材料科學(xué)基礎(chǔ)-簡(jiǎn)答題答案_第1頁(yè)
材料科學(xué)基礎(chǔ)-簡(jiǎn)答題答案_第2頁(yè)
材料科學(xué)基礎(chǔ)-簡(jiǎn)答題答案_第3頁(yè)
材料科學(xué)基礎(chǔ)-簡(jiǎn)答題答案_第4頁(yè)
材料科學(xué)基礎(chǔ)-簡(jiǎn)答題答案_第5頁(yè)
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1、材料科學(xué)基礎(chǔ)簡(jiǎn)答題答案要點(diǎn)第二章1.硅酸鹽晶體結(jié)構(gòu)有何共同特點(diǎn)?答:(1)每一個(gè)Si存在于4個(gè)O為頂點(diǎn)的四面體中心,構(gòu)成SiO四面體,它是硅酸鹽晶體結(jié)構(gòu)的基礎(chǔ)(2)SiO四面體的每個(gè)頂點(diǎn),即O最多只能為兩個(gè)SiO四面體所共有(3)兩個(gè)鄰近的SiO四面體之間,如果要聯(lián)結(jié),只以共頂而不以共棱或共面相聯(lián)結(jié)(4)SiO四面體中的Si可以被Al置換形成硅鋁氧骨干,骨干外的金屬離子容易被其它金屬離子置換,置換不同的離子,對(duì)骨干的結(jié)構(gòu)并無(wú)多大的變化,但對(duì)它的性能卻影響很大2.簡(jiǎn)述硅酸鹽晶體的分類(lèi)依據(jù)是什么?可分為幾類(lèi),每類(lèi)的結(jié)構(gòu)特點(diǎn)是什么?答:硅酸鹽晶體結(jié)構(gòu)是按晶體中硅氧四面體在空間的排列方式分為孤島狀、組

2、群狀、鏈狀、層狀和架狀五類(lèi)。這五類(lèi)的SiO4四面體中,橋氧的數(shù)目也依次由0增加至4,非橋氧數(shù)由4減至0。硅離子是高電價(jià)低配位的陽(yáng)離子,因此在硅酸鹽晶體中,SiO4只能以共頂方式相連,而不能以共棱或共面方式相連。3.什么是同質(zhì)多晶?簡(jiǎn)述同質(zhì)多晶轉(zhuǎn)變的類(lèi)型及其各自的特點(diǎn)。答:化學(xué)組成相同的物質(zhì),在不同的熱力學(xué)條件下形成結(jié)構(gòu)不同的晶體現(xiàn)象,稱(chēng)為同質(zhì)多晶。根據(jù)同質(zhì)多晶轉(zhuǎn)變時(shí)速度的快慢和晶體結(jié)構(gòu)變化的不同,可將多晶轉(zhuǎn)變分為位移性轉(zhuǎn)變和重建性轉(zhuǎn)變。前者僅僅是結(jié)構(gòu)畸變,轉(zhuǎn)變前后結(jié)構(gòu)差異小,轉(zhuǎn)變時(shí)并不打開(kāi)任何鍵或改變最鄰近的配位數(shù),只是原子的位置發(fā)生少許位移,使次級(jí)配位有所改變;而后者不能簡(jiǎn)單地通過(guò)原子位移來(lái)

