集成電路產(chǎn)業(yè)大全

1、集成電路產(chǎn)業(yè)大全表一、半導(dǎo)體工藝主要設(shè)備大全清洗機超音波清洗機是現(xiàn)代工J業(yè)零件表面清洗的新技 術(shù)，目前已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體硅片的清洗。超聲波清洗機“聲音也可以清洗污垢”一一超聲波清洗機又名超聲 波清洗器,以其潔凈的清洗效果給清洗界帶來了一股 強勁的清洗風(fēng)暴。超聲波清洗機（超聲波清洗器）利 用空化效應(yīng)，短時間內(nèi)將傳統(tǒng)清洗力式難以洗到的狹 縫、空隙、盲孔徹底清洗干凈，超聲波清洗機對清洗 器件的養(yǎng)護,提高壽命起到了重要作用。CSQ系列超聲波清洗機采用內(nèi)置式加熱系統(tǒng)、溫控系統(tǒng)，有效提 高了清洗效率；設(shè)置時間控制裝置，清洗方便；具有 頻率自動跟蹤功能，清洗效果穩(wěn)定；多種機型、結(jié)構(gòu) 設(shè)計，適應(yīng)不同清洗要求。

2、CSQ系列超聲波清洗機 適用于珠寶首飾、眼鏡、鐘表零部件、汽布零部件， 醫(yī)療設(shè)備、精密偶件、化纖行業(yè)（噴絲板過濾芯）等 的清洗；對除油、除銹、除研磨膏、除焊渣、除蠟， 涂裝前、電鍍前的清洗后傳統(tǒng)清洗方式難以達到的效 果。恒威公司生產(chǎn)CSQR列超聲波清洗機具有以下特點：不銹鋼加強結(jié)構(gòu)，耐酸耐堿；特種膠工藝連 接，運行安全；使用IGBT模塊，性能穩(wěn)定；專業(yè)電源 設(shè)計，性價比高。反滲透純水機去離子水生產(chǎn)設(shè)備之一，通過反滲透原理來實現(xiàn)凈水。純水機清洗半導(dǎo)體硅片用的去離子水生產(chǎn)設(shè)備，去離子水有 毒，/、可食用。凈化設(shè)備主要產(chǎn)品：水處理設(shè)備、灌裝設(shè)備、空氣凈化設(shè)備、凈化工程、反滲透、超濾、電滲析設(shè)備、 E

3、DI裝置、 離子交換設(shè)備、機械過濾器、精密過濾器、UV紫外線 殺菌器、臭氧發(fā)生器、裝配式潔凈室、空氣吹淋室、傳遞窗、工作臺、局校送風(fēng)口、空氣自凈室、業(yè)局、 圖效過濾器等及各種配件。風(fēng)淋室：運用國外先進技術(shù)和進口電器控制系統(tǒng),組裝 成的一種使用新型的自動吹淋室.它廣泛用于微電子 醫(yī)院制藥生化制品 食品衛(wèi)生 精細化工 精密機械 和航空航天等生產(chǎn)和科研單位，用于吹除進入潔凈室 的人體和攜帶物品的表面附著的塵埃，同時風(fēng)淋室也 起氣的作用，防止未凈化的空氣進入潔凈區(qū)域，是進行 人體凈化和防止室外空氣污染潔凈的有效設(shè)備.拋光機整個系統(tǒng)是由一個旋轉(zhuǎn)的硅片夾持器、承載拋光墊的 工作臺和拋光漿料供給裝置三大部分

4、組成?；瘜W(xué)機械 拋光時，旋轉(zhuǎn)的工件以f的壓力壓在旋轉(zhuǎn)的拋光墊 上，而由亞微米或納米磨粒和化學(xué)溶液組成的拋光液 在工件與拋光墊之間流動，并產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，工件表 間形成的化學(xué)反應(yīng)物由磨粒的機械作用去除，即在化 學(xué)成膜和機械去膜的交替過程中實現(xiàn)超精密表面加 工，人們稱這種CM次游離磨料CMP電解拋光電化學(xué)拋光是利用金屬電化學(xué)陽極溶解原理進行修磨 拋光。將電化學(xué)預(yù)拋光和機械精拋光有機的結(jié)合在一 起，發(fā)揮了電化學(xué)和機構(gòu)兩類拋光特長。它不受材料 硬度和韌性的限制，可拋光各種復(fù)雜形狀的工件。其 方法與電解磨削類似。導(dǎo)電拋光工具使用金鋼石導(dǎo)電 鋰或石墨油石，接到電源的陰極，被拋光的工件（如 模具）接到電源的陽

5、極。光刻膠又稱光致抗蝕劑，由感光樹脂、增感劑（見光譜增感 染料）和溶劑三種主要成分組成的對光敏感的混合液 體。感光樹脂經(jīng)光照后，在曝光區(qū)能很快地發(fā)生光固 化反應(yīng)，使得這種材料的物理性能，特別是溶解性、 親合 性等發(fā)生明顯變化。經(jīng)適當(dāng)?shù)娜軇┨幚?，溶去?溶性部 分，得到所需圖像（見圖光致抗蝕劑成像制版 過程）。光刻膠廣泛用于印刷電路和集成電路的制造 以及印刷制版等過程。光刻膠的技術(shù)復(fù)雜，品種較多。 根據(jù)其化學(xué)反應(yīng)機理和顯影原理，可分負性膠和正性 膠兩類。光照后形成不可溶物質(zhì)的是負性膠；反之， 對某些溶劑是不可溶的，經(jīng)光照后變成可溶物質(zhì)的即 為正性膠。利用這種性能，將光刻膠作涂層，就能在 硅片表面

6、刻蝕所需的電路圖形?；诟泄鈽渲幕瘜W(xué) 結(jié)構(gòu)，光刻膠可以分為 三種類型。光聚合型，采用 烯類單體，在光作用卜生 成自由基，自由基再進一步 引發(fā)單體聚合，最后生成聚 合物，具后形成正像的特 點。光分解型，采用含有疊 氮酶類化合物的材料， 經(jīng)光照后，會發(fā)生光分解反應(yīng)，由油溶性變?yōu)樗苄裕?可以制成正性膠。光交聯(lián)型，采用聚乙烯醇月桂酸酯等作為光敏材料，在光的彳用卜，其 分子中的雙鍵 被打開，并使鏈與鏈之間發(fā)生交聯(lián)，形成一種不溶性 的網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，而起到抗蝕作用，這是一種典型的負性 光刻膠。柯達公司的產(chǎn)品KPR交即屬此類。感光樹脂 在用近紫外光輻照成像時，光的波長會限制分辨率（見感光材料）的提高。為進一步

7、提高分辨率 以滿足 超大規(guī)模集成電路工藝的要求，必須采用波長更 短的 輻射作為光源。由此產(chǎn)生電子束、X射線和深紫外（ 250nm成ij蝕技術(shù)和相應(yīng)的電子束刻蝕膠，X射線刻蝕 膠和深紫外線刻蝕膠，所刻蝕的線條可細至 lUm以 下。光刻機光刻機用于將晶圓表面薄膜的特定部分除去的工藝設(shè) 備，可以在晶圓表面會留下帶有微圖形結(jié)構(gòu)的薄膜?？涛g機電子回旋共振等離子體刻蝕機涉及的是一種集成電路 制作工藝中的微電子芯片加工設(shè)備。結(jié)構(gòu)具有真空室、 微波系統(tǒng)、磁場、真空抽放氣系統(tǒng)、配氣系統(tǒng)、監(jiān)控 系統(tǒng)，真空抽放氣系統(tǒng)由機械泵、擴散泵和相應(yīng)管道、 閥門組成，其特征是真空室由等離子體發(fā)生室，等離 子體約束室，處理室組成

