅箔，在隨后的化學(xué)蝕刻工序中被去掉，蝕刻后去除抗蝕層，便得到所需的裸銅電路圖像。而抗電鍍圖像用于“圖形電鍍工藝，即用維護(hù)性的抗蝕資料在覆銅層壓板上構(gòu)成負(fù)相圖像，使所需求的圖像是銅外表，經(jīng)過(guò)清潔、粗化等處置后，在其上電鍍銅或電鍍金屬維護(hù)層(錫鉛、錫鎳、錫、金等)，然后去掉抗蝕層進(jìn)展蝕刻，電鍍的金屬維護(hù)層在蝕刻工序

16、中起抗蝕作用。v以上兩種工藝過(guò)過(guò)程概括如下： v印制蝕刻工藝流程：v下料板面清潔處置涂濕膜曝光顯影貼干膜曝光顯影蝕刻去膜進(jìn)入下工序v畋形電鍍工藝過(guò)程概括如下：v下料鉆孔孔金屬化預(yù)鍍銅板面清潔涂濕膜曝光顯影貼干膜曝光顯影構(gòu)成負(fù)相圖象圖形鍍銅圖形電鍍金屬抗蝕層去膜蝕刻進(jìn)入下工序 v圖像轉(zhuǎn)移有兩種方法，一種是網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移，一種是光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移。網(wǎng)印圖像轉(zhuǎn)移比光 化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移本錢(qián)低，在消費(fèi)批量大的情況下更是如此，但是網(wǎng)印抗蝕印料通常只能制造大于 或等于o25mm的印制導(dǎo)線，而光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移所用的光致抗蝕劑朗制造分辨率高的明晰圖 像。本章所述內(nèi)容為后一種方法。光化學(xué)圖像轉(zhuǎn)移需求運(yùn)用光致抗蝕劑，下面引見(jiàn)有

17、關(guān)光致抗蝕劑的一些根本知識(shí)v1)光致抗蝕劑：用光化學(xué)方法獲得的，能抵抗住某種蝕刻液或電鍍?nèi)芤航g 的感光資料。v2)正性光致抗蝕劑：光照射部分分解(或軟化)，曝光顯影之后，能把消費(fèi)用照相底版上透 明 的部分從板面上除去。v3)負(fù)性光致抗蝕劑：光照射部分聚合(或交聯(lián))，曝光顯影之后，能把消費(fèi)用照相底版上透 明的部分保管在板面上。v4)光致抗蝕劑的分類(lèi)：按用途分為耐蝕刻抗蝕劑和耐電鍍抗蝕劑。按顯影類(lèi)型分為全水溶性抗蝕劑、半水溶性抗蝕劑和溶劑性抗蝕劑。v按物理形狀分為液體抗蝕劑和干膜抗蝕劑v按感光類(lèi)型分為正性抗蝕劑和負(fù)性抗蝕劑。 液體光抗蝕劑液體光抗蝕劑(濕膜濕膜)v液體光致抗蝕劑液體光致抗蝕劑(簡(jiǎn)

18、稱(chēng)濕膜簡(jiǎn)稱(chēng)濕膜) v液體光致抗蝕劑液體光致抗蝕劑(也稱(chēng)濕膜也稱(chēng)濕膜)是國(guó)外九十年代初開(kāi)展的一種新是國(guó)外九十年代初開(kāi)展的一種新型感光資料。隨著外表貼裝技術(shù)型感光資料。隨著外表貼裝技術(shù)(SMT)和芯片組裝技術(shù)和芯片組裝技術(shù)(CMT)的開(kāi)展，對(duì)印制板導(dǎo)線精細(xì)程度的要求越來(lái)越高，仍運(yùn)用傳的開(kāi)展，對(duì)印制板導(dǎo)線精細(xì)程度的要求越來(lái)越高，仍運(yùn)用傳統(tǒng)的干膜進(jìn)展圖像轉(zhuǎn)移存在兩個(gè)問(wèn)題。一是干膜感光層上面統(tǒng)的干膜進(jìn)展圖像轉(zhuǎn)移存在兩個(gè)問(wèn)題。一是干膜感光層上面的那層相對(duì)較厚的那層相對(duì)較厚(約為約為25m)的聚酯膜降低了分辨率，使精細(xì)的聚酯膜降低了分辨率，使精細(xì)導(dǎo)線的制造遭到限制。二是覆銅箔板外表，諸如針孔、凹陷、導(dǎo)線的制

19、造遭到限制。二是覆銅箔板外表，諸如針孔、凹陷、劃傷及玻璃纖維呵斥的凹凸不平等微小缺陷，使貼膜時(shí)干膜劃傷及玻璃纖維呵斥的凹凸不平等微小缺陷，使貼膜時(shí)干膜與銅箔無(wú)法嚴(yán)密結(jié)合，構(gòu)成界面性氣泡，進(jìn)而蝕刻時(shí)蝕刻液與銅箔無(wú)法嚴(yán)密結(jié)合，構(gòu)成界面性氣泡，進(jìn)而蝕刻時(shí)蝕刻液會(huì)從干膜底部滲入呵斥圖像的斷線、缺口，電鍍時(shí)電鍍?nèi)芤簳?huì)從干膜底部滲入呵斥圖像的斷線、缺口，電鍍時(shí)電鍍?nèi)芤簭母赡さ撞拷牒浅鉂B鍍。影響了產(chǎn)品的合格率。為處理上從干膜底部浸入呵斥滲鍍。影響了產(chǎn)品的合格率。為處理上述問(wèn)題，開(kāi)發(fā)了液體光致抗蝕劑。述問(wèn)題，開(kāi)發(fā)了液體光致抗蝕劑。 液體光致抗蝕劑主要由高感光性樹(shù)脂、感光劑、色料、填料液體光致抗蝕劑主要由高感

