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文檔簡介

1、midas NFX CFD顆粒分析操作案例1. 問題: 氣旋對顆粒影響1. 問題定義:氣旋對顆粒影響入口端流速 : 速度, V = 20 m/s顆粒入口條件: 速度, Vp = 3 m/s出口端壓力: 輸入, P = 0 Pa顆粒出口條件: 無壁面壁面條件: 無尺寸距離壁, 65顆粒壁面條件: 反射半徑 d = 0.002 mm密度 p = 2500 kg/m3彈性模量 Ep = 1107 N/m2密度 = 1.225 kg/m3粘性 = 1.810-5 kg/m/s物理特性空氣顆粒2. 分析設(shè)置過程1-1 定義材料輸入流體材料屬性. 2. 分析設(shè)置流程1-2 定義屬性利用定義好的流體材料定義

2、流體屬性. 2. 分析設(shè)置過程1-3 定義顆粒 : 輸入顆粒定義顆粒.2. 分析設(shè)置過程2-1 定義入口端邊界條件輸入入口端邊界條件. 2. 分析設(shè)置過程2-2 輸入出口端邊界條件輸入出口邊界條件. 2. 分析設(shè)置過程2-3 輸入出口端邊界條件輸入出口邊界條件. 2. 分析設(shè)置過程2-4 輸入壁面條件輸入壁面條件.顆粒壁面條件：無 顆粒無法識別形成的壁. 到達(dá)壁的顆粒直接流出.沉積 收集到達(dá)壁面的顆粒. 與無的結(jié)果相同.反射 顆粒到達(dá)壁面以相同的入射角和反射角進(jìn)行反射.相當(dāng)于光滑的壁.發(fā)散 顆粒到達(dá)壁面后以隨機(jī)的反射角（與入射角無關(guān)）進(jìn)行發(fā)散. 相當(dāng)于粗糙的壁.混合反射顆粒到達(dá)壁的入射角和反射

3、角，以最大比率進(jìn)行隨機(jī)反射.(反射+發(fā)散)2. 分析設(shè)置過程2-4 輸入入口端顆粒生成條件輸入入口端顆粒生成條件.2. 分析設(shè)置過程3 生成網(wǎng)格生成網(wǎng)格. 1-1 生成流體分析工況3. 運行求解生成流體分析工況. 顆粒分析分成兩步進(jìn)行：先進(jìn)行流體分析，然后再定義一個流體顆粒分析工況，在分析控制中定義顆粒分析模塊，同時在之前流體分析基礎(chǔ)上進(jìn)行顆粒分析.1-2 運行流體分析3. 運行求解2-1 生成顆粒分析工況(1)3. 運行求解定義顆粒分析工況.勾選流體流動模塊，輸入時間步驟數(shù)為0. (不求解一般流動)直接調(diào)用Step 1(流體分析)的結(jié)果文件 (.rst)開始求解， 高級模塊中勾選顆粒模塊.2-1 生成顆粒分析工況(2)3. 運行求解2-2

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