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文檔簡介
第九章 金屬的電沉積過程第一節(jié) 金屬電沉積的基本歷程的特點(diǎn)一.基本歷程液相傳質(zhì) 前置轉(zhuǎn)化 電荷傳遞 電結(jié)晶 二.金屬電沉積過程的特點(diǎn)陰極過電位是電沉積過程進(jìn)行的動(dòng)力;雙電層的結(jié)構(gòu),特別是粒子在緊密層中的吸附對(duì)電沉積過程有明顯影響;沉積層的結(jié)構(gòu)、性能與電結(jié)晶過程中新晶粒的生長方式和過程密切相關(guān),同時(shí)與電極表面(基體金屬表面)的結(jié)晶狀態(tài)密切相關(guān)。第二節(jié) 金屬的陰極還原過程金屬離子從水溶液中陰極還原的可能性 : 滿足上式金屬離子才能從水溶液中還原。簡單金屬離子的陰極還原 步驟:水分子的重排和水化程度的降低 水化離子轉(zhuǎn)變?yōu)槲皆樱x子)吸附原子(離子)轉(zhuǎn)變?yōu)榻饘僭拥谌?jié) 金屬電結(jié)晶過程 金屬電結(jié)晶的形式陰極還原的新生態(tài)吸附原子聚集形成晶核,晶核長大稱晶體; 新生態(tài)吸附原子在電極表面擴(kuò)散,達(dá)到某一位置并進(jìn)入晶核,在原有金屬的晶格上延續(xù)生長。鹽溶液中結(jié)晶過程 過飽和度越大,結(jié)晶出來的晶粒越?。贿^飽和度越小,結(jié)晶出來的晶粒越大;在一定過飽和度的溶液中,能繼續(xù)長大的晶核必須具有一定大小的尺寸 。在已有界面上的延續(xù)生長 通過擴(kuò)散進(jìn)入生長點(diǎn)直接在生長點(diǎn)放電
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