3、實(shí)現(xiàn),轉(zhuǎn)變前后結(jié)構(gòu)差異較大,必須破壞原子間的鍵,形成一個(gè)具有新鍵的結(jié)構(gòu)。4.為什么石英不同系列變體之間的轉(zhuǎn)化溫度比同系列變體之間的轉(zhuǎn)化溫度高得多?答:由于石英不同系列變體之間轉(zhuǎn)變是重建性轉(zhuǎn)變,涉及晶體結(jié)構(gòu)中鍵的破裂和重建;而同一系列變體之間的轉(zhuǎn)變是位移性轉(zhuǎn)變,不涉及晶體結(jié)構(gòu)中鍵的破裂和重建,僅是鍵長(zhǎng)、鍵角的調(diào)整。5.鈦酸鋇是一種重要的鐵電陶瓷,其晶型是鈣鈦礦結(jié)構(gòu),試問(wèn):(a)屬于什么點(diǎn)陣?(b)這個(gè)結(jié)構(gòu)中離子的配位數(shù)為多少?(c)這個(gè)結(jié)構(gòu)遵守鮑林規(guī)則嗎?請(qǐng)做討論。答:(a) 屬于立方面心點(diǎn)陣(b)Ti配位數(shù)為6;Ba配位數(shù)為12;O配位數(shù)為6。(c)遵守鮑林規(guī)則。6.石棉礦如透閃石CaMgSi

4、O(OH)具有纖維狀結(jié)晶習(xí)性,而滑石MgSiO(OH)卻具有片狀結(jié)晶習(xí)性,試解釋為什么?答:透閃石具有雙鏈結(jié)構(gòu),鏈內(nèi)的Si-O鍵要比鏈5的Ca-O、Mg-O鍵強(qiáng)很多,所以很容易沿鏈間結(jié)合力較弱處劈裂成為纖維狀;滑石具有復(fù)網(wǎng)層結(jié)構(gòu),復(fù)網(wǎng)層由兩個(gè)SiO層和中間的水鎂石層結(jié)構(gòu)構(gòu)成,復(fù)網(wǎng)層與復(fù)網(wǎng)層之間靠微弱的分之間作用力聯(lián)系,因分子間力弱,所以易沿分子間力聯(lián)系處解理成片狀。7.石墨、滑石和高嶺石都具有層狀結(jié)構(gòu),請(qǐng)說(shuō)明他們結(jié)構(gòu)的區(qū)別及由此引起的性質(zhì)的差異。答:石墨中同層C原子進(jìn)行SP2雜化,形成大鍵,每一層都是六邊形網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)。由于間隙較大,電子可在同層中運(yùn)動(dòng),可以導(dǎo)電,層間分子間力作用,所以石墨比較軟。

5、滑石具有復(fù)網(wǎng)層結(jié)構(gòu),復(fù)網(wǎng)層由兩個(gè)SiO層和中間的水鎂石層構(gòu)成,即2:1層;由于八面體空隙全部被Mg離子占據(jù),因此該結(jié)構(gòu)也是三八面體型。由于復(fù)網(wǎng)層與復(fù)網(wǎng)層之間靠微弱的分之間作用力聯(lián)系,因分子間力弱,所以易沿分子間力聯(lián)系處解理成片狀。高嶺石具有單網(wǎng)層結(jié)構(gòu),單網(wǎng)層由一個(gè)SiO層和水石層構(gòu)成,即1:1層;由于八面體空隙2/3被Al離子占據(jù),因此該結(jié)構(gòu)也是二八面體型。由于高嶺石層間只能靠物理鍵來(lái)結(jié)合,因此高嶺石也容易解理成片狀小晶體。但單網(wǎng)層平行疊放時(shí),層間靠氫鍵來(lái)結(jié)合,由于氫鍵結(jié)合比分之間力強(qiáng),因此,水分子不易進(jìn)入單網(wǎng)層之間,晶體不會(huì)因?yàn)樗吭黾佣蛎洝?.在硅酸鹽晶體中,Al3+為什么能部分置換硅

6、氧骨架中的Si4+?該置換對(duì)硅酸鹽組成有何影響?答:(1)Al可與O形成AlO;Al與Si處于第二周期,性質(zhì)類(lèi)似,易于進(jìn)入硅酸鹽晶體結(jié)構(gòu)中與Si發(fā)生同晶取代,由于鮑林規(guī)則,只能部分取代;(2)Al置換Si是部分取代,Al取代Si時(shí),結(jié)構(gòu)單元AlSiOASiO,失去了電中性,有過(guò)剩的負(fù)電荷,為了保持電中性,將有一些半徑較大而電荷較低的陽(yáng)離子如K、Ca、Ba進(jìn)入結(jié)構(gòu)中。第三章9.什么是刃位錯(cuò)、螺旋位錯(cuò)?他們的基本區(qū)別是什么?答:刃位錯(cuò):在位錯(cuò)線(xiàn)附近原子失去正常有規(guī)律排列,并滑移一段距離,由此產(chǎn)生的缺陷即是。螺旋位錯(cuò):在位錯(cuò)線(xiàn)附近原子失去正常有規(guī)律排列,產(chǎn)生螺旋位移,這種缺陷即是?;緟^(qū)別:刃位錯(cuò):

