路維光電研究報告：“以屏帶芯”打造國內(nèi)領(lǐng)先的掩膜版企業(yè)

路維光電研究報告：“以屏帶芯”打造國內(nèi)領(lǐng)先的掩膜版企業(yè)公司概況：國內(nèi)領(lǐng)先的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)成立于1997年，專注于平板顯示、半導(dǎo)體等各類掩膜版產(chǎn)品路維光電致力于掩膜版的研發(fā)、生產(chǎn)和銷售，產(chǎn)品主要用于平板顯示、半導(dǎo)體、觸控和電路板等行業(yè)。公司的前身路維電子成立于1997年，成立之初主要從事菲林的生產(chǎn)，產(chǎn)品主要用于PCB行業(yè)。隨著掩膜版技術(shù)的演進，掩膜版的主流產(chǎn)品逐漸由菲林迭代至鉻版，公司于2003年建成第一條鉻版掩膜版產(chǎn)線，開始進入TN/STN-LCD平板顯示領(lǐng)域。隨著電容式觸控技術(shù)的興起與發(fā)展，公司從2008年左右開始進入觸控領(lǐng)域，產(chǎn)品逐步涵蓋G+G、G+F、OGS、MetalMesh等技術(shù)。隨著國內(nèi)平板顯示與半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，以及內(nèi)嵌式觸控技術(shù)的轉(zhuǎn)變，公司在2014年左右開始大規(guī)模進入平板顯示及半導(dǎo)體封裝、器件領(lǐng)域?；谧灾餮邪l(fā)，公司陸續(xù)實現(xiàn)了G4、G5、G6TFT-LCD掩膜版、中小尺寸AMOLED及LTPS掩膜版、以及250nm制程節(jié)點半導(dǎo)體掩膜版等產(chǎn)品的研發(fā)和量產(chǎn)，滿足了當(dāng)時國內(nèi)平板顯示主流產(chǎn)品、半導(dǎo)體芯片封裝及器件、先進指紋模組封裝等產(chǎn)品應(yīng)用需求。隨著國內(nèi)G10.5、G11高世代顯示面板產(chǎn)線的建設(shè)與擴張，公司2018年開始建設(shè)國內(nèi)首條G11高世代掩膜版產(chǎn)線，于2019年成功下線國內(nèi)首張G11TFT掩膜版。同時，公司積極研發(fā)半色調(diào)（Half-tone）、灰階（Gray-tone）掩膜版等高端掩膜版制造技術(shù)，于2018-2019年陸續(xù)下線各世代半色調(diào)掩膜版；公司持續(xù)提升半導(dǎo)體掩膜版產(chǎn)品的精度與品質(zhì)，目前已掌握180nm/150nm節(jié)點掩膜版制造核心技術(shù)。此外，公司還積極探索掩膜版上游材料領(lǐng)域，分別于2016年、2018年自主開發(fā)了中小尺寸和大尺寸掩膜版光阻涂布技術(shù)，打破了國外技術(shù)壟斷?！耙云翈尽?，立足于平板顯示、半導(dǎo)體掩膜版兩大產(chǎn)品線公司立足于平板顯示掩膜版和半導(dǎo)體掩膜版兩大核心產(chǎn)品線，形成“以屏帶芯”

的業(yè)務(wù)發(fā)展格局。掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版，作用是將設(shè)計者的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到下游行業(yè)的基板或晶圓上，從而實現(xiàn)批量生產(chǎn)。根據(jù)基板材料的不同，公司的產(chǎn)品可以分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（干版、凸版和菲林等）。根據(jù)下游應(yīng)用行業(yè)的不同，公司的產(chǎn)品可分為平板顯示掩膜版、半導(dǎo)體掩膜版、觸控掩膜版和電路板掩膜版。依托于持續(xù)的研發(fā)投入、扎實的技術(shù)實力、可靠的產(chǎn)品質(zhì)量與優(yōu)質(zhì)的客戶服務(wù)，公司與眾多知名客戶建立了長期穩(wěn)定的合作關(guān)系，在平板顯示領(lǐng)域，公司主要客戶包括京東方、華星光電、中電熊貓、天馬微電子、信利等；在半導(dǎo)體領(lǐng)域，公司主要客戶包括士蘭微、晶方科技、華天科技、通富微電等。