DB11- 1631-2019 電子工業(yè)大氣污染物排放標準

1、ICS 13.020.40Z 62DB11北京市地方標準DB 11/ 16312019電子工業(yè)大氣污染物排放標準Emission standard of air pollutants for electronic industry2019 - 06 - 13 發(fā)布2019 - 09 - 01 實施北京市生態(tài)環(huán)境局北京市市場監(jiān)督管理局發(fā) 布DB11/ 16312019目次 HYPERLINK l _bookmark0 前言II HYPERLINK l _bookmark1 引言III HYPERLINK l _bookmark2 范圍1 HYPERLINK l _bookmark3 規(guī)范性引用文

2、件1 HYPERLINK l _bookmark4 術(shù)語和定義2 HYPERLINK l _bookmark5 時段劃分4 HYPERLINK l _bookmark6 有組織排放控制要求4 HYPERLINK l _bookmark7 無組織排放控制要求6 HYPERLINK l _bookmark8 企業(yè)邊界污染監(jiān)控要求9 HYPERLINK l _bookmark9 監(jiān)測9 HYPERLINK l _bookmark10 實施與監(jiān)督11 HYPERLINK l _bookmark11 附錄 A（資料性附錄） 電子專用材料涵蓋的產(chǎn)品范圍12IDB11/ 16312019前言本標準為全文強制

3、。本標準依據(jù)GB/T 1.12009給出的規(guī)則起草。本標準由北京市生態(tài)環(huán)境局提出并歸口。本標準由北京市人民政府于2019年6月4日批準。本標準由北京市生態(tài)環(huán)境局組織實施。本標準主要起草單位：北京市環(huán)境保護科學研究院。本標準主要起草人：李國昊、李樹琰、李宗澤、劉曉宇、聶磊、邵霞、高喜超、白畫畫、石愛軍、薛亦峰。IIDB11/ 16312019引言為貫徹中華人民共和國環(huán)境保護法、中華人民共和國大氣污染防治法、大氣污染防治行動計劃和北京市大氣污染防治條例，防治電子工業(yè)的大氣污染物排放，改善北京市大氣環(huán)境質(zhì)量， 促進電子工業(yè)的技術(shù)進步和可持續(xù)發(fā)展，制定本標準。IIIDB11/ 16312019電子工業(yè)

4、大氣污染物排放標準范圍本標準規(guī)定了電子工業(yè)（包括電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導體器件、顯示器件及光電子器件、電子終端產(chǎn)品）大氣污染物排放控制要求、監(jiān)測和監(jiān)督管理要求。本標準適用于現(xiàn)有電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的大氣污染物排放管理，以及電子工業(yè)建設(shè)項目的環(huán)境影響評價、環(huán)境保護設(shè)施設(shè)計、竣工環(huán)境保護驗收、排污許可證核發(fā)及其投產(chǎn)后的大氣污染物排放管理。規(guī)范性引用文件本標準內(nèi)容引用了下列文件或其中的條款。凡是注明日期的引用文件，僅所注日期的版本適用于本文件。凡是不注明日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改單）適用于本文件。GB/T 15516空氣質(zhì)量 甲醛的測定 乙酰丙酮分光光度法GB/T

5、16157固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法GB/T 16758排風罩的分類及技術(shù)條件AQ/T 4274局部排風設(shè)施控制風速檢測與評估控制規(guī)范HJ/T 27固定污染源排氣中氯化氫的測定 硫氰酸汞分光光度法HJ/T 28固定污染源排氣中氰化氫的測定 異煙酸-吡唑啉酮分光光度法HJ/T 30固定污染源廢氣中氯氣的測定 甲基橙分光光度法HJ 38固定污染源廢氣 總烴、甲烷和非甲烷總烴的測定 氣相色譜法HJ/T 42固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法HJ/T 43固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二胺分光光度法HJ/T 55大氣污染物無組織排放監(jiān)測技術(shù)導則HJ/T 65大