8、，等離子體發(fā)生室外套有兩 組用接的磁場線圈，在等離子體約束室周圍均布永久 磁鋼，處理室內(nèi)裝肩基片架。去膠機用于半導(dǎo)體集成電路、太陽能電池以及功率器件等刻 蝕、去膠工藝，刻蝕方式為等離子體各向同性刻蝕。擴散爐半導(dǎo)體器件及大規(guī)模集成電路制造過程中用于對晶片 進行擴散、氧化、退火、合金及燒結(jié)等工藝的一種熱 加工設(shè)備。有臥式擴散系統(tǒng)及立式獷散系統(tǒng)兩種類型。 按控制方式又分為微控和程控兩種。具組成有：電阻 加熱爐、凈化工作臺、送片系統(tǒng)、氣源柜、控制柜等。PECVD等離子體增強化學(xué)氣相沉積（PECVD技術(shù)原理是利用 低溫等離子體作能量源，樣品置于低氣H輝光放電 的陰極上，利用輝光放電（或另加發(fā)熱體）使樣品

9、開 溫到預(yù)定的溫度，然后通入適量的反應(yīng)氣體，氣體經(jīng) 一系列化學(xué)反應(yīng)和等離子體反限，在樣品表面形成周 態(tài)薄膜。MOCVD金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)（MOCV要應(yīng)用于化合 物半導(dǎo)體材料的研究和生產(chǎn)，是當(dāng)今世界上生產(chǎn)半導(dǎo) 體光電器件和微波器件材料的主要手段，如激光器、 發(fā)光二極管、高效太陽能電池、光電陰極的制備，是 光電子等產(chǎn)業(yè)/、口缺少的設(shè)備。LPCVDLPCVDZ在襯底表面淀積一層均勻的介質(zhì)薄膜，用 作微機械結(jié)構(gòu)層材料、犧牲層、絕緣層、掩模材料， LPCVDT藝淀積的材料有多晶硅、氮化硅、磷硅玻璃。 不同的材料淀積采用不同的氣體。PVDpvD物理氣相沉積）涂層也被證明有效加工高溫合金。 TiN （

10、氮化鈦）PV的層是最早使用的并仍然是最受歡 迎的。最近，TiAlN （氮鋁化鈦）和TiCN （碳氮化鈦） 涂層也能很好使用。過去 TiAlN涂層應(yīng)用范圍和TiN 相比限制更多。但是當(dāng)切削速度提高后它們是一個很 好的選擇，在那些應(yīng)用提高生產(chǎn)率達 40%濺射臺以離子束濺射為例，它由離子源、離子引出極和沉積 室3大部分組成，在高真空或超高真空中濺射鍍膜法。 利用直流或高頻電場使惰性氣體（通常為氮）發(fā)生電 離,廣生輝光放電等離子體，電離產(chǎn)生的止離子和電 子高速轟擊靶材，使靶材上的原子或分子濺射出來， 然后沉積到基板上形成薄膜。磁控濺射磁控濺射技術(shù)已經(jīng)成為沉積耐磨、耐蝕、裝飾、光學(xué) 及其他各種功能薄膜的

11、重要手段.探討了磁控濺射技 術(shù)在非平衡磁場濺射、脈沖磁控濺射等方面的進步 ， 說明利用新型的磁控濺射技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜的高速沉 積、高純薄膜制備、提高反應(yīng)濺射沉積薄膜的質(zhì)量等， 并進一步取代電鍍等傳統(tǒng)表面處理技術(shù).最后呼吁石 化行業(yè)應(yīng)大力發(fā)展和應(yīng)用磁控濺射技術(shù).真空烘箱真空烘箱廣泛應(yīng)用于各實驗室和各工業(yè)領(lǐng)域。真空烘 箱可在低溫下對熱敏材料進行干燥。劃片機為了適應(yīng)集成電路的發(fā)展，劃片設(shè)備技術(shù)和 工藝也有了較快發(fā)展。國外已經(jīng)推出代表最高技術(shù)水 平的雙軸對裝式 300mm（1映寸）全自動劃片機，而 國內(nèi)也克服技術(shù)難點，推出200mm（眺寸）系列劃片 設(shè)備，這些設(shè)備已陸續(xù)進入實用化階段。國內(nèi)外新劃片設(shè)備

12、滿足市場高要隨著集成電路由大規(guī)模向超大規(guī)模發(fā)展，集成 度越來越高，到劃片工藝，晶圓片成本大幅增加；晶 片直徑越來越大，目前已達到 300mm劃切槽越來 越窄，一在30卜m-40 m這對于以金剛石砂輪作 為刃具的強力磨削加工工藝來說，已進入臨界尺寸； 硅片由 150mm（狽寸）增大到 200mm面積只增加 78%但其中可供芯片利J用的面積增加了 90%晶圓片 的成本和價值大幅度增加，這些給劃片機的加工精度、 可靠性穩(wěn)定性提出越來越苛刻的要求，使劃片設(shè)備的 設(shè)計技術(shù)更加復(fù)雜，加工制造更加困難。為了適應(yīng)集成電路的發(fā)展，劃片設(shè)備技術(shù)和工 藝也有了較快發(fā)展。2000年，占有國際劃片機市場最大份額的日 本

13、DISCO公司推出了引領(lǐng)劃片機潮流，代表了劃片機 最高技術(shù)水平的雙軸對裝式 300mm：自動劃片機， 它已逐漸進入實用化階段。國內(nèi)劃片機研制起步晚，但發(fā)展較快，特別是 我們中國電子科技集團公司第 45研究所推出的 150mn片機，已將控制平臺提升到了國際上普遍 采用的通用計算機操作系統(tǒng)，有效縮短了與國際水平 的差距。我所研制的HP-602型精密自動劃片機，其主 要性能指標已接近或達到國際同類機型先進水平，在 此基礎(chǔ)上研制的HP-801型精密自動劃片機是國內(nèi)第 一臺中200mmi動劃片機，已于2004年達到實用化， 新型的雙軸精密自動劃片機 HP-821,日前已發(fā)給用戶 進行工藝考核。與150m

14、n片機相比，200mnaJ片機總體 繼承了150mmi勺機械機構(gòu)和成熟單元技術(shù)，控制系 統(tǒng)平臺由DOSS作系統(tǒng)上升為 WindowsN哪作系統(tǒng)， 并在設(shè)備機械結(jié)構(gòu)尺寸變大的同時，精度進一步提高， 而控制功能也進一步增強，自診斷系統(tǒng)更加完善，可 靠性進一步提高。本土克服大尺寸劃片機技術(shù)難點由于其技術(shù)復(fù)雜性問題，大尺寸精密劃片機需 要有效解決一系列技術(shù)問題：機械系統(tǒng)要高剛度、高穩(wěn)定性、低損耗 當(dāng)劃片機的工作臺處在高速運動狀態(tài)(400mm/s)之下時，產(chǎn)生加速度的驅(qū)動力及相應(yīng)的反作 用力極易使機械結(jié)構(gòu)產(chǎn)生共振。在劃片獨特的高速運 行條件下，許多高頻的共振狀態(tài)也受到激發(fā)，使得在 低速條件下完全剛性的結(jié)