股權(quán)結(jié)構(gòu)集中，擁有深圳南山、深圳寶安、成都三大生產(chǎn)基地公司控股股東、實際控制人為杜武兵先生，杜武兵先生及其一致行動人合計控制公司表決權(quán)比例為53.53%。截至2022年5月，杜武兵先生直接持有公司31.74%股份，通過路維興投資控制公司10.15%股份，為公司控股股東、實際控制人。此外，根據(jù)《上市公司收購管理辦法》相關(guān)規(guī)定，結(jié)合杜武兵、肖青、白偉鋼在路維電子存在合作關(guān)系的情形，基于審慎性原則，公司認(rèn)定肖青、白偉鋼與實際控制人杜武兵為一致行動人，肖青、白偉鋼分別直接持有公司10.66%、0.98%股份。公司擁有三大生產(chǎn)基地，分別位于成都高新區(qū)、深圳南山區(qū)和深圳寶安區(qū)。2021年下半年以來，公司逐步將寶安廠區(qū)的生產(chǎn)線搬遷至成都廠區(qū)。20、21年高世代掩膜版形成規(guī)模效應(yīng)，公司實現(xiàn)業(yè)績高速增長2017年以來公司營業(yè)收入快速增長。17-21年公司營收分別為1.07、1.45、2.18、4.02、4.94億元，營收CAGR為46.6%，實現(xiàn)快速增長，主要得益于：1)全球平板顯示行業(yè)產(chǎn)能加速向國內(nèi)轉(zhuǎn)移、國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)計和代工產(chǎn)業(yè)興起，國內(nèi)平板顯示及半導(dǎo)體領(lǐng)域的主流廠商市場份額迅速增加、產(chǎn)業(yè)鏈國產(chǎn)化步伐加快，對掩膜版等核心材料的市場需求提升，公司抓住機遇，產(chǎn)銷規(guī)模迅速擴大；2)公司技術(shù)實力不斷增強，突破了G11、G8.6掩膜版諸多技術(shù)與工藝難點，并不斷提升產(chǎn)品精度；3)公司產(chǎn)品線日益豐富和完善。17-19年公司歸母凈利潤持續(xù)下滑，20、21年高世代掩膜版形成規(guī)模效應(yīng)后實現(xiàn)較高盈利水平。17-19年公司歸母凈利潤分別同比下滑35.2%、44.2%、218.0%至1179、658、-776萬元，主要系：1)為響應(yīng)客戶需求公司拓展了G8.5、G11高世代產(chǎn)線，新產(chǎn)線投產(chǎn)初期產(chǎn)生折舊等固定成本較高，單位制造費用顯著增加；2)高世代掩膜版技術(shù)長期掌握在國際廠商手中，在公司G11掩膜版進入市場后，國外廠商為維持市場份額主動降價，帶動市場價格明顯下滑；3)高世代新產(chǎn)線投產(chǎn)過程中公司管理費用率、研發(fā)費用率有較明顯提升，同時公司為籌集資金向銀行申請固定資產(chǎn)借款，導(dǎo)致利息支出增加。20、21年隨著公司高世代掩膜版產(chǎn)銷量的大幅增加，規(guī)模效應(yīng)逐步顯現(xiàn)，公司歸母凈利潤分別同比增長518.1%、61.1%至3246、5231萬元，實現(xiàn)較高水平的盈利。按基板材料不同，公司主要產(chǎn)品為石英掩膜版和蘇打掩膜版，其他類產(chǎn)品營收占比較小且逐年下降。近幾年公司追蹤下游客戶對石英掩膜版需求快速提升的市場變化，適時將研發(fā)資源集中于更高精度的產(chǎn)品領(lǐng)域，并相應(yīng)調(diào)整了投資重心和產(chǎn)能規(guī)劃，公司石英掩膜版營收從2018年的7153.43萬元增長至2021年的4.28億元(CAGR:81.6%)，營收占比從2018年的49.3%提升至86.8%。此外，蘇打掩膜版的營收穩(wěn)中略降，營收占比從2018年的44.0%下降至2021年的11.7%。2018年以來公司石英掩膜版營收保持快速增長的原因主要為：1)公司通過設(shè)備投資、研發(fā)成果轉(zhuǎn)化等途徑具備了高世代掩膜版的生產(chǎn)能力，應(yīng)用于平板顯示G6以上、半導(dǎo)體器件等領(lǐng)域的中高端掩膜版產(chǎn)能得到有效提升；2)公司產(chǎn)品線逐步完善，產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)不斷提升，從而抓住了國內(nèi)平板顯示及半導(dǎo)體行業(yè)的快速發(fā)展機遇，通過配套京東方、華星光電、中電熊貓等平板顯示客戶以及士蘭微、華天科技等半導(dǎo)體客戶，實現(xiàn)訂單持續(xù)增長和產(chǎn)品結(jié)構(gòu)升級。