6、氣固定污染源 錫的測定 石墨爐原子吸收分光光度法HJ/T 67大氣固定污染源 氟化物的測定 離子選擇電極法HJ 77.2環(huán)境空氣和廢氣 二噁英類的測定 同位素稀釋高分辨氣相色譜高分辨質(zhì)譜法HJ 75固定污染源煙氣（SO2、NOX、顆粒物）排放連續(xù)監(jiān)測技術(shù)規(guī)范HJ/T 397固定源廢氣監(jiān)測技術(shù)規(guī)范HJ 501水質(zhì) 總有機碳的測定 燃燒氧化非分散紅外吸收法HJ 533環(huán)境空氣和廢氣 氨的測定 納氏試劑分光光度法HJ 538固定污染源廢氣 鉛的測定 火焰原子吸收分光光度法（暫行）HJ 544固定污染源廢氣 硫酸霧的測定 離子色譜法HJ 548固定污染源廢氣 氯化氫的測定 硝酸銀容量法HJ 549環(huán)境

7、空氣和廢氣 氯化氫的測定 離子色譜法HJ 583環(huán)境空氣 苯系物的測定 固體吸附/熱脫附-氣相色譜法HJ 584環(huán)境空氣 苯系物的測定 活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法HJ 604環(huán)境空氣 總烴、甲烷和非甲烷總烴的測定 直接進樣-氣相色譜法HJ 644環(huán)境空氣 揮發(fā)性有機物的測定 吸附管采樣 熱脫附/氣相色譜-質(zhì)譜法1DB11/ 16312019HJ 657 空氣和廢氣 顆粒物中鉛等金屬元素的測定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法HJ 685 固定污染源廢氣 鉛的測定 火焰原子吸收分光光度法HJ 692 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 非分散紅外吸收法HJ 693 固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 定

8、電位電解法HJ 732 固定污染源廢氣 揮發(fā)性有機物的采樣 氣袋法HJ 733泄漏和敞開液面排放的揮發(fā)性有機物檢測技術(shù)導則HJ 734固定污染源廢氣 揮發(fā)性有機物的測定 固相吸附-熱脫附/氣相色譜-質(zhì)譜法HJ 759環(huán)境空氣 揮發(fā)性有機物的測定 罐采樣/氣相色譜-質(zhì)譜法HJ 777空氣和廢氣 顆粒物中金屬元素的測定 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法HJ 819排污單位自行監(jiān)測技術(shù)指南 總則HJ 836固定污染源廢氣 低濃度顆粒物的測定 重量法HJ 1011環(huán)境空氣和廢氣 揮發(fā)性有機物組分便攜式傅里葉紅外監(jiān)測儀技術(shù)要求及檢測方法HJ 1012環(huán)境空氣和廢氣 總烴、甲烷和非甲烷總烴便攜式監(jiān)測儀技術(shù)要求及

9、檢測方法DB 11/ 1195固定污染源監(jiān)測點位設(shè)置技術(shù)規(guī)范DB 11/T 1367固定污染源廢氣 甲烷/總烴/非甲烷總烴的測定 便攜式氫火焰離子化檢測器法DB 11/ T 1484固定污染源廢氣揮發(fā)性有機物監(jiān)測技術(shù)規(guī)范DB 11/ T 1566環(huán)境空氣和廢氣 三甲苯的測定 活性炭吸附/二硫化碳解吸-氣相色譜法污染源自動監(jiān)控管理辦法（國家環(huán)境保護總局令 第 28 號）環(huán)境監(jiān)測管理辦法（國家環(huán)境保護總局令 第 39 號）術(shù)語和定義下列術(shù)語和定義適用于本文件。3.1電子專用材料 special electronic materials具有特定要求且只用于電子產(chǎn)品的材料。根據(jù)其作用與用途，包括電子功