15、構(gòu)顯示出顯著的柔性，極大 地影響設(shè)備的性能。劃片設(shè)備典型的密集短促往復(fù)運 動更加劇了這種情況。高精度的要求，需要設(shè)備具有 高速運動下抗振動的極大剛度，通常對應(yīng)著厚重的機 械結(jié)構(gòu)；而極高的速度要求，又必須采用輕質(zhì)的結(jié)構(gòu) 來盡量減輕負載。因此，對高精度和高速度的要求， 促使機械結(jié)構(gòu)設(shè)計向兩個截然相反的方向發(fā)展，存在 著本質(zhì)的矛盾。這也正是劃片設(shè)備機械結(jié)構(gòu)設(shè)計的困 難和挑戰(zhàn)所在?？諝忪o壓主軸設(shè)計制造技術(shù)空氣靜壓主軸是劃片機的核心，在60000r/min的高轉(zhuǎn)速下實現(xiàn)振動值小于 0.5仙m消除 它與不銹鋼冷卻防水罩、機械系統(tǒng)的共振或共鳴，以 及它高速旋轉(zhuǎn)引起的部件材料變形等，是劃片機設(shè)計的最大挑戰(zhàn)。這

16、具體體現(xiàn)在材料、設(shè)計和加工手段3個方面：一是國內(nèi)基礎(chǔ)工業(yè)滯后，材料性能滿足不了 要求，需要進行材料研究和分析替換；二是設(shè)計過程 中大部分參數(shù)及其組合需要反復(fù)試驗來摸索總結(jié)，工 作量巨大。三是加工手段要求高，必須具備空氣車床、 空氣磨床等高精度加工設(shè)備。高速高精度運動定位及控制技術(shù)從國際劃片機發(fā)展過程來看，從 中150m唯U 200mm精度僅提高1仙m但這是在行程增大的條 件下提高的，對導(dǎo)軌、絲杠等機械部件的精度及變形 要求極嚴，要確保劃切精度和芯片安全，決不允許肩 誤差積累，因此，只能選擇閉環(huán)控制。要在不影響或 盡量小地影響效率的前實現(xiàn)閉環(huán)控制，必須采用 高速高精度定位及其控制系統(tǒng)。高效能、快

17、速響應(yīng)驅(qū) 動系統(tǒng)200mms片尺寸大、密度高、劃切刀痕小， 因此，它對各方向動態(tài)響應(yīng)和靜態(tài)穩(wěn)定性都有極高的 要求，而各方向運行的速度曲線也比較特殊。在做圖 像對準時，各運動方向的動態(tài)響應(yīng)、運動速度和精度 都直接影響到自動對準的準確性、對準效率和硅片的 對準通過率。全自動劃片機一般由主機部分、自動對準、自 動上下片和自動清洗4個單元組成，其核心部分是主 機。HP-821精密自動劃片機是作為全自動劃片機的主 機部分進行研制的，已具有雙軸劃切和自動對準功能， 并留有其他配套部分的軟硬件接口，具備良好的可擴 展性。該機的研制成功，在為生產(chǎn)線提供一種 200ml 自動劃片機的同時，為 200mmir自動

18、劃片機的整機 研制奠定基礎(chǔ)。分子束外延分子束外延技術(shù)（L-MBE）是近年來發(fā)展的一種先進的 薄膜生長技術(shù),在氧化鋅薄膜生長的研究中因其獨特 的優(yōu)越性顯不出越來越強的黨爭力.在討論ZnO溥膜 基本特性的基礎(chǔ)上，較為詳細地論述了激光分子束外 延技術(shù)及其在氧化鋅薄膜制備中的應(yīng)用和取得的新進 展.成像系統(tǒng)PHOTO-CHROM新的薄層成像系統(tǒng)，無需電腦即可 打印輸出。圖象可以儲存在軟盤中（3張TIFF或BM 圖片，或30張JPEGS片），再轉(zhuǎn)移到電腦中。系統(tǒng) 帶PHOTO-CHIROMR析軟件，可以和PC機整合氣體對濾器氣體過濾器系高壓級，使用于空氣，氮氣等介質(zhì).用于 濾去氣體中固體顆粒.具肩重量輕，

19、易于安裝，通氣流 量大等特點.液體過濾器一種液體過濾器裝置，包具有入口、出口的筒體， 于該出口處設(shè)有蓋體，該筒體中設(shè)有至少兩組磁鐵單元，該磁鐵單元由多個磁鐵組合而成，且相鄰之磁鐵 單元相對面具有相同磁極性，于該筒體中磁鐵單元后 裝置有過濾單元，該過濾單元由可透析液體之濾網(wǎng)片 設(shè)成筒狀。本實用新型亦可過濾液體中之鐵質(zhì)異物并 使液體中之水軟化。油過濾器油液污染是系統(tǒng)故障的最主要原因，它會降低系統(tǒng)性 能、縮短零部件壽命、增加換油次數(shù)和延長停機時間， 給系統(tǒng)正常運行帶來極大的負面影響。油過濾器用來 對油液進行合理肩效過濾與凈化來控制油液污染。擴散一LCD光擴散片75PBA, 100PBU, 100S,

20、 100SXE, 100MXE, 100LSE, 100GM2, 100TL2, 100TL4, 125TD3LCD光反射片RW125, RW188,GR38W, RW75CB, RWX3TLED光擴散片MTN-R1, MTN-G2MTN-W1, MTN-W2MTN-W4, MTN-W5 MTN-WX5, MTN-W7, MTN-W8D101, D105, D202D204, D206, D207顯影劑顯影劑包括 NPD Negative Resist Developers（ 負性 光刻膠顯影劑）和Positive Resist Removers（ 正性光刻膠去除劑）曝光機微電腦電子曝光機由光

21、源系統(tǒng)，冷卻系統(tǒng)，上/下框移 動及真空系統(tǒng)，曝光控制系統(tǒng)四大系統(tǒng)構(gòu)成.光源系統(tǒng) 由兩只7KWyS鹵素?zé)?，遮光罩等組成.冷卻系統(tǒng)由中 間送冷氣冷卻燈管的兩層玻璃套管（PYREX管及石英 玻璃管），冷卻塔,換熱器,冷氣機組成.上下框架移動 及真空系統(tǒng)由上/下框架,上/下框架驅(qū)動部分，玻璃 面,MYLAR（P?。瑑商幷婵瘴鼩饪诮M成.曝光控制系 統(tǒng)由紫外線強度計（將曝光光量正確地顯示出來）,溫 度傳感器，液面?zhèn)鞲衅?，壓力傳感器，位置傳感?PLC 控制器組成.勻膠機/甩膠機勻膠機適應(yīng)于半導(dǎo)體，硅片，晶片，基片，導(dǎo)電玻璃等工 藝，制版的表面涂覆.勻膠機穩(wěn)定的轉(zhuǎn)速和快速的啟 動，可以保證半導(dǎo)體中膠厚度的

22、TW生和均勻性烘膠臺烘膠臺產(chǎn)品用于光刻工藝中的前烘和堅膜。本產(chǎn)品具 有烘膠速度快、均勻、控溫精度高等特點，并可長時 間連續(xù)穩(wěn)定工作。半導(dǎo)體封裝封裝(Package)對于芯片來說是必須的，也是至美重要 的。封裝也可以說是指安裝半導(dǎo)體集成電路芯片用的 外殼，它不僅起著保護芯片和增強導(dǎo)熱性能的作用， 而且還是溝通芯片內(nèi)部世界與外部電路的橋梁和規(guī)格 通用功能的作用。封裝設(shè)備封裝工程將是為未來高精密攜帶式電子機器的主要核 心技術(shù)。這是以為封裝工程技術(shù)能將各種微小半導(dǎo)體 元件，密封于一小空間內(nèi)，除體積小之外，功能更大。引線封裝市場上第一種獲得廣泛接納的封裝是雙列直插式(DIP, Dual In Line)