2018年以來公司平板顯示掩膜版營收呈快速增長趨勢，營收占比持續(xù)提高。公司平板顯示掩膜版營收從2018年的4973.48萬元增長至2021年的3.55億元(CAGR:92.6%)，營收占比從2018年的34.3%提升至2021年的72.0%，主要受益于國內(nèi)平板顯示行業(yè)蓬勃發(fā)展、新建產(chǎn)線及新產(chǎn)品推出對掩膜版的需求增長，以及公司在平板顯示行業(yè)工藝技術(shù)水平、產(chǎn)品代際拓展和產(chǎn)能持續(xù)提升。其中，G5、G6掩膜版是公司平板顯示類產(chǎn)品營收的支柱，2021年占比分別為20.2%、30.5%；G8.5、G8.6、G11掩膜版是公司平板顯示類產(chǎn)品收入快速增長的主要動因。此外，隨著G8.5、G11高世代掩膜版產(chǎn)線的規(guī)模效應(yīng)逐步顯現(xiàn)，公司平板顯示掩膜版毛利率水平從2019年的11.64%逐步提升至2021年的17.78%。半導(dǎo)體掩膜版是公司第二大營收來源，規(guī)模持續(xù)增長，但營收占比有所下降。公司半導(dǎo)體掩膜版營收從2018年的4169.12萬元增長至2021年的9624.95萬元(CAGR:32.2%)，營收占比從2018年的28.8%下降至2021年的19.5%。追蹤半導(dǎo)體制造和封測行業(yè)向更精細(xì)制程升級的路徑，公司的半導(dǎo)體掩膜版工藝精度逐步提升，適應(yīng)了下游需求，營收規(guī)模穩(wěn)步增長。公司半導(dǎo)體掩膜版毛利率維持在較高水平，從2018年的35.11%持續(xù)提升至2021年的51.27%。17-19年公司開拓G8.6、G11高世代掩膜版市場，毛利率水平有所下滑，20、21年隨著規(guī)模效應(yīng)顯現(xiàn)，毛利率水平穩(wěn)步回升。2017年以來公司拓展G8.5、G11高世代掩膜版產(chǎn)線，新產(chǎn)線投產(chǎn)初期折舊成本較高，同時國外廠商為維持G11掩膜版市場份額主動降價，帶動市場價格明顯下滑，結(jié)合產(chǎn)品結(jié)構(gòu)的變化（大尺寸掩膜版收入占比提升），公司毛利率從2016年的44.09%下降至2019年的21.42%。20、21年隨著高世代產(chǎn)線規(guī)模效應(yīng)顯現(xiàn)，公司毛利率穩(wěn)步回升至23.15%、26.26%。受高世代新產(chǎn)線投資的影響，公司18、19年期間費用率顯著提升至39.13%、41.24%，20、21年恢復(fù)至20.26%、19.31%的正常水平，其中：管理費用率：公司管理費用率從17年的9.67%提升至18、19年的18.61%、13.78%，主要系公司為保證成都路維高世代線的順利建設(shè)及快速投產(chǎn)，2018年4月與興睿寶簽署《咨詢合同》，約定興睿寶向成都路維提供G11設(shè)備及輔助設(shè)備的搬遷入廠技術(shù)指導(dǎo)、協(xié)助制定G11設(shè)備及輔助設(shè)備的使用、維護和管理制度，為G11設(shè)備及輔助設(shè)備的安裝調(diào)試及后續(xù)的使用、維護和管理提供咨詢建議，進而支付較多中介服務(wù)費所致。20、21年隨著成都路維高世代線的順利投產(chǎn)，公司管理費用率下降至6.36%、7.60%的正常水平。研發(fā)費用率：公司研發(fā)費用率從2018年的5.66%提升至2019年的9.07%，主要原因是：1)公司為保持技術(shù)先進性，開展的研發(fā)項目增多，研發(fā)消耗的物料相應(yīng)增加；2)成都路維主要圍繞G11等高世代平板顯示掩膜版領(lǐng)域進行研發(fā)，高世代掩膜版原材料的價格較高。20、21年隨著高世代掩膜版研發(fā)項目的逐步完成，公司研發(fā)費用率水平下降至7.06%、4.66%。銷售費用率：隨著G6、G8.6、G11等中高世代掩膜版的營收增加，公司營收更具規(guī)模效應(yīng)，銷售費用率從16年的11.16%持續(xù)下降至19年的6.04%。