10、能材料：半導體材料、光電子材料、壓電晶體材料、鋁電解電容器電極箔；互聯(lián)與封裝材料：覆銅板及銅箔材料；工藝與輔助材料：電子漿料等。不包括磁性材料、陶瓷材料、鋰離子電池材料、焊接材料等。具體產(chǎn)品范圍見附錄A。3.2電子元件 electronic unit電子電路中可對電壓和電流進行控制、變換和傳輸?shù)染哂歇毩⒐δ艿膯卧?。包括：電阻器、電容器、電子變壓器、電感器、壓電晶體元器件、電子敏感元器件與傳感器、電接插元件、控制繼電器、微特電機與組件、電聲器件等產(chǎn)品。3.3印制電路板 printed circuit board（PCB）在絕緣基材上，按預定設(shè)計形成印制元件、印制線路或兩者結(jié)合的導電圖形的印制電路

11、或印制線路成品板。包括剛性板與撓性板，單面印制電路板、雙面印制電路板、多層印制電路板，以及剛撓結(jié)合印制電路板和高密度互連印制電路板等。2DB11/ 163120193.4半導體器件 semiconductor device利用半導體材料的特殊電特性制造，以實現(xiàn)特定功能的電子器件。包括分立器件和集成電路兩大類產(chǎn)品。3.5光電子器件 photoelectron component利用半導體光-電子（或電-光子）轉(zhuǎn)換效應制成的各種功能器件。包括發(fā)光二極管（LED）；半導體光電器件中的光電轉(zhuǎn)換器、光電探測器等；激光器件中的氣體激光器件、半導體激光器件、固體激光器件、靜電感應器件等；光通信電路及其他器件

12、；半導體照明器件等。3.6顯示器件 display device基于電子手段呈現(xiàn)信息供視覺感受的器件。包括薄膜晶體管液晶顯示器件（ TN/STN-LCD、TFT-LCD）、低溫多晶硅薄膜晶體管液晶顯示器件（LTPS-TFT-LCD）、有機發(fā)光二極管顯示器件（OLED）、真空熒光顯示器件（VFD）、場發(fā)射顯示器件（FED）、等離子顯示器件（PDP）、曲面顯示器件以及柔性顯示器件等。電子終端產(chǎn)品 electron terminals products以采用印制電路板（PCB）組裝工藝技術(shù)為基礎(chǔ)裝配的具有獨立應用功能的電子產(chǎn)品或組件。包括計算機以及其他電子設(shè)備。3.8揮發(fā)性有機物 volatile

13、organic compounds（VOCs）參與大氣光化學反應的有機化合物，或者根據(jù)有關(guān)規(guī)定確定的有機化合物。本標準采用非甲烷總烴（以NMHC表示）作為揮發(fā)性有機物綜合控制項目。3.9非甲烷總烴 non-methane hydrocarbons（NMHC）采用規(guī)定的監(jiān)測方法，氫火焰離子化檢測器有響應的除甲烷外的氣態(tài)有機化合物的總和，以碳的質(zhì)量濃度計。3.10企業(yè)邊界 enterprise boundary電子工業(yè)企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的法定邊界。若難以確定法定邊界，則指企業(yè)或生產(chǎn)設(shè)施的實際占地邊界。3.11VOCs 物料 VOCs-containing materials33.7DB11/ 1631

14、2019VOCs質(zhì)量占比大于等于10%的原輔材料、產(chǎn)品和廢料（渣、液），以及有機聚合物原輔材料和廢料（渣、液）。3.12密閉排氣系統(tǒng) closed vent system將工藝設(shè)備或車間排出或逸散出的大氣污染物，捕集并輸送至污染控制設(shè)備或排放管道，使輸送的氣體不直接與大氣接觸的系統(tǒng)。3.13VOCs 治理設(shè)施 treatment facility for VOCs處理VOCs的吸收裝置、吸附裝置、冷凝裝置、燃燒裝置、生物處理設(shè)施或其它有效的污染處理設(shè)施。3.14揮發(fā)性有機液體 volatile organic liquid任何能向大氣釋放VOCs的符合以下任一條件的有機液體：（1）真實蒸氣壓大