23、,可用陶瓷和塑料封裝體。這 種封裝于20世紀60年代未開發(fā)出來，正如其名，引 線從封裝兩邊引出，并與封裝垂直。這是低成本封裝， 電氣性能相對較差，通過將引腳插到電路板的通孔中， 便可將封裝安裝在PCB,引線會在電路板的另一面 夾斷，再利用波峰焊接技術(shù)來焊接。該封裝可容納最 多的引線數(shù)目為40,而電路板間距則為0.65mm這種 封裝形式至今仍在使用。引線在20世紀70年代末80年代初，一種新的電路板裝配 技本出現(xiàn)，名為表面女裝(surface mount)。在這種 方法中芯片上的引線(引腳)和元件都被焊接在電路 板的某一表面，而不是穿過板體。這使得電路板兩面 都可用于粘結(jié)芯片，安裝過程使用了焊料

24、回流技術(shù)， 今天，超過95%的封裝都采用了表面安裝技術(shù)，為了 支持這項工藝，小外形的封裝應(yīng)運而生，其引線也是 從封裝的兩邊伸出，并做成海鷗翅膀的形狀以便板級 安裝，這類型封裝一般比DIP更薄，能支持最大的引 線數(shù)為80。到20世紀80年代中期四邊都啟引線的封裝出現(xiàn)，這 類封裝稱為四方扁平封裝(Quad Flat Packs , QFP(引線呈海鷗翅膀形狀)或引線芯片載體(Leaded Chip Carriers )(引線呈彎曲的J字形狀)。最常用 的典型四方扁平封裝間距為 0.65mm或0.5mm引線數(shù) 高達208。這些封裝在20世紀90年代初期之硬盤驅(qū) 動器和圖形市場獲得廣泛應(yīng)用。在電氣方面

25、它們大約 與SO封裝相近，但能提供更多的引線，因此在相同的 尺寸上具備更多功能，這種封裝備有多種/、同的尺寸和厚度。20世紀80年代末90年代初，客戶需求在相同的占位 面積上享有更高的熱性能，于是，裸露焊盤引線封裝(Exposed Pad Leaded Package)彳馬以誕生。這種封 裝就是把芯片粘接端暴露于底部的四方扁平或更小外 形封裝。這些暴露的粘接端可以焊接在電路板上，以 建立高效的路徑為芯片進行散熱。在其他因素相同的 情況下，該封裝的熱性能比較相同尺寸的標準四方扁 平封裝提圖50%。止匕外，它口以在更好的頻率卜(2 2.5GHz)工作，這類封裝在便攜式應(yīng)用如尋呼機和 PDA中得到廣

26、泛使用。隨著手持便攜式設(shè)備的尺寸不斷縮小，消費者要求在 更小的尺寸中?有相同或更多的功能，對于手機和 PDA?應(yīng)用來說，要求的封裝尺寸要小，質(zhì)量要輕， 但卻不會影響性能。業(yè)界隧在 20世紀90年代開發(fā)出 微引線框架(MLF系列封裝，MLF接近于芯片級封裝(Chip Scale Package, CSP ,用封裝的底部引線端 提供到PCBK的電氣接觸，曲/、是到海鷗翅膀形狀引 線的soic和qual封裝，因此，這種封裝后利于保證 散熱和電氣性能。便攜式應(yīng)用是它的主要動力來源， 2004年所付用的封裝量差/、多達 20億。引線框架引線框架通常由銅制作，與基板材料一樣。20世紀9c 年代出現(xiàn)了一種新

27、型封裝，采用分層板作為基板材料， 名為球柵陣列封裝(Ball Grid Array , BGA以引線 框架為基礎(chǔ)的封裝只能夠把引線引導(dǎo)到封裝體的周 邊一球柵陣列封裝的引線則可引導(dǎo)到布滿封裝底部的 焊球上，這樣，對于引線數(shù)量相同的封裝尺寸而言， 較之于四方扁平封裝，BGA寸裝自然更具優(yōu)勢，由于 基板是分層的，因而具有電源和接地平面可進一步提 高電氣性能，起初，BGA寸裝的典型焊球間距為 1.27mm與間距為0.5mm的四方扁平封裝相比，板級 裝配更加輕而易舉。球柵陣列封裝的自然發(fā)展使得相同芯片的焊球間距及 其封裝尺寸減小，當(dāng)間距降低為 0.4至0.8mm時，就 創(chuàng)造了精細間距球柵陣列，該封裝是手

28、持式產(chǎn)品的解 決方案，雖然不是真正的芯片級封裝，但在業(yè)界常被 稱為分層式芯片級封裝。表二、半導(dǎo)體工藝輔助設(shè)備大全打標機在產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中需要對其零部件進行更有效的管 理或在市場上需要識別自己的產(chǎn)品和對其進行質(zhì)量跟 蹤、分析。因此對產(chǎn)品的零部件，特別是重要零部件 進行標記（商標、規(guī)格型號、生產(chǎn)批號）非常重要。為了適應(yīng)現(xiàn)代化的生產(chǎn)需要，研制開發(fā)出了氣動工業(yè) 標記打印系統(tǒng)。該系統(tǒng)采用高頻微沖擊技術(shù)，利用計 算機控制對工件進行標記。薄膜利用化學(xué)氣相沉積法在襯底溫度 400c以下沉積的以 IV族原子與氫原子為主要構(gòu)成元素的半導(dǎo)體薄膜。根 據(jù)它從室溫開始加熱時的薄膜中氫原子的放出量與升 溫溫度的關(guān)系曲線可

29、知，在370c以上410c以下具有 放出氫氣量的峰值，并且所述峰值的半幅值為30c以 下。揭示了一種薄膜器件，它具備包含半導(dǎo)體薄膜的 半導(dǎo)體單元部分以及包含導(dǎo)電性薄膜的電極部分，并 且它們形成在同一基板上。襯墊材料的附著物，CVD制作薄膜都在襯墊上完成.切割機據(jù)線切割機的工作原理，切片過程中硅片因機械作用 造成的刀痕、損傷、破損產(chǎn)生包括機械應(yīng)力和熱經(jīng)理 在內(nèi)的應(yīng)力，進而產(chǎn)生滑移位錯。當(dāng)機械應(yīng)力#熱應(yīng) 力在高溫處理過程中的作用程超過晶體滑移臨界應(yīng)力 時，會產(chǎn)生硅片的破碎。對于翹曲度、彎曲度、總厚 度誤差、中心厚度誤差等方法的質(zhì)量控制，通過調(diào)整 線張力、進給速度、冷卻劑流量等一系列工藝措施可 達到

30、目的及要求，大大降低了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn) 效率。實驗證明，線切割機切出的硅片的厚度和質(zhì)量 都很好的滿足了下一道工序的要求。線切割系統(tǒng)的磨削原理是使用自由研磨劑而非固定的 研磨劑，因此往復(fù)式切削系統(tǒng)比傳統(tǒng)的單向切削系統(tǒng) 具有f的優(yōu)勢。對于同種材料來說，系統(tǒng)可以有更 大的行程和線的移動速度，只有通過線的往復(fù)運動， 才能達到理想的研磨效果。連續(xù)的供線系統(tǒng)和舊線回 收系統(tǒng)，可以避免線的破損，還可促使線的張緊以保 證切削線的剛性，這有利于保持切片精度，同時，最 大限度的利用切削線可以肩效降低消耗。金屬線和工件間近似點接觸狀態(tài)，成圓弧狀進行切割，由于拉力 都集中加在接觸部，可以進行高精度、高速度切割。