此外，2020年起一系列政策的變化進一步助力公司銷售費用率下降至20、21年的2.45%、3.09%，包括：1)運輸費從銷售費用重分類至營業(yè)成本；2)銷售管理人員的薪酬結(jié)構(gòu)由底薪加提成的模式轉(zhuǎn)為每月固定薪資加績效提成的模式；3)新冠疫情導(dǎo)致公司差旅費有所減少；4)對于部分境外客戶的開拓不再采用代理商開拓的模式，因此不再產(chǎn)生業(yè)務(wù)拓展費。財務(wù)費用率：18、19年公司財務(wù)費用率水平較高，為6.84%、12.36%，主要系成都路維為G8.5及G11掩膜版建設(shè)項目向銀行申請固定資產(chǎn)借款，導(dǎo)致利息支出增加所致。20、21年財務(wù)費用率下降至4.40%、3.96%，主要系公司業(yè)務(wù)規(guī)模擴大，自有資金量增加，公司和銀行協(xié)商提高銀行存款利率。隨著G8.6、G11高世代產(chǎn)線的規(guī)模效應(yīng)顯現(xiàn)，公司經(jīng)營現(xiàn)金流情況向好。18-21年公司保持較高的投資力度，包括投建成都路維生產(chǎn)基地及高世代線、擴產(chǎn)6代線、預(yù)付IPO募投項目設(shè)備款項等，18-21年公司投資活動產(chǎn)生的現(xiàn)金流量凈額分別為-3.96、-1.76、-1.71、-1.35億元。在G8.6、G11高世代掩膜版產(chǎn)線的規(guī)模效應(yīng)的帶動下，公司經(jīng)營活動產(chǎn)生的現(xiàn)金流量凈額從2018年的613.15萬元提升至2021年的1.34億元，經(jīng)營現(xiàn)金流情況向好。18、19年公司持續(xù)融資，資產(chǎn)負(fù)債率有所提升，20、21年資產(chǎn)負(fù)債率隨著規(guī)模增長逐步下降。18、19年公司基于產(chǎn)線升級和擴產(chǎn)需求而持續(xù)融資，籌資活動產(chǎn)生的現(xiàn)金流量凈額分別為3.76、2.50億元，公司資產(chǎn)負(fù)債率水平也從2017年的31.48%提升至18、19年的72.77%、71.32%。隨著G8.6、G11高世代產(chǎn)線的投產(chǎn)以及公司營收、資產(chǎn)體量的擴張，20、21年資產(chǎn)負(fù)債率下降至65.70%、60.11%。掩膜版：微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版掩膜版位于產(chǎn)業(yè)鏈中游，是平板顯示、半導(dǎo)體等生產(chǎn)的重要原料掩膜版是微電子制造過程中的圖形轉(zhuǎn)移母版，是平板顯示、半導(dǎo)體、觸控、電路板等行業(yè)生產(chǎn)制造過程中重要的關(guān)鍵材料。掩膜版的作用是將設(shè)計者的電路圖形通過曝光的方式轉(zhuǎn)移到下游行業(yè)的基板或晶圓上，從而實現(xiàn)批量化生產(chǎn)。作為光刻復(fù)制圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜版是連接工業(yè)設(shè)計和工藝制造的關(guān)鍵，掩膜版的精度和質(zhì)量水平會直接影響最終下游制品的優(yōu)品率。以TFT-LCD制造為例，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，將設(shè)計好的TFT陣列和彩色濾光片圖形按照薄膜晶體管的膜層結(jié)構(gòu)順序，依次曝光轉(zhuǎn)移至玻璃基板，最終形成多個膜層所疊加的顯示器件。以晶圓制造為例，其制造過程需要經(jīng)過多次曝光工藝，利用掩膜版的曝光掩蔽作用，在半導(dǎo)體晶圓表面形成柵極、源漏極、摻雜窗口、電極接觸孔等。掩膜版位于產(chǎn)業(yè)鏈中游。掩膜版的主要原材料包括掩膜基板、光學(xué)膜、化學(xué)試劑以及包裝盒等輔助材料，掩膜版主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體、觸控和電路板的制造過程。平板顯示、半導(dǎo)體等中游電子元器件廠商的終端應(yīng)用主要包括消費電子（電視、手機、筆記本電腦、平板電腦、可穿戴設(shè)備）、家用電器、車載電子、網(wǎng)絡(luò)通信、LED照明、物聯(lián)網(wǎng)、醫(yī)療電子以及工控等領(lǐng)域。