15、于等于0.3 kPa的單一組分有機液體；（2）混合物中真實蒸氣壓大于等于0.3 kPa的組分總質(zhì)量占比大于等于20%的有機液體。3.15真實蒸氣壓 true vapor pressure有機液體工作（儲存）溫度下的飽和蒸氣壓（絕對壓力），或者有機混合物液體氣化率為零時的蒸氣壓，又稱泡點蒸氣壓，可根據(jù)GB/T 8017測定的雷德蒸氣壓換算得到。注：在常溫下工作（儲存）的有機液體，其工作（儲存）溫度按常年的月平均氣溫最大值計算。3.16開式循環(huán)冷卻水系統(tǒng) open recirculating cooling water system循環(huán)冷卻水與大氣直接接觸散熱的循環(huán)冷卻水系統(tǒng)。3.17現(xiàn)有污染源

16、existing pollution source本標準實施之日前，已建成投產(chǎn)或環(huán)境影響評價文件已通過審批的工業(yè)企業(yè)和生產(chǎn)設(shè)施。3.18新建污染源 new pollution source本標準實施之日起，環(huán)境影響評價文件通過審批的新建、改建和擴建的建設(shè)項目。4 時段劃分4DB11/ 16312019現(xiàn)有污染源自本標準實施之日起至 2020 年 3 月 31 日止執(zhí)行第時段規(guī)定的限值，自 2020 年 4月 1 日起執(zhí)行第時段規(guī)定的限值。新建污染源自本標準實施之日起執(zhí)行第時段規(guī)定的限值。廠區(qū)內(nèi) VOCs 無組織監(jiān)控要求自 2020 年 4 月 1 日起執(zhí)行。其他未劃分時段的排放限值和控制要求等

17、，自本標準實施之日起執(zhí)行。有組織排放控制要求電子工業(yè)生產(chǎn)過程中，設(shè)備或車間排氣筒排放大氣污染物濃度執(zhí)行表 1 規(guī)定的限值。表1 排氣筒大氣污染物排放濃度限值單位：mg/m3序號污染物項目排放濃度限值監(jiān)控位置第時段第時段1顆粒物10車間或生產(chǎn)設(shè)施排氣筒2氯化氫103氮氧化物a504硫酸霧5.05氰化氫 b0.56氟化物（以 F 計）c3.07氯氣 d3.08氨10.09苯1.00.510甲醛5.011苯系物 e15812非甲烷總烴（NMHC）201013鉛及其化合物 f0.114錫及其化合物 g1.0a 適用于電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導體器件、顯示器件及光電子器件工業(yè)企業(yè)的硝酸酸洗

18、工藝。b 適用于印制電路板和半導體器件工業(yè)企業(yè)。c 適用于電子專用材料、電子元件、印制電路板、半導體器件、顯示器件及光電子器件工業(yè)企業(yè)。d 適用于電子專用材料、半導體器件和顯示器件及光電子器件工業(yè)企業(yè)。e 苯系物包括苯、甲苯、二甲苯、三甲苯、乙苯和苯乙烯。f 適用于電子專用材料、電子元器件、印制電路板和電子終端產(chǎn)品工業(yè)企業(yè)。g 適用于電子專用材料、電子元器件、印制電路板、半導體器件和電子終端產(chǎn)品工業(yè)企業(yè)。5.2 VOCs 燃燒（焚燒、氧化）裝置除滿足表 1 規(guī)定的限值外，還需對排放煙氣中的氮氧化物、二噁英類進行控制，達到表 2 規(guī)定的限值。5DB11/ 16312019表2 VOCs 燃燒（焚

19、燒、氧化）裝置氮氧化物和二噁英類排放限值單位：mg/m3序號污染物項目排放濃度限值第時段第時段1氮氧化物1002二噁英類 a0.1 ng-TEQ /m3a 燃燒含氯有機廢氣時，需監(jiān)測該指標。進入VOCs 燃燒（焚燒、氧化）裝置的廢氣需要補充空氣進行燃燒、氧化反應的，排氣筒中實測大氣污染物排放濃度，應按公式（1）換算為基準含氧量為 3%的大氣污染物基準排放濃度，并以基準排放濃度作為達標判定依據(jù)。進入 VOCs 燃燒（焚燒、氧化）裝置中廢氣含氧量可滿足自身燃燒、氧化反應需要，不需另外補充空氣的（燃燒器需要補充空氣助燃的除外），按排氣筒中實測大氣污染物濃度作為達標判定依據(jù)，但裝置出口煙氣含氧量不得高