31、金屬線從供線輪通過伺服馬達控制張力，經(jīng)過多個導(dǎo) 向輪轉(zhuǎn)到搖動頭。在槽輪上卷上設(shè)定好圈數(shù)后，經(jīng)過 多個導(dǎo)向輪，再通過伺服馬達控制回收側(cè)張力，由回 收拉桿將金屬線整齊耳卜在回收輪上。實際轉(zhuǎn)動時，供 線輪、槽輪、回收輪T高速運轉(zhuǎn)。在金屬線運行的 同時，搖動頭帶動槽輪作周期性重復(fù)搖擺， 進行切割。 另外加搖擺作用可使舊的砂漿也順切割線滑出，同時 有新的砂漿進入以及也起到了不斷研磨硅表面的效 果。氣體檢測系統(tǒng)可燃性氣體檢測系統(tǒng)可連續(xù)監(jiān)測空氣中的可燃性氣體 及蒸氣的濃度，在控制室或值班室顯示報警，需要時 可啟動關(guān)聯(lián)設(shè)備。適用于半導(dǎo)體制造管路的氣體控制 等。洗滌塔利用渦流離心力使氣體與洗凈液產(chǎn)生攪拌、混合、

32、附 著、吸收之效果而除去廢氣中的污染物。用途：有害氣體吸收、煙氣去除、廢氣冷卻洗凈。特點：使用氣流離心力氣液接觸方式，設(shè)備維護簡單， 平均效率約90% 壓力損失150mmAq(MAX)本設(shè)備應(yīng)用于各種工業(yè)制造的廢氣處理，如金屬工業(yè)、 金屬拋光及研磨，造紙工業(yè)、化學(xué)處理、肥料行業(yè)、 食品加工、電子工業(yè)、半導(dǎo)體.等等，且可用于工 業(yè)上的冷卻塔。過濾器為了防止氣動元件出故障，在回路上使用干燥器和在 線過濾器，在應(yīng)用回路上使用過濾器，調(diào)壓閥，油霧器 等，使空氣清潔同時通過調(diào)壓進行控制。檢漏儀檢漏儀器用于檢漏的儀器有氮質(zhì)譜檢漏儀、鹵素檢漏 儀、高頻火花檢漏器、氣敏半導(dǎo)體檢漏儀及用于質(zhì)譜 分析的各種質(zhì)譜計

33、。這里主要介紹氮質(zhì)譜檢漏儀、鹵 素檢漏儀、高頻火花檢漏器的工作原理、結(jié)構(gòu)及國產(chǎn) 檢漏儀器的技術(shù)性能。1 .氮質(zhì)譜檢漏儀氮質(zhì)譜檢漏 儀是用氮氣為示漏氣體的專門用于檢漏的儀器，它具 有性能穩(wěn)定、靈敏度高的特點。是真空檢漏技術(shù)中靈 敏度戢高，用得最普遍的檢漏儀器。氮質(zhì)譜檢漏儀是 磁偏轉(zhuǎn)型的質(zhì)譜分析計。單級磁偏轉(zhuǎn)型儀器靈敏度為 10-910-12Pam3/s,廣泛地用于各種真空系統(tǒng)及零 部件的檢漏。雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型儀器與單級磁偏轉(zhuǎn)型 儀器相比較，本底噪聲顯著減小.其靈敏度可達 10-1410-15Pamys,適用于超高真空系統(tǒng)、零部件 及元器件的檢漏。逆流氮質(zhì)譜檢漏儀改變了常規(guī)型儀 器的結(jié)構(gòu)布局，被檢

34、件置于檢漏儀主抽泵的前級部位， 因此具后可在高壓力下檢漏、不用液氮及質(zhì)譜室污染小等特點.適用于大漏率、真空衛(wèi)生較差的真空系統(tǒng) 的檢漏，其靈敏度可達10-12Pam3/so (1)工作原理 與結(jié)構(gòu)氮質(zhì)譜檢漏儀由離子源、分析器、收集器、冷 陰極電離規(guī)組成的質(zhì)譜室和抽氣系統(tǒng)及電氣部分等組 成。單級磁偏轉(zhuǎn)型氮質(zhì)譜檢漏儀現(xiàn)以 HZJ-1型儀 器為例.介紹單級磁偏轉(zhuǎn)型氮質(zhì)譜檢漏儀，其結(jié)構(gòu)如 圖2所示。在質(zhì)譜室內(nèi)有：由燈絲、離化室、離子加 速極組成離子源；由外加均勻磁場、擋板及出口縫隙 組成分析器；由抑制柵、收集極及高阻組成收集器； 第一級放大靜電計管和冷陰極電離規(guī)。質(zhì)譜室的工作 原理如圖3所示。在離化室N

35、內(nèi)，氣體電離成正離子， 在電場作用下離子聚焦成束。并在加速電壓作用下以 一定的速度經(jīng)過加速極S1的縫隙進入分析器。在均勻 磁場的作用下，具有一定速度的離子將按圓形軌跡運 動，其偏轉(zhuǎn)半徑可按式(5)計算?？梢?，當(dāng)B和U 為定值時，不同質(zhì)荷比me-1的離子束的偏轉(zhuǎn)半徑R 不同。儀器的B和R是固定的，調(diào)節(jié)加速電壓 U使氫 離子束圖中(me-1)2恰好通過出口縫隙S2,到達收 集器D,形成離子流并由放大器放大。使其由輸出表 和音響指示反映出來；而不同于氮質(zhì)荷比的離子束 (me-1)1(me-1)3因其偏轉(zhuǎn)半徑與儀器的R值不同無 法通過出口縫隙S2,所以被分離出來。(me-1)2=4, 即He+勺質(zhì)荷比

36、，除He叱外，C卅很少，可忽略 雙級串聯(lián)磁偏轉(zhuǎn)型氮質(zhì)譜檢漏儀圖 4示出了雙級900 縮轉(zhuǎn)串聯(lián)式磁偏轉(zhuǎn)型氮質(zhì)譜檢漏儀的質(zhì)譜室。由于兩 次分析，減少了非氮離子到達收集器的機率。并且， 如在兩個分析器的中間，即圖中的中間縫隙S2與鄰近 的擋板間設(shè)置加速電場，使離子在進入第二個分析器 前再次被加速。那些與氮離子動量相同的非氮離子， 雖然可以通過第一個分析器，但是，經(jīng)第二次加速進 入第二個分析器后，由于其動量與氮離子的不同而被 分離出來。由于二次分離，儀器本底及本底噪聲顯著 地減小，提高了儀器靈敏度。逆流氮質(zhì)譜檢漏儀逆流氮質(zhì)譜檢漏儀的結(jié)構(gòu)特點如圖5所示。該類儀器是 根據(jù)油擴散泵或分子泵的壓縮比與氣體種類

37、有關(guān)的原 理制成的。例如，多級油擴散泵對氮氣的壓縮比為 102;對空氣中其它成分的壓縮比為lO4106。檢漏 時，通過被檢件上漏孔進入主抽泵前級部位的氮氣， 仍有部分返流到質(zhì)譜室中去，并由儀器的輸出指示示 出漏氣訊號。這就是逆流氮頃質(zhì)譜檢漏儀的工作原理。電子散熱片規(guī)格43.5*10*43.5 電子散熱片規(guī)格 35*12.8*38 電子散熱片 規(guī)格45*10*45電子散熱片 規(guī)格42.5*35*42.5 電子散熱片 規(guī)格37.5*24*37.5 電子散熱片 規(guī)格61*12.5*58.5 電子散熱片 規(guī)格53*42.5*98 電子散熱片 規(guī)格46*13.5電鏡電子顯微鏡/電鏡(SEM TEM殍 離