7、滑移方向與位錯(cuò)線(xiàn)垂直,位錯(cuò)增加了半片原子面。螺旋位錯(cuò):滑移方向與位錯(cuò)線(xiàn)平行。質(zhì)點(diǎn)以位錯(cuò)線(xiàn)為軸做螺旋狀排列。10.什么是肖特基缺陷、弗蘭克爾缺陷?他們屬于何種缺陷?發(fā)生缺陷時(shí)位置數(shù)各發(fā)生何種變化?答:肖特基缺陷:晶體的結(jié)構(gòu)基元,從正常的結(jié)點(diǎn)位置上位移到晶體的表面而正常位置上出現(xiàn)了空位,這種缺陷即是。位置數(shù)增殖,體積增大。弗蘭克爾缺陷:晶體結(jié)構(gòu)中的結(jié)構(gòu)基元,從正常的結(jié)點(diǎn)位置上位移到晶體的間隙位置上,而正常位置上出現(xiàn)了空位,這種缺陷即是。位置數(shù)不增殖,體積不增大。11.說(shuō)明非化學(xué)計(jì)量化合物與無(wú)限固溶體的異同答:(1)、非化學(xué)計(jì)量化合物與無(wú)限固溶體的共同點(diǎn):(a)都屬于晶體結(jié)構(gòu)缺陷中的點(diǎn)缺陷;(b)相

8、組成均為均勻單相。(2)不同之處在于:(a)形成原因不同。非化學(xué)計(jì)量化合物由氣氛性質(zhì)和壓力變化引起,而無(wú)限固溶體則由摻雜溶解而引起。(b)形成條件不同。前者只有變價(jià)元素氧化物在氧化或還原氣氛中才能形成,而后者則需滿(mǎn)足離子半徑和電負(fù)性差值較小、保持電中性、結(jié)構(gòu)相同等條件才能形成。(c)組成范圍不同。前者的組成變化范圍很小,而后者可以在整個(gè)組成范圍內(nèi)變化。12.TiO和FeO分別為具有陰離子空位和陽(yáng)離子空位的非化學(xué)計(jì)量化合物。試說(shuō)明其導(dǎo)電率和密度隨氧分壓PO變化的規(guī)律。(以缺陷方程幫助說(shuō)明)答:(1)TiO的缺陷反應(yīng)方程為:根據(jù)質(zhì)量守恒定律可得 ,故其密度隨氧分壓增加而增加,而電導(dǎo)率隨氧分壓的增加

9、而減小,與氧分壓的1/6次方成反比。(2)Fe1-xO缺陷反應(yīng)方程式為:根據(jù)質(zhì)量守恒定律可得,故其密度隨氧分壓增加而下降,而電導(dǎo)率隨氧分壓的增加而增加,與氧分壓的1/6次方成正比。13.簡(jiǎn)述形成置換型固溶體的條件是什么?并舉一實(shí)例。答:形成連續(xù)置換型固溶體的條件:(1)離子尺寸因素。相互替代的兩離子尺寸應(yīng)滿(mǎn)足。(2)晶體結(jié)構(gòu)類(lèi)型相同。(3)相互替代的兩個(gè)離子電價(jià)相同或復(fù)合替代離子電價(jià)總和相同。(4)相互替代的兩個(gè)離子電負(fù)性相近。例如:,固溶式為:Mg1-xNixO(x=01)14.簡(jiǎn)述形成間隙型固溶體的條件是什么?并舉一實(shí)例。答:形成間隙型固溶體的條件:間隙型固溶體的固溶度仍然取決于離子尺寸、