20、于裝置進口廢氣含氧量。基實 21 O基 21 O實.（1）式中：基 大氣污染物基準排放濃度，mg/m3； O基 干煙氣基準含氧量，%，取值為3； O實 實測的干煙氣含氧量，%；實 實測大氣污染物排放濃度，mg/m3。非燃燒（焚燒、氧化）類廢氣處理裝置的排放口以實測濃度作為達標判定依據(jù)。排氣筒高度應按環(huán)境影響評價要求確定，且應不低于 15m。排氣筒排放氯氣、氰化氫兩種污染物中任一種或一種以上時，其高度應不低于 25m。當執(zhí)行不同排放控制要求的廢氣合并排氣筒排放時，應在廢氣混合前進行監(jiān)測，并執(zhí)行相應的排放控制要求。若可選擇的監(jiān)控位置只能對混合后的廢氣進行監(jiān)測，則應按各排放控制要求中最嚴格的規(guī)定執(zhí)行

21、。無組織排放控制要求VOCs 物料的儲存、轉(zhuǎn)移和輸送控制要求VOCs 物料應儲存于密閉的容器、包裝袋、儲罐、儲庫、料倉中。盛裝 VOCs 物料的容器或包裝袋應存放于儲存室內(nèi)。盛裝VOCs 物料的容器或包裝袋在非取用狀態(tài)時應加蓋、封口，保持密閉。對于真實蒸氣壓2.8 kPa 且儲罐容積20 m3 的揮發(fā)性有機液體儲罐，應符合以下規(guī)定之一：采用浮頂罐；采用固定頂罐，應安裝密閉排氣系統(tǒng)，排氣至廢氣收集處理系統(tǒng)并執(zhí)行表 1 和表 2 規(guī)定的限值；6DB11/ 16312019采取氣相平衡系統(tǒng)；采取其他等效措施。固定頂罐應符合下列規(guī)定：儲罐呼吸閥、計量或取樣裝置，除工作、測量或取樣外，應保持氣密狀態(tài)；罐

22、頂不應有破洞、裂縫或其他破損情況。內(nèi)浮頂罐應符合下列規(guī)定：內(nèi)浮頂罐應安裝液體鑲嵌式密封、機械式鞋形密封、雙封式密封或其他等效密封的其中一種高效密封方式；罐頂上方VOCs 檢測濃度不應超過 4000 mol/mol。外浮頂罐應符合下列規(guī)定：外浮頂罐應采用雙封式密封，且初級密封應為液體鑲嵌式密封、機械式鞋形密封或其他等效密封的其中一種高效密封方式；初級密封外殼和二級密封不應有任何開口。液體VOCs 物料應采用密閉管道輸送。非管道輸送方式轉(zhuǎn)移VOCs 物料時，應采用密閉容器。粉狀、粒狀 VOCs 物料應采用氣力輸送設(shè)備、管狀帶式輸送機、螺旋輸送機等密閉輸送方式， 或者采用密閉的包裝袋、容器或罐車進行

23、物料轉(zhuǎn)移。盛裝過 VOCs 物料的廢包裝容器應加蓋密閉。VOCs 物料的使用過程控制要求VOCs 物料的使用過程應采用密閉設(shè)備，或在密閉空間內(nèi)進行操作，廢氣經(jīng)收集系統(tǒng)導入處理系統(tǒng)后排放。不能密閉的，應采取局部氣體收集導入處理系統(tǒng)后排放。VOCs 物料的使用過程包括但不局限于以下作業(yè)：溶劑復配、配膠等；上（點）膠、涂漆、噴涂、涂覆、印刷等；光刻、顯影、刻蝕、擴散等；研磨、清洗、烘干等。企業(yè)應記錄含VOCs 原輔材料的名稱、使用量、回收量、廢棄量、去向以及VOCs 含量。記錄保存期限不得少于三年。實驗室若涉及使用含 VOCs 的化學品進行實驗，應在通風柜（櫥）中進行，廢氣應排至VOCs廢氣收集處理