38、子束聚焦顯微鏡 電子掃描顯微鏡TEM顯微鏡掃描探針顯微鏡掃描探針顯微鏡，一般只能應(yīng)用在無機材料的納 米級成像，不過很快研究者們也許就能夠把這種技術(shù) 應(yīng)用在有生命的有機體生物機械結(jié)構(gòu)成像上例如，被譽為大自然工程杰作的蝴蝶翅膀。美國橡樹嶺國家實驗室的一位來自美國北卡 萊羅納大學(xué)的研究教授卡林寧，已經(jīng)成功得到了弗吉 尼亞州赤蚊蝶翅膀的結(jié)構(gòu)圖片，分辨率高達 10毫微 米?！皰呙杼结橈@微鏡為科學(xué)家們?nèi)娴胤治鑫?體結(jié)構(gòu)，性質(zhì)及其功能性提供了無限的機會?！笨?寧說?！斑@為將來研制性能更高、成本更低的生物和 醫(yī)學(xué)應(yīng)用材料打下良好的基礎(chǔ)?！笨謱幵谏锵到y(tǒng)成像力血的研究最初源于 上個世紀八十年代原子力顯微術(shù)

39、的發(fā)展。現(xiàn)在他們正 在利用一種被稱為原子力嚴學(xué)顯微術(shù) (AFAM的技術(shù)， 這種技術(shù)利用微小的聲波，不僅可以探測物體的表面， 而且可以探測到精密生物材料表向卜的結(jié)構(gòu)，而且分 辨率大約在5毫微米左右?！斑@種改進后的成像技術(shù)可以清楚的顯現(xiàn)出 生物系統(tǒng)如何工作，分辨率可以達到 5微毫米，相當(dāng) 于一個DNA子的體積一一這也正是我們制造生物材 料所需要的尺寸，”卡林寧說?！吧锵到y(tǒng)的結(jié)構(gòu)并 不是像一一例如晶體材料一一那樣肩規(guī)律，所以需要 使用現(xiàn)實空間成像的方法才1以寸局部組織彈性以及局 部結(jié)構(gòu)進行分析。掃描探針顯微鏡正是適合這種應(yīng)用 的絕佳工具?！薄皰呙杼结橈@微鏡是納米科技的一個巨大飛 躍，”卡林寧說?！?/p>

40、這種新型科技正小速發(fā)展，所 以每時每刻都有新的研究方法不斷涌現(xiàn)出來。然而， 如果要看到掃描探針顯微鏡發(fā)揮真正潛力的f,還 是需要各學(xué)科間持續(xù)不斷的努力和發(fā)展。”掃描描道顯微鐐掃描隧道顯微鏡是80年代初期發(fā)展起來的新型顯微 儀器，能達到原子級的超高分辨率。掃描隧道顯微鏡 不僅作為觀察物質(zhì)表面結(jié)構(gòu)的重要手段，而且可以作磁力顯微鏡為在極其細微的尺度一一即納米尺度 （1nm=10-9m上 實現(xiàn)對物質(zhì)表面精細加工的新奇工具。目前科學(xué)家已 經(jīng)可以隨心所欲地操縱某些原子。一門新興的學(xué)科 納米科學(xué)技術(shù)已經(jīng)應(yīng)運而生。中國科學(xué)院化學(xué)研究所隧道顯微學(xué)研究室的科學(xué) 家正奮力投入納米科學(xué)技術(shù)的研究，運用掃描隧道顯 微學(xué)

41、方法，已于1992年成功地在石墨表面刻寫出納米 級的漢字和圖案。用掃描隧道顯微鏡在高定向裂解石墨表面上刻寫 的漢字“中國”，其中筆畫的線條寬度為 10nm如果 用這樣大小的漢字來書寫紅樓夢一書，只需大頭 針針頭那樣小的面積，就可寫進全書的內(nèi)容。磁力顯微鏡（Magnetic Force Microscope , MFM 與LFM相似，不同的是這種探針為沿著其長度方向磁 化了的鍥探針或鐵探針.當(dāng)探針接近一塊磁性樣品時， 探針尖端會像一個條狀磁鐵的北極或南極那樣，與樣 品中磁疇相互作用而感受到磁力，并使其共振頻率發(fā) 生變化，從而改變其振幅.用來觀察樣品磁場邊界的清晰度、均勻度和強度等，分辨率優(yōu)于 2

42、5nm磁力顯微鏡（Hr-MFM 產(chǎn)品由Quantum Design與瑞士 SwissProbe公司合作與銷售，目前，該產(chǎn)品已 迅速推向全球市場，高分辨率磁力顯微鏡（Hr-MFM是在材料表面納米尺度檢測技術(shù)上的巨大飛躍:的超細探針使得其分辨精度比傳統(tǒng)的 MFM高近10 倍，用Hr-MF湫得的磁分辨精度（10納米）甚至可以和用極化分辨掃描電子顯微鏡（SEMPA所得到的數(shù)據(jù)相媲美；該產(chǎn)品剛一出現(xiàn)立即受到了全球科學(xué)家的廣泛關(guān)注：2003年產(chǎn)品獲評瑞士技術(shù)創(chuàng)新獎;產(chǎn)品樣機被全球知名硬盤制造商美國希捷公司購得;瑞士創(chuàng)新獎專題文章評論該SwissProbe 公司“對于更大容量的硬盤存儲器的研究將帶來一次強烈

43、 沖擊”。實驗室的科學(xué)家可以借助其進行材料的表面 分析、磁性材料和薄膜技術(shù)等相關(guān)的研究，諸如磁性 量子點以及用于磁性隨機存儲器和鐵電隨機存儲器應(yīng) 用的層狀納米機構(gòu)等方面。靜電力顯微鏡（Electrostatic Force Microscope,靜由力顯微鏡EFM足LFM的擴展，不同的是EFMffi用帶有電荷的探 針，在共振頻率附近受迫振動，針尖和樣品起到平行 板電容器中兩塊板極的作用，因而在樣品表面掃描時， 振動振幅受樣品中電荷產(chǎn)生的靜電力的影響.能夠測 量出1010N的靜電力.對應(yīng)于1019F的電容，這種顯微鏡可通過非接觸方式研究微電子電路在極小尺 度上的電特性.橫向力顯微鏡橫向力顯微鏡（

44、LFM是在原子力顯微鏡（AFM表面 形貌成像基礎(chǔ)上發(fā)展的新技術(shù)之一。工作原理與接觸 模式的原子力顯微鏡相似。原子力顯微鏡原子力顯微鏡，簡稱AFM是利用原子、分子間的相 互作用力（主要范德瓦爾斯力，價鍵力，表面張力， 萬有引力，以及靜電力和磁力等）來觀察物體表面微 觀形貌的新型實驗技術(shù)。AF響單原理：利用納米級的探針固定在可靈敏操控 的微米級尺度的彈性懸臂上，當(dāng)針尖很靠近樣品時， 其頂端的原子與樣品表面原子間的作用力會使懸臂彎 曲，偏離原來的位置。根據(jù)掃描樣品時探針偏離量或 其它反饋量重建三維圖像，就能間接獲得樣品表面的 形貌圖。AFM突破了 STM只能夠用于掃描不容易氧化的良導(dǎo)體 樣品的限制，

45、可以掃描導(dǎo)體和絕緣體。AFM具有多種 掃描模式：接觸掃描模式是原子力顯微鏡的基本工作 模式，輕敲掃描模式（Tapping Mode）特別適用于檢測 生物樣品及其它柔軟、易碎、粘附性較強的樣品。MicroNano AFM-III的主要技術(shù)參數(shù)：掃描模式：AFMg觸/非接觸模式形貌檢測功能，劃移 掃描，F(xiàn)-Z曲線測量，刻蝕功能； 側(cè)向力/輕敲掃描模式形貌檢測功能；樣品尺寸：010mm樣品厚度：& 5mm3描范圍： 標準配置6仙mx 6m接觸模式 AFM（X-Y向0.2nm； Z 向 0.03nm）錫膏無鉛焊錫膏是設(shè)計用于當(dāng)今 SM件產(chǎn)工藝的一種免清 洗型焊錫膏。采用氧化量極少的無鉛合金匕無活性較