20、光性樹(shù)脂、感光劑、色料、填料及少量溶劑組成?？捎镁W(wǎng)印方式及少量溶劑組成?？捎镁W(wǎng)印方式 涂覆，用稀堿水溶液顯影，涂覆，用稀堿水溶液顯影，可抗酸性及弱堿性蝕刻液蝕刻，可抗酸性鍍銅、氟硼酸鍍錫可抗酸性及弱堿性蝕刻液蝕刻，可抗酸性鍍銅、氟硼酸鍍錫鉛、酸性鉛、酸性 鍍鎳、微氰酸性鍍金等溶液的電鍍。鍍鎳、微氰酸性鍍金等溶液的電鍍。v其運(yùn)用工藝流程為：其運(yùn)用工藝流程為：基板前處置基板前處置涂覆涂覆烘烤烘烤曝光曝光顯影顯影枯燥枯燥蝕刻或電鍍蝕刻或電鍍?nèi)ツとツ?基板前處置基板前處置 v如干膜一節(jié)所述的基板前處置的方法均可適用于液體光致抗蝕劑，但偏重點(diǎn)與干膜有所 區(qū)別?；迩疤幹弥饕翘幚硗獗砬鍧嵍群屯獗泶植诙鹊?/p>

21、問(wèn)題。液體光致抗蝕劑的粘合主要是經(jīng)過(guò)化學(xué)鍵合反響來(lái)完成的。通常液體抗蝕劑是一種以丙 烯酸鹽為根本成分的聚合物，它能夠是經(jīng)過(guò)其可自在挪動(dòng)的未聚合的丙烯酸基團(tuán)與銅結(jié)合，為 保證這種鍵協(xié)作用，銅外表必需新穎、無(wú)氧化且呈未鍵合的自在形狀，再經(jīng)過(guò)適當(dāng)粗化，增大表 面積，便可得到優(yōu)良的粘附力。而干膜具有較高的粘度和較大程度的交聯(lián)，可挪動(dòng)的供化學(xué)鍵 合利用的自在基團(tuán)很少，主要是經(jīng)過(guò)機(jī)械銜接來(lái)完成其粘附過(guò)程。因此液體抗蝕劑偏重要求銅 箔外表的清潔度，而干膜抗蝕劑是偏重要求銅箔外表的微觀粗糙度。 涂覆涂覆 v根據(jù)不同的用途選用不同目數(shù)的網(wǎng)版進(jìn)展涂覆，以得到不同厚度的抗蝕層。實(shí)際闡明：用 于印制蝕刻工藝(如制造多

22、層板內(nèi)層圖像)可選用200目絲網(wǎng)，網(wǎng)印后膜的厚度12土2Mm。用 于圖形電鍍工藝在選用150目一120目絲網(wǎng)，網(wǎng)印后膜的厚度為25土2m，以使鍍層厚度不超越膜層厚度，防止由于鍍層突延壓住圖像邊緣處的抗蝕層，去膜時(shí)又去不掉，呵斥圖像邊緣不整齊。v涂覆最好是在比印制板有效面積每邊大出57mm的范圍內(nèi)進(jìn)展，而不是整板涂覆，以 有利于曝光時(shí)底版定位的牢度，由于底版定位膠帶假設(shè)貼在膜層上，運(yùn)用幾次后粘性便大大降低 容易在曝光抽真空過(guò)程中產(chǎn)生底片偏移，特別是制造多層板內(nèi)層圖像時(shí)，這種偏移不易發(fā)現(xiàn)， 而是要當(dāng)外表層做出圖像并蝕刻后方能看出，但此時(shí)已無(wú)法補(bǔ)救，產(chǎn)品只能報(bào)廢。v涂覆后的板子必需上架，而且板與板之

23、間要有一定間隔，以保證下步烘烤中枯燥的均勻、 徹底。v涂覆方式除了采用網(wǎng)印外，大規(guī)模消費(fèi)的還可以來(lái)用幕簾涂布、滾涂或噴涂等方式涂覆。 烘烤烘烤 v烘烤的溫度和時(shí)間，不同型號(hào)的液體光致抗烘烤的溫度和時(shí)間，不同型號(hào)的液體光致抗蝕劑有不同的要求，可參照闡明書(shū)和詳細(xì)消蝕劑有不同的要求，可參照闡明書(shū)和詳細(xì)消費(fèi)費(fèi) 實(shí)際來(lái)確定。實(shí)際來(lái)確定。v 烘烤方式有烘道和烘箱兩種。用烘箱時(shí)，烘烤方式有烘道和烘箱兩種。用烘箱時(shí)，烘箱一定要帶有鼓風(fēng)和恒溫控制，以使各部烘箱一定要帶有鼓風(fēng)和恒溫控制，以使各部位溫位溫 度比較均勻。烘烤時(shí)間應(yīng)在烘箱到達(dá)度比較均勻。烘烤時(shí)間應(yīng)在烘箱到達(dá)設(shè)定溫度時(shí)開(kāi)場(chǎng)計(jì)算。設(shè)定溫度時(shí)開(kāi)場(chǎng)計(jì)算。 控制好烘烤溫度和控制好烘烤溫度和時(shí)間很重要。烘烤溫度過(guò)高或時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，將時(shí)間很重要。烘烤溫度過(guò)高或時(shí)間過(guò)長(zhǎng)，將難于顯