10、離子價(jià)、電負(fù)性、結(jié)構(gòu)等因素。(1)雜質(zhì)質(zhì)點(diǎn)大小。即添加的原子愈小,易形成固溶體。(2)晶體(基質(zhì))結(jié)構(gòu)。但離子尺寸是與晶體結(jié)構(gòu)的關(guān)系密切相關(guān)的,在一定程度上來(lái)說(shuō),結(jié)構(gòu)中間隙的大小起了決定性的作用?;|(zhì)晶體中空隙愈大,結(jié)構(gòu)愈疏松,易形成固溶體。(3)電價(jià)因素。保持電價(jià)平衡。15.說(shuō)明為什么只有置換型固溶體的兩個(gè)組分之間才能相互完全溶解,而間隙型固溶體則不能。答:晶體中間隙位置是有限的,容納雜質(zhì)質(zhì)點(diǎn)能力10%,而且間隙式固溶體的生成,一般都使晶格常數(shù)增大,增加到一定的程度,使晶格變得不穩(wěn)定而離解;置換固溶體形成是同號(hào)離子交換位置,不會(huì)對(duì)其晶格產(chǎn)生此種影響,所以可形成連續(xù)固溶體。16.試分析形成固溶

11、體后對(duì)晶體性質(zhì)的影響。答:(1)穩(wěn)定晶格,阻止晶型轉(zhuǎn)變的發(fā)生。(2)活化晶格(3)固溶強(qiáng)化17.判斷下列系統(tǒng)是否能形成固溶體,如果能,則形成什么固溶體?為什么?(1)MgO-CaO (2)MgO-CoO(3)MgO-Al2O3(4)PbZrO3-PbTiO3已知:答:對(duì)于MgO-CaO:,此二氧化物結(jié)構(gòu)相同,電價(jià)相同,電負(fù)性接近,但離子半徑相關(guān)較大,15%,故只能形成有限置換型固溶體。對(duì)于MgO-CoO:,此二氧化物結(jié)構(gòu)相同,電價(jià)相同,離子半徑相差極小,電負(fù)性相差不大。故能形成連續(xù)置換型固溶體。對(duì)于MgO-Al2O3:,此二氧化物結(jié)構(gòu)不相,半徑相差極大,電負(fù)性相差較大,因此,該二氧化物易形成化

12、合物。對(duì)于PbZrO3-PbTiO3:,此二氧化物結(jié)構(gòu)相同,電價(jià)相同,離子半徑相差剛大于15%,但由于該化合物構(gòu)造相對(duì)較為復(fù)雜,晶胞較大,因而對(duì)半徑的寬容度增大,故此二化合物能形成連續(xù)置換型固溶體。18.試比較固溶體與化合物、機(jī)械混合物的差別。答:固溶體機(jī)械混合物化合物形成原因以原子尺寸“溶解”生成粉末混合原子間相互反映生成相數(shù)單相均勻多相單相均勻化學(xué)計(jì)量不遵守定比定律/遵守定比定律化學(xué)組成不確定有幾種混合物就有多少化學(xué)組成確定19.試闡述固溶體、熱缺陷和非化學(xué)計(jì)量化合物三者的異同點(diǎn)。答:種類(lèi)固溶體熱缺陷非化學(xué)計(jì)量物共同點(diǎn)從缺陷的角度講,三者均是點(diǎn)缺陷,是晶體結(jié)構(gòu)缺陷,都是單相均勻的固體,結(jié)構(gòu)