46、好的助焊膏配制而成，粘度可滿足印刷與點涂工藝，應(yīng) 用范圍十分廣泛。錫球無鉛錫球用于IC封裝焊接點上，如BGACSPI?輕、薄、 小、高性能、多功能焊接。錫球具有自動校正能力口 允許相對比較大的置放誤差，無端向平整度問題，電鍍 用錫球，具制程中每一步驟均受嚴格控制并精選高純 度合金。燒結(jié)爐高溫電爐，實驗電爐，試驗電爐，氣氛爐，箱式電爐，管 式電爐，燒結(jié)爐，熔塊爐，立式電爐，臥式電爐，真空爐， 節(jié)能電爐，升降爐，梭式爐，熔塊爐等.電鍍（1）、電鍍的涵義電鍍是應(yīng)用電解原理在某些金屬表面鍍薄層其他金屬或合金的過程。(2)、電鍍的目的電鍍的目的主要是使金屬增強抗腐蝕能力、增加美觀 和表面硬度。(3)、電

47、鍍的原理電鍍的原理與電解精煉銅的原理是一致的。電鍍 時，一般都是用含有鍍層金屬離子的電解質(zhì)配成電鍍 液；把待鍍金屬制品浸入電鍍液中匕直流電源的負極 相連，作為陰極；用鍍層金屬作為陽極，匕直流電源 正極相連。通入低壓直流電，陽極金屬溶解在溶液中 成為陽離子，移向陰極，這些離子在陰極獲得電子被 還原成金屬，覆蓋在需要電鍍的金屬制品上。傳感器力學(xué)傳感器、光學(xué)傳感器、熱學(xué)傳感器、聲學(xué)傳感器、 磁學(xué)傳感器，氣敏傳感器、離子傳感器，酶傳感器、 免疫傳感器、微生物傳感器、細胞傳感器、組織傳感 器、DNA專感器等真空泵真空泵、無油真空泵、往復(fù)式真空泵、水環(huán)真空泵、 羅茨真空泵、真空機組、旋片式真空泵等。橢偏儀

48、u木線偏振光入射到溥膜表面時，入射光波中的電 場強度P分量和電場強度S分量在兩種媒質(zhì)的交界面 上的行為是不同的,即通常P分量和S分量的反射率和 反射相移各不相同,于是在反射光的P分量和S分量之 間產(chǎn)生了附加的振幅差和位相差，反射光一會成為 橢圓偏振光。在入射介質(zhì)及基片的光學(xué)常數(shù)和入射角 已知的情況卜，這個反射的橢圓偏振光的參數(shù)僅由薄 膜的光學(xué)常數(shù)決定。這就是橢偏法測量薄膜光學(xué)常數(shù) 的根據(jù)。老化箱高低溫濕熱箱，低溫恒溫恒濕箱，恒溫恒濕箱，恒溫恒 濕試驗箱,氤燈耐氣候箱,氤燈試驗機,氤燈老化箱,紫 外老化機，紫外老化箱，紫外試驗機，老化箱，溫度沖擊 箱，溫度沖擊試驗機，溫度沖擊試驗箱，臭氧老化試驗

49、 箱，臭氧老化箱，鹽霧試驗.水價分析儀WA-1E水份分析儀是集我廠多年來生產(chǎn)分析儀器之 經(jīng)驗，綜合國內(nèi)外測水儀之優(yōu)點，結(jié)合卡爾費休法進 行微量水份測定之經(jīng)典研制而成的自動化微量水份 測定儀。氣體分析儀氣體分析儀，主要用于快速測量空氣中的氣體，它采 用專利的氣敏半導(dǎo)體傳感器原理，可以精確探測氣體濃度達到ppb級，所配備各種量程感器之間可以相互 更換，而不需要重新標定，降低用戶使用成本，采用 類似于手機菜單的形式，使用簡單，可在任何需要測 量各種臭氧濃度的場合下使用。500系列多了數(shù)據(jù)記 錄和下載功能?；亓骱富亓骱笭t：又稱“再流焊 (Reflow Machine),它是 通過提供一種加熱環(huán)境，使焊

50、錫膏受熱融化從而讓表 面貼裝元器件和PCB 早盤通過焊錫膏合金可靠地結(jié)合 在一起的設(shè)備。再流焊再流焊爐主要有熱板式、紅外、熱風(fēng)、紅外+熱風(fēng)和 氣相焊等形式。再流焊熱傳導(dǎo)方式主要有輻射和對流兩種方式。輻射傳導(dǎo)一一主要有紅外爐。具優(yōu)點是熱效率高，溫 度陡度大，易控制溫度曲線，雙面焊接時 PCE、下 溫度易控制。其缺點是溫度/、均勻；在同一塊 PCB上 由于器件的顏色和大小不同、其溫度就不同。為了使 深顏色和大體積的元器件達到焊接溫度、必須提高焊 接溫度，容易造成焊接不良和損壞元器件等缺陷。對流傳導(dǎo)一一主要肩熱風(fēng)爐。具優(yōu)點是溫度均勻、焊 接質(zhì)量好。缺點是PCB、上溫差以及沿焊接長度方 向的溫度梯度不

51、易控制。(1)目前再流焊側(cè)向采用熱風(fēng)小對流方式，在爐子 卜而采用制冷手段，以保護爐子上、卜和長度方向的 溫度梯度，從而達到工藝曲線的要求。(2)是否需要充N2選擇(基于免清洗要求提出的)充N2的主要作用是防止高溫下二次氧化，達到提高可 焊性的目的。對于什么樣的產(chǎn)品需要充 N2,目前還有 爭議?？偟目雌饋恚U焊接，以及高密度，特別是 引腳中心距為0.5mm以下的焊接過程有必要用N2,否 則沒有太大必要。另外，如果N2純度低(如普通20PPN 效果不明顯，因此要求 N2純度為100PPN蒸汽焊爐后再次興起的趨勢。特別是對電性能要求極 高的軍品。烘干爐主要用于電子元件和半導(dǎo)體器件排膠、干燥、燒結(jié)及

52、 玻璃退火等熱處理工藝，也可對其它材料進行同類溫 度卜的特殊處理，已廣泛使用在半導(dǎo)體、太陽能電池、 納米材料、磁性材料、光電子等行業(yè)?？筛鶕?jù)用戶的要求配置氣氛保護裝置。激光切割激光切割的特點：.切割縫細：激光切割的割縫一般在0.100.20mm.切割面光滑：激光切割的切割向尢毛刺，表面粗 糙度一M控制在Ra： 12.5以上。.速度快：激光切割的速度與線切割的速度相比要 快很多。.熱變形?。杭す饧庸さ募す飧羁p細、速度快、能 量集中，因此傳到被切割材料上的熱量小，引起材料 的父形也非常小。.激光切割不會與材料表面相接觸，保證產(chǎn)品不劃 傷。.適合大件產(chǎn)品的加工：大件產(chǎn)品的模具制造費用 很高，激光加、

53、需任何模具制造，而且激光加工完 全避免材料沖剪時形成的塌邊，可以大幅度地降低企 業(yè)的生產(chǎn)成本提高產(chǎn)品的檔次。.非常適合新產(chǎn)品的開發(fā)：一旦產(chǎn)品圖紙形成后， 馬上可以進行激光加工，你可以在最短的時間內(nèi)得到 新產(chǎn)品的實物。.節(jié)省材料：激光加工采用電腦編程，可以把/、同 形狀的產(chǎn)品進行材料的套裁，最大限度地提高材料的 利用率。9,適合激光加工的材料：激光可以對鋼板、不銹鋼、 鋁合金板、硬質(zhì)合金等進行加工。10.激光加工應(yīng)用行業(yè)：(1)目前開展激光加工的方面主要是電梯、自動扶 梯、紡織機械、食品機械、輕工機械、冷凍機械、印 刷機械、復(fù)印機械、交通機械、港口機械、運輸機械、 船舶機械、農(nóng)用機械、筑路機械、