24、系統(tǒng)。設(shè)備與管線組件泄漏控制要求對氣態(tài)、液態(tài) VOCs 物料流經(jīng)的泵、壓縮機、閥門、法蘭及其他連接件等密封點大于等于 2000 個的企業(yè)（不含潔凈空間內(nèi)的設(shè)備或管線組件密封點），企業(yè)應進行泄漏檢測。滿足下列條件之一，則認定設(shè)備與管線組件發(fā)生了泄漏：目測設(shè)備與管線組件存在滲液、滴液現(xiàn)象；7DB11/ 16312019設(shè)備與管線組件密封點的VOCs 泄漏檢測值超過表 3 規(guī)定的限值。表3 設(shè)備與管線組件密封點的VOCs 泄漏檢測限值單位：mol/mol序號設(shè)備泄漏檢測限值1氣態(tài) VOCs 物料、揮發(fā)性有機液體1000 a2其他液態(tài) VOCs 物料500 aa 扣除環(huán)境本底值后的凈值。揮發(fā)性有機液體

25、泄漏超過 3 滴/分鐘，則認定企業(yè)未采取有效措施減少物料泄漏。企業(yè)應建立泄漏檢查、檢測與修復制度，對設(shè)備與管線組件應每周進行不少于一次的目視檢查， 對泵、壓縮機等動密封點每季度檢測一次，對設(shè)備與管線組件的靜密封點每半年檢測一次。泄漏檢測應建立臺帳，記錄檢查時間、設(shè)備與管線組件狀況、檢測時間、檢測儀器讀數(shù)，修復時應記錄修復時間和確認已完成修復的時間，記錄修復后檢測儀器讀數(shù)，記錄保存期限不得少于三年。存在泄漏的設(shè)備及管線組件，應予以標識，并最晚不遲于自發(fā)現(xiàn)之日起 15 日內(nèi)完成修復。符合下列條件之一的設(shè)備與管線組件可納入延遲修復范圍，并于下次停車檢修期間完成修復。裝置停車條件下才能修復；立即維修存

26、在安全風險；泄漏源立即維修產(chǎn)生的VOCs 排放量大于延遲修復的排放量。采用無泄漏型式的設(shè)備或管線組件，免于泄漏檢測。敞開液面VOCs 逸散控制要求在安全許可條件下，廢水收集系統(tǒng)（所有用于含VOCs、惡臭污染物廢水集輸?shù)脑O(shè)備、管線） 應采用密閉管道輸送；如采用溝渠輸送的，應加蓋密閉。廢水集輸系統(tǒng)的接入口和排出口應采取與環(huán)境空氣隔離的措施。廢水儲存、處理設(shè)施的敞開液面上方 100 mm 處的VOCs 濃度，如大于 100mol/mol，應符合下列規(guī)定之一：采用浮動頂蓋（曝氣池和氣浮池除外）；采用固定頂蓋，應排氣至廢氣收集處理系統(tǒng)并執(zhí)行表 1 和表 2 規(guī)定的限值；采用其它等效措施。對開式循環(huán)冷卻水

27、系統(tǒng)，每半年對流經(jīng)換熱器進口和出口的循環(huán)冷卻水中的總有機碳（TOC） 濃度進行檢測，若出口濃度大于進口濃度 10%，則認定發(fā)生泄漏，并應進行泄漏源修復與記錄。廢氣收集處理系統(tǒng)要求廢氣收集處理系統(tǒng)應先于生產(chǎn)活動及工藝設(shè)施啟動，并同步運行，后于生產(chǎn)活動及工藝設(shè)施關(guān)閉。廢氣收集處理系統(tǒng)發(fā)生故障或檢修時，對應的生產(chǎn)工藝設(shè)備應停止運行，待檢修完畢后同步投入使用；生產(chǎn)工藝設(shè)備不能停止運行或不能及時停止運行的，應設(shè)置廢氣應急處理設(shè)施或采取其他替代措施。8DB11/ 16312019廢氣收集系統(tǒng)排風罩（集氣罩）的設(shè)置應符合 GB/T 16758 的規(guī)定。采用外部排風罩的，應按GB/T 16758、AQ/T 4