13、同主晶相。不同點(diǎn)缺陷產(chǎn)生的原因不同外來(lái)雜質(zhì)的引入,屬于非本征缺陷熱起伏,屬于本征缺陷基質(zhì)晶體與介質(zhì)中某些組分發(fā)生交換,屬于非本征缺陷缺陷產(chǎn)生的機(jī)理及表現(xiàn)形式不同缺陷發(fā)生在基質(zhì)組元與外加組元之間。表現(xiàn)形式為外加組元占據(jù)基質(zhì)組元質(zhì)點(diǎn)或間隙的位置缺陷發(fā)生于基質(zhì)晶體自身質(zhì)點(diǎn)的遷移。表現(xiàn)形式為產(chǎn)生空穴或間隙質(zhì)點(diǎn)在形式上,可看作為缺陷發(fā)生于同種離子不同價(jià)態(tài)間的相互置換決定缺陷濃度的因素不同主要取決于雜質(zhì)的濃度主要與溫度有關(guān)主要與溫度、氣氛、壓力有關(guān)20.試寫(xiě)出以下缺陷方程,每組寫(xiě)二個(gè)合理的方程,并判斷可能成立的方程是那一種?再寫(xiě)出每組方程的固溶式。(1)(2)(3)答:(1)固溶式為固溶式為前者可能。(2

14、)固溶式為固溶式為前者可能。(3)固溶式為固溶式為后者可能。21.試寫(xiě)出以下缺陷方程,每組寫(xiě)二個(gè)合理的方程,并判斷可能成立的方程是那一種?再寫(xiě)出每組方程的固溶式。(1)(2)(3)答:(1)固溶式為固溶式為前者可能。(2)固溶式為固溶式為前者可能。(3)固溶式為固溶式為前者可能。22.試寫(xiě)出少量MgO摻雜到A12O3中和少量YF3摻雜到CaF2中的缺陷反應(yīng)方程與對(duì)應(yīng)的固溶式。答:A、B、A可能性較大。因螢石晶體中存較多的八面體空隙,F(xiàn)-離子半徑較小,形成填隙型固溶體比較穩(wěn)定。第四章23.簡(jiǎn)述硅酸鹽熔體結(jié)構(gòu)的聚合物理論。答:硅酸鹽熔體中聚合物的形成過(guò)程大致可分為三個(gè)階段。初期:主要是石英顆粒的分

15、化;中期:縮聚反應(yīng)并伴隨聚合物的變形;后期:在一定溫度(高溫)和一定時(shí)間(足夠長(zhǎng))下達(dá)到聚合分化平衡。產(chǎn)物中有低聚物、高聚物、三維碎片、游離堿、吸附物,最后得到的熔體是不同聚合程度的各種聚合體的混合物,構(gòu)成硅酸鹽熔體結(jié)構(gòu)。聚合物的種類(lèi)、大小和數(shù)量隨熔體組成和溫度而變化。24.簡(jiǎn)述玻璃的通性。答:(A)各向同性,(B)介穩(wěn)性,(C)熔融態(tài)向玻璃態(tài)轉(zhuǎn)化的可逆與漸變性,(D)熔融態(tài)向玻璃態(tài)轉(zhuǎn)化時(shí)物理、化學(xué)性能隨溫度變化的連續(xù)性25.簡(jiǎn)述玻璃形成的結(jié)晶化學(xué)條件。答:(1)聚合陰離子團(tuán)大小與排列方式;(2)鍵強(qiáng):根據(jù)各氧化物的單鍵強(qiáng)(化合物的分解能以該種化合物的配位數(shù)除只得的商值)大小可將氧化物分為玻璃