54、搬運機械、環(huán)保機 械及礦山、冶金機械等等的板金加工。(2)其次是電子、電器業(yè)包括醫(yī)療儀表、器械 以及控制柜箱等板金加工。(3)電機制造業(yè)中各類轉(zhuǎn)子、定子、葉片的切 割成型。(4)量具、刃具業(yè)中各類鋸條鋸片等切割成型。（5）汽布制造業(yè)包括零件、總裝合成和流水線 中部件的制造，（6）廣告、裝潢及工藝品制造業(yè)。涂布機光材料涂布機（反光膜涂布機、反光布涂布機）、金 銀卡紙涂布復(fù)合機、不干膠紙涂布機、雙面膠帶涂布 機、電化鋁涂布機、PTP鋁箔印刷涂布機、布基藥膏 涂布機。管道泵管道泵是單吸單級離心泵的一種，屬立式結(jié)構(gòu)， 因其進出口在同一直線上，且進出口口徑相同，仿似 一段管道，可安裝在管道的任何位置故取

55、名為管道泵。結(jié)構(gòu)特點：為單吸單級離心泵，進出口相同并在 RJ一直線上，和軸中心線成直交，為立式泵。排污泵排污泵有：不銹鋼排污泵，潛水排污泵，自吸排污泵， 液下排污泵,無堵塞排污泵,化工排污泵QV移動式 潛水排污泵，WQ型自動耦合裝置潛水排污泵,WL 型干式便拆立式排污泵,LW 型直立式排污泵,GW 型管道式排污泵,QWP型不銹鋼潛水排污泵,AS、 AV型撕裂式排污泵，JYWQ型自動攪勻潛水排污泵, WQ以自動保護潛水排污泵,ZW型自吸無堵塞排污 泵自吸泵普通離心泵，若吸入液卸在葉輪之下，啟動時應(yīng)預(yù)先 灌水，很不方便。為了在泵內(nèi)存 水，吸入管進口需 要裝底閥，泵工作時，底閥造成很大的水力損失。所

56、謂自吸泵，就是在啟動前不需灌水（安裝后第一次 啟動仍然需灌水），經(jīng)過短時間運轉(zhuǎn)，靠泵本身的作 用，即可以把水吸上來，投入正常工作。自吸泵按作用原理分為以下幾類：.氣液混合式（包括內(nèi)混式和外混式）；.水環(huán)輪式；.射流式（包括液體射流和氣體射流）。氣液混合式自吸泵的工作過程：由于自吸泉泉體的特殊結(jié)構(gòu)，水泵停轉(zhuǎn)后，泵體內(nèi)存有一定量的水，泵再次啟動后由于葉輪旋轉(zhuǎn)作用，吸 入管路的空氣和水充分混合，并被排到氣水分離室， 氣水分高室上部的氣體溢出，下部的水返回葉輪，重 新和吸入管路的剩余空氣混合，直到把泵及吸入管內(nèi) 的氣體全部排出，完成自吸，并正常抽水。水環(huán)輪式自吸泵是將水環(huán)輪和水泵葉輪組合在一個殼 體內(nèi)

57、，借助水環(huán)輪將氣體排出，實現(xiàn)自吸。當(dāng)泵正常 工作后，可通過閥截斷水環(huán)輪和水泵葉輪的通道，并 且放掉水環(huán)輪內(nèi)的液體。射流式自吸泉，由離心泉和射流泵（或噴射器）組合 而成，依靠噴射裝置，在噴嘴處造成真空實現(xiàn)抽吸。液卜宗液下泵具有易啟動、無泄露、占地少、安裝方便等特 點，因而適合輸送不得泄露的強腐蝕性、高危險性或 極為貴重的液體，也特別適合要求安裝容器或基坑的 場合。磁力泵其電動機通過磁性聯(lián)軸器和外磁鋼連在一起，葉輪和 內(nèi)磁鋼連在一起。在外磁鋼和內(nèi)磁鋼之間設(shè)有全密封 的隔離套，將內(nèi)、外磁鋼完全隔開，使內(nèi)磁鋼處于介 質(zhì)之中，電動機的轉(zhuǎn)軸通過磁鋼間磁極的吸力直接帶 動葉輪同步轉(zhuǎn)動。局溫往復(fù)召高溫往復(fù)泉是

58、本單缸專為煉油、造紙、油氈,石化等行 監(jiān)設(shè)計生產(chǎn)的一秤新穎泉,該泵設(shè)計合理，結(jié)構(gòu)緊湊， 參照國外產(chǎn)品消化吸收。是一種很有使用前途的輸送 設(shè)備，該泵對于一些用戶仍在使用的蒸氣往復(fù)泵,是一 種節(jié)能，環(huán)保代替產(chǎn)品。本泵適用于溫度在150-400C 之間的熱水、熱油或其它物化性能類似于油水的局溫 介質(zhì)。本泵機體部份由齒花箱,電機、飛輪十字頭等構(gòu)成,齒 輪箱采用飛濺方式潤滑。泵體由鑄鋼組成雙層夾套結(jié)構(gòu)，夾室內(nèi)可通蒸氣，以往 進行保溫（如重油類），泵閥結(jié)何采用球閥方式，密封可 罪、動作火敏。水頭和相體之間后冷卻套向力，冷卻套 用自來水循環(huán)萬式，有效地阻止泵頭熱量向箱體部擴 散。本泵密封填料采用國內(nèi)最先進的

59、石墨纖維高溫填 料,其它零部件均采用耐熱鋼及時效處理，保證了該泵 的使用壽命。玻璃鋼泵玻璃鋼泵包括玻璃鋼離心泵、玻璃鋼液下泵、耐腐仲 性強，注意環(huán)保和服務(wù)的提升，是化工工業(yè)用泵的理 想選擇。隔膜泵氣動隔膜泵是一種新型輸送機械，是目前國內(nèi)最新穎 的一種泵類。采用壓縮空氣為動力源，對于各種腐蝕 性液體，帶顆粒的液體，高粘度、易揮發(fā)、易燃、劇 毒的液體，均能予以抽光吸盡。 氣動隔膜泵具有四種 材質(zhì)：塑料、鋁合金、鑄鐵、不銹鋼。隔膜泵根據(jù)/、 同液體介質(zhì)分別采用丁晴橡膠、氯丁橡膠、氟橡膠、 聚四氟乙烯、聚四六乙烯。以滿足不同用戶的需要。 安置在各種特殊場合，用來抽送種常規(guī)泉/、能抽吸的 介質(zhì)，均取得了

60、滿意的效果。一、氣動隔膜泵適用場合由于氣動隔膜泵具有以上特點，所以在世界上隔 膜泵自從誕生以來正逐步侵入其他泵的市場，并占有 其中的一部分。如：噴漆、陶瓷業(yè)中隔膜泵已占有絕對的主導(dǎo)地位，而在其他的一些行業(yè)中，像環(huán)保、廢 水處理、建筑、排污、精細化工中正在擴大它的市場 份額，并具有其他泵不可替代的地位。氣動隔膜泵的 優(yōu)勢在于：1、由于用空氣作動力，所以流量隨背壓（出口阻 力）的變化而自動調(diào)整，適合用于中高粘度的流體。 而離心泵的工作點是以水為基準設(shè)定好的，如果用于 粘度稍高的流體，則需要配套減速機或變頻調(diào)速器， 成本就大大的提高了，對于齒輪泵也是同樣如此。2、在易燃易爆的環(huán)境中用氣動泵可靠且成本