掩膜版生產(chǎn)的工藝流程包括CAM圖檔處理、光阻涂布、激光光刻、顯影、蝕刻、脫膜、清洗、宏觀檢查、自動光學(xué)檢查、精度測量、缺陷處理、貼光學(xué)膜等環(huán)節(jié)。掩膜版主要應(yīng)用于平板顯示及半導(dǎo)體，合計市場規(guī)模超50億美元在掩膜版下游應(yīng)用中，平板顯示和半導(dǎo)體是掩膜版最主要的兩個應(yīng)用領(lǐng)域。2021年平板顯示掩膜版市場實現(xiàn)復(fù)蘇，預(yù)計2022年將延續(xù)增長態(tài)勢。在平板顯示掩膜版領(lǐng)域，根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，在全球LCD產(chǎn)能快速擴張的背景下，全球平板顯示掩膜版市場規(guī)模從2016年的671億日元增長至2019年的1010億日元(CAGR:14.58%)。受新冠疫情影響，2020年全球平板顯示掩膜版市場規(guī)模同比下降10.57%至903億日元，但全球平板顯示掩膜版市場自2021年起逐漸復(fù)蘇，預(yù)計2022年市場規(guī)模將增長至1026億日元。中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模占比持續(xù)提升。分地區(qū)來看，根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模占比持續(xù)提升，從2017年的47%提升到2020年的66%，預(yù)計2022年占比將達到71%。全球半導(dǎo)體掩膜版市場保持高速發(fā)展的態(tài)勢。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，自2012年起，在經(jīng)過連續(xù)七年的增長后，2019年全球半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模達到41億美元；SEMI預(yù)計未來全球半導(dǎo)體掩膜版市場將保持穩(wěn)健增長的態(tài)勢，2021年市場規(guī)模將超過44億美元。分地區(qū)來看，隨著國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)占全球比重的逐步提升，國內(nèi)半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模也逐步擴大；根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2019年國內(nèi)半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模1.44億美元，預(yù)計2021年將達到1.95億美元(CAGR:16.32%)。市場增長驅(qū)動：下游平板顯示、半導(dǎo)體行業(yè)保持持續(xù)增長從產(chǎn)業(yè)鏈來看，掩膜版行業(yè)的發(fā)展與下游平板顯示、半導(dǎo)體等行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)，下游行業(yè)市場規(guī)模持續(xù)增長也為掩膜版行業(yè)提供了更廣闊的市場空間。1)顯示面板趨向大尺寸，產(chǎn)能加快向中國轉(zhuǎn)移，掩膜版需求持續(xù)增加。顯示面板大尺寸化趨勢持續(xù)。隨著人們消費的不斷升級，液晶電視的平均尺寸每年維持一定幅度的提升，根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，2018年全球平板電視面板的平均尺寸為44.3英寸，Omdia預(yù)計2026年將提升至52.2英寸。受終端需求大尺寸化的趨勢影響，面板世代數(shù)不斷演進，從1988年的第1代（G1）面板發(fā)展到2018年的第11代（G11）面板，掩膜版的世代也相應(yīng)演進。根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，2016年全球G10及以上世代掩膜版的銷售額為51.75億日元，占比8%；2019年G10及以上世代掩膜版的銷售收入為157.51億日元（2016-2019年CAGR:44.92%），占比16%。新冠疫情以來面板行情較好，已有規(guī)格型號持續(xù)量產(chǎn)導(dǎo)致G10及以上世代新品開案數(shù)下降，同時掩膜版廠商的價格競爭持續(xù)，導(dǎo)致2020、2021年全球G10及以上世代掩膜版的銷售額有所下降。Omdia預(yù)計2022年全球G10及以上世代掩膜版的銷售額將恢復(fù)同比增長。顯示面板產(chǎn)能加快向中國轉(zhuǎn)移。2003-2008年，國內(nèi)顯示面板產(chǎn)業(yè)處于技術(shù)引進、積累的起步階段；2009-2017年，國內(nèi)顯示面板產(chǎn)業(yè)向高世代擴張，實現(xiàn)快速追趕；2018-2020年，國內(nèi)顯示面板產(chǎn)業(yè)實現(xiàn)全面反超、全球領(lǐng)先。根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，國內(nèi)顯示面板產(chǎn)能占比（按面積）從2003年的2.00%提升至2021年的61.23%，并于2017年超過韓國成為全球第一；Omdia預(yù)測2027年國內(nèi)LCD產(chǎn)能占比（按面積）將達到73.74%，領(lǐng)先地位將進一步鞏固。伴隨著國內(nèi)顯示面板產(chǎn)業(yè)做大做強，京東方、TCL華星等國內(nèi)企業(yè)迅速崛起。根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，2021年京東方、TCL華星的顯示面板產(chǎn)能面積分別為9236、4798萬平米，領(lǐng)先于三星、LG、友達、群創(chuàng)的1736、5146、3540、3917萬平米。目前京東方、TCL華星等國內(nèi)企業(yè)的顯示面板產(chǎn)能規(guī)模已處于全球領(lǐng)先位置。2)掩膜版是芯片的關(guān)鍵材料，半導(dǎo)體行業(yè)快速發(fā)展拉動掩膜版市場需求。掩膜版是半導(dǎo)體芯片制造的關(guān)鍵材料。根據(jù)數(shù)據(jù)，2019年半導(dǎo)體晶圓制造材料的市場規(guī)模為322億美元，其中成本占比最高的是硅片，占比約37%；其次是掩膜版和特種氣體，分別占比約13%。半導(dǎo)體市場增長空間廣闊，對半導(dǎo)體掩膜版的需求可觀。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，全球半導(dǎo)體銷售額從1999年的1494.00億美元增長至2021年的5558.93億美元，年復(fù)合增速達到6.15%；SEMI預(yù)計2022年全球半導(dǎo)體銷售額將同比增長10.37%至6135.23億美元。全球半導(dǎo)體市場雖呈現(xiàn)一定的周期性，但在智能汽車、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)、5G通信等市場興起的帶動下，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的增長空間廣闊。半導(dǎo)體掩膜版的技術(shù)更新主要體現(xiàn)在圖形尺寸、精度及制造技術(shù)等方面。半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點由130nm、100nm、90nm、65nm等逐步發(fā)展到28nm、14nm、7nm、5nm等；

半導(dǎo)體掩膜版也從激光直寫光刻、濕法制程、光學(xué)檢測等逐步發(fā)展為電子束光刻、干法制程、電子顯微檢測。同時，相移掩膜技術(shù)（PSM）、鄰近光學(xué)效應(yīng)修正（OPC）技術(shù)等也越來越多的應(yīng)用于先進制程半導(dǎo)體掩膜版制造領(lǐng)域。技術(shù)發(fā)展趨勢：掩膜版趨向大尺寸、高精度，半色調(diào)掩膜版興起掩膜版作為平板顯示、半導(dǎo)體制造等下游行業(yè)的關(guān)鍵材料，其技術(shù)、規(guī)格的發(fā)展與下游終端產(chǎn)品的技術(shù)需求具有較強的聯(lián)動性。未來掩膜版有望朝著大尺寸、高精度的方向發(fā)展，且半色調(diào)掩膜版有望逐漸興起并快速發(fā)展。1)掩膜版趨向大尺寸近幾年面板廠商積極投資與擴產(chǎn)高世代產(chǎn)線，面板尺寸的增大帶動掩膜版朝大尺寸化方向發(fā)展，同時帶動大尺寸掩膜版的需求增長。面板的世代數(shù)按照產(chǎn)線所應(yīng)用的玻璃基板的尺寸劃分，面板代數(shù)越高，玻璃基板尺寸越大，切割的屏幕數(shù)目越多，利用率和效益就越高。55英寸及以上顯示產(chǎn)品的需求增加引領(lǐng)全球平板顯示產(chǎn)業(yè)向8+代線和10+代線邁進，8.5代線可高效切割32寸、48寸、55寸電視，8.6代線可高效切割50寸、58寸電視，10.5代線可高效切割65寸、75寸電視。除此之外，還可以采用套切等技術(shù)，生產(chǎn)出尺寸差異化的產(chǎn)品，后續(xù)可根據(jù)市場需求靈活調(diào)整。舉例來說，8.5代線切割65寸電視的效率為64%，但是可以采用66寸+32寸電視套切，實現(xiàn)94%的切割效率；8.6代線切割90寸電視的效率為74%，但是可以采用90寸+23.3寸電視套切，實現(xiàn)91%的切割效率；10.5代線切割65寸、75寸電視都可以達到90%以上的切割效率。2)掩膜版趨向高精度超高清視頻產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景廣闊，帶動掩膜版朝著高精細(xì)化的方向發(fā)展。《超高清視頻產(chǎn)業(yè)發(fā)展行動計劃（2019-2022年）》指出：“到2022年，我國超高清視頻產(chǎn)業(yè)總體規(guī)模超過4萬億元、4K產(chǎn)業(yè)生態(tài)體系基本完善，8K關(guān)鍵技術(shù)產(chǎn)品和產(chǎn)業(yè)化取得突破。8K電視終端銷量占電視總銷量的比例超過5%，同時超高清視頻用戶數(shù)達到2億”。掩膜版作為平板顯示制造過程的關(guān)鍵材料，對面板產(chǎn)品的精度起決定性的作用，這意味著高清化對掩膜版的精度提出更高要求。隨著平板顯示解析度不斷提高，TFT半導(dǎo)體主動層材料已逐步采用LTPS/Oxide技術(shù)，并朝著LTPO（低溫多晶氧化物）等新技術(shù)演變。對于掩膜版的配套技術(shù)要求，主要體現(xiàn)在曝光分辨率（最小線寬線縫）、最小孔或方塊、CD均勻性以及套合精度的不斷提升。而在半導(dǎo)體領(lǐng)域，掩膜版技術(shù)更新主要體現(xiàn)在圖形尺寸、精度及制造技術(shù)等方面。以掩膜版最小圖形尺寸為例，180nm制程節(jié)點半導(dǎo)體產(chǎn)品所對應(yīng)的掩膜版最小圖形尺寸約為750nm，65nm制程節(jié)點產(chǎn)品對應(yīng)約260nm，28nm制程節(jié)點產(chǎn)品對應(yīng)約120nm?？梢钥闯?，半導(dǎo)體掩膜版圖形尺寸及精度隨著半導(dǎo)體技術(shù)節(jié)點的演化而逐步提升，目前主流制程在100-400nm工藝區(qū)間。掩膜版精度的提升，主要表現(xiàn)為對基板材料和生產(chǎn)工藝的進一步升級。在基板材料上，石英基板與蘇打基板相比，具有高透過率、高平坦度、低膨脹系數(shù)等優(yōu)點，通常應(yīng)用于對產(chǎn)品圖形精度要求較高的行業(yè)，因此基板材料逐漸由蘇打基板轉(zhuǎn)為石英基板。生產(chǎn)工藝方面，隨著集成電路技術(shù)節(jié)點推動，對于掩膜版CD精度、TP精度、套合精度控制、缺陷管控等環(huán)節(jié)提出了更高的要求。3)半色調(diào)掩膜版（HTM）興起并快速發(fā)展半色調(diào)掩膜版可降低下游面板廠商的生產(chǎn)成本。TFT掩膜版主要用于TFT黃光制程，包含TFT-Array工序和CF工序，分別利用掩膜版的曝光隱蔽作用完成TFT-Array和CF的圖形制作。按照掩膜版膜層透光效果劃分，可將TFT掩膜版分為二元型掩膜版（Binary-Mask）和多色調(diào)或多灰階掩膜版（Multi-ToneMask，MTM）。MTM包含灰階掩膜版（Gray-ToneMask，GTM）和半色調