16、形成體(335kJ/mol),玻璃網(wǎng)絡(luò)變性體(D晶面D晶內(nèi)。答:固體表面質(zhì)點(diǎn)在表面力作用下,導(dǎo)致表面質(zhì)點(diǎn)的極化、變形、重排并引起原來(lái)的晶格畸變,表面結(jié)構(gòu)不同于內(nèi)部,并使表面處于較高的能量狀態(tài)。晶體的內(nèi)部質(zhì)點(diǎn)排列有周期性,每個(gè)質(zhì)點(diǎn)力場(chǎng)是對(duì)稱(chēng)的,質(zhì)點(diǎn)在表面遷移所需活化能較晶體內(nèi)部小,則相應(yīng)的擴(kuò)散系數(shù)大。同理,晶界上質(zhì)點(diǎn)排列方式不同于內(nèi)部,排列混亂,存在著空位、位錯(cuò)等缺陷,使之處于應(yīng)力畸變狀態(tài),具有較高能量,質(zhì)點(diǎn)在晶界遷移所需的活化能較晶內(nèi)小,擴(kuò)散系數(shù)大。但晶界上質(zhì)點(diǎn)與晶體內(nèi)部相比,由于晶界上質(zhì)點(diǎn)受兩個(gè)晶粒作用達(dá)到平衡態(tài),處于某種過(guò)渡的排列方式,其能量較晶體表面質(zhì)點(diǎn)低,質(zhì)點(diǎn)遷移阻力較大因而D晶界D表

17、面。41.濃度差會(huì)引起擴(kuò)散,擴(kuò)散是否總是從高濃度處向低濃度處進(jìn)行,為什么?答:擴(kuò)散的基本推動(dòng)力是化學(xué)位梯度,只不過(guò)在一般情況下以濃度梯度的方式表現(xiàn)出來(lái);擴(kuò)散是從高化學(xué)位處流向低化學(xué)位處,最終系統(tǒng)各處的化學(xué)位相等。如果低濃度處化學(xué)勢(shì)高,則可進(jìn)行負(fù)擴(kuò)散,如玻璃的分相過(guò)程。第八章42.推導(dǎo)并簡(jiǎn)述相變過(guò)程的溫度條件。答:相變推動(dòng)力為過(guò)冷度(過(guò)熱度)的函數(shù),相平衡理論溫度與系統(tǒng)實(shí)際溫度之差即為相變過(guò)程的推動(dòng)力。G=H-TH/T0=HT0-T/T0=H.T/T0式中:T0-相變平衡溫度,H-相變熱,T-任意溫度。自發(fā)反應(yīng)時(shí):G0,即H.T/T00相變放熱(凝聚,結(jié)晶):H0,T0T,過(guò)冷,即實(shí)際溫度比理論

18、溫度要低,相變才能自發(fā)進(jìn)行。相變吸熱(蒸發(fā),熔融):H0,T0,T0gb。生長(zhǎng)的推動(dòng)力是晶界兩側(cè)物質(zhì)的自由焓差,使界面向晶界曲率半徑小的晶粒中心推進(jìn)。燒結(jié)的推動(dòng)力較大,約為420J/g。晶粒生長(zhǎng)的推動(dòng)力較小,約為0.42J/g,因而燒結(jié)推動(dòng)力比晶粒生長(zhǎng)推動(dòng)力約大十倍。61.二次再結(jié)晶產(chǎn)生的原因是什么?可以采取哪些措施來(lái)防止它的產(chǎn)生?答:原始粒度不均勻;燒結(jié)溫度偏高;燒結(jié)速率太快;坯體成型壓力不均勻;局部有不均勻液相等。為防止晶粒異常生長(zhǎng),應(yīng)適當(dāng)控制溫度來(lái)防止晶界移動(dòng)速率過(guò)快;引入適當(dāng)?shù)奶砑觿?,能抑制晶界的遷移,加速氣孔排除。62.試分析二次再結(jié)晶過(guò)程對(duì)材料性能有何種效應(yīng)?答:二次再結(jié)晶發(fā)生后,由于個(gè)別晶粒異常長(zhǎng)大,氣孔進(jìn)入晶粒內(nèi)部,成為孤立閉氣孔,不易排除,使燒結(jié)速率降低甚至停止,坯體不再致密;加之大晶粒的晶界上有應(yīng)力存在,使其內(nèi)部易出現(xiàn)隱裂紋,繼續(xù)燒結(jié)時(shí)坯體易膨脹而開(kāi)裂,使燒結(jié)體的機(jī)械,電學(xué)性能下降。63.有人試圖用延長(zhǎng)燒結(jié)時(shí)間來(lái)提高產(chǎn)品

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