28、274 規(guī)定的方法測量控制風速，測量點應選取在距排風罩開口面最遠處的 VOCs 無組織排放位置，控制風速不應低于 0.3 m/s。廢氣收集系統(tǒng)的輸送管道應密閉。廢氣收集系統(tǒng)應在負壓下運行，若處于正壓狀態(tài)，應對輸送管道組件的密封點進行泄漏檢測，泄漏檢測值不應超過 500 mol/mol，亦不應有感官可察覺泄漏。泄漏檢測頻次、修復與記錄的要求按照 6.3 規(guī)定執(zhí)行。企業(yè)應對廢氣收集處理系統(tǒng)進行記錄，并至少保存三年。記錄包括但不限于以下內(nèi)容：吸附裝置，應記錄吸附劑種類、更換/再生周期、更換量；燃燒裝置，應記錄運行時操作溫度；采用其他VOCs 治理設(shè)施，應記錄保養(yǎng)維護事項，并記錄主要操作參數(shù)；應記錄

29、VOCs 治理設(shè)施及排污工藝設(shè)施的運轉(zhuǎn)時間。采用非原位再生吸附處理工藝進行廢氣治理的，應按審定的設(shè)計文件要求確定吸附劑的使用量及更換周期，每萬立方米/小時設(shè)計風量的吸附劑用量不應小于 1 立方米，更換周期不應長于 1 個月。廢吸附劑應進行處置或綜合利用，購買吸附劑和廢吸附劑處理的相關(guān)合同、票據(jù)至少保存三年。廠區(qū)內(nèi) VOCs 無組織監(jiān)控要求6.6.2 廠區(qū)內(nèi)非甲烷總烴無組織監(jiān)控點濃度限值執(zhí)行表 4 規(guī)定的限值。表4 廠區(qū)內(nèi)無組織排放限值單位：mg/m37 企業(yè)邊界污染監(jiān)控要求企業(yè)應對排放的有毒有害大氣污染物進行管控，采取有效措施防范環(huán)境風險。企業(yè)邊界大氣污染物濃度執(zhí)行表 5 規(guī)定的限值。9電子專

30、用材料、電子元器件、印制電路板和電子終端產(chǎn)品工業(yè)企業(yè)應對廠區(qū)內(nèi)非甲烷總烴無組織排放進行監(jiān)控。序號污染物項目濃度限值1非甲烷總烴（NMHC）2.0DB11/ 16312019表5 企業(yè)邊界大氣污染物濃度限值單位：mg/m3序號污染物項目濃度限值1苯0.12甲醛0.053氯化氫0.014氰化氫2.410 -35氯氣0.026硫酸霧0.37鉛及其化合物7.010 -4監(jiān)測一般要求企業(yè)應依法按照環(huán)境監(jiān)測管理辦法和 HJ 819 等規(guī)定，建立企業(yè)監(jiān)測制度，制定監(jiān)測方案， 對污染物排放狀況及其對周邊環(huán)境質(zhì)量的影響開展自行監(jiān)測，保存原始監(jiān)測記錄，并公布監(jiān)測結(jié)果。企業(yè)應依法安裝污染物排放自動監(jiān)控設(shè)備，自動監(jiān)控

31、設(shè)備要求按污染源自動監(jiān)控管理辦法和 HJ 75 中相關(guān)要求執(zhí)行。企業(yè)應根據(jù)使用原料、生產(chǎn)工藝過程、生產(chǎn)的產(chǎn)品、副產(chǎn)品和實際排放監(jiān)測結(jié)果，從大氣污染物中篩選并核定需要控制的大氣污染物的種類及排放濃度限值。排氣筒要求按 DB 11/ 1195 的規(guī)定設(shè)置廢氣采樣口和采樣平臺，并滿足 GB/T 16157、HJ/T 397 和DB 11/ T 1484 規(guī)定的采樣條件。排氣筒廢氣的采樣監(jiān)測應按照GB/T 16157、HJ/T 397 和HJ 732 的規(guī)定執(zhí)行。無組織排放監(jiān)測對廠區(qū)內(nèi) NMHC 無組織排放進行監(jiān)控時，在廠房門窗或通風口、其他開口（孔）等排放口外1m，距離地面 1.5m 以上位置處進行

32、監(jiān)測。若廠房不完整（如有頂無圍墻），則在操作工位下風向 1m， 距離地面 1.5m 以上位置處進行監(jiān)測。廠區(qū)內(nèi)NMHC 任何 1 小時平均濃度的監(jiān)測采用 HJ 604、HJ 1012 規(guī)定的方法，以連續(xù) 1 小時采樣獲取平均值，或在任何 1 小時內(nèi)以等時間間隔采集 3 個以上樣品，計算平均值。企業(yè)邊界大氣污染物的監(jiān)測采樣應按 HJ/T 55 的規(guī)定執(zhí)行。企業(yè)邊界大氣污染物濃度應以任何連續(xù) 1 小時的采樣獲取平均值，或在任何 1 小時內(nèi)以等時間間隔采集 3 個以上樣品，計算平均值。泄漏和敞開液面排放的VOCs 檢測應按 HJ 733 的規(guī)定執(zhí)行。大氣污染物濃度測定方法10DB11/ 163120

33、19大氣污染物濃度的分析測定應按照表 6 規(guī)定的方法執(zhí)行。本標準發(fā)布實施后，國家發(fā)布新的污染物監(jiān)測方法標準，如適用范圍和條件滿足本標準要求， 也適用于本標準相應污染物的測定。表6 大氣污染物濃度測定方法標準序號污染物項目方法標準名稱方法標準編號1顆粒物固定污染源廢氣 低濃度顆粒物的測定 重量法HJ 836固定污染源排氣中顆粒物測定與氣態(tài)污染物采樣方法GB/T 161572氮氧化物固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 非分散紅外吸收法HJ 692固定污染源廢氣 氮氧化物的測定 定電位電解法HJ 693固定污染源排氣中氮氧化物的測定 紫外分光光度法HJ/T 42固定污染源排氣中氮氧化物的測定 鹽酸萘乙二

34、胺分光光度法HJ/T 433氯化氫固定污染源廢氣 氯化氫的測定 硝酸銀容量法HJ 548環(huán)境空氣和廢氣 氯化氫的測定 離子色譜法HJ 549固定污染源排氣中氯化氫的測定 硫氰酸汞分光光度法HJ/T 274硫酸霧固定污染源廢氣 硫酸霧的測定 離子色譜法HJ 5445氰化氫固定污染源排氣中氰化氫的測定 異煙酸-吡唑啉酮分光光度法HJ/T 286氟化物（以 F 計）大氣固定污染源 氟化物的測定 離子選擇電極法HJ/T 677氯氣固定污染源拍其中氯氣的測定 甲基橙分光光度法HJ/T 308氨環(huán)境空氣和廢氣 氨的測定 納氏試劑分光光度法HJ 5339苯、苯系物環(huán)境空氣 苯系物的測定 固體吸附/熱脫附-氣相色譜法HJ 583環(huán)境空氣 苯系物的測定 活性炭吸附-二硫化碳解吸/氣相色譜法HJ 584環(huán)境空氣 揮發(fā)性有機物的測定 吸附管采樣 熱脫附/氣相色譜-質(zhì)譜法HJ 644環(huán)境空氣 揮發(fā)性有機物的測定 罐采樣/氣相色譜-質(zhì)譜法HJ 759固定污染源廢氣 揮發(fā)性有機物的采樣 氣袋法HJ 732固定污染源廢氣 揮發(fā)性有機物的測定 固相吸附-熱脫附/氣相色譜-質(zhì)譜法HJ 734環(huán)境空氣和廢氣 揮發(fā)性有機物組分便攜式傅里葉紅外監(jiān)測儀技術(shù)要求及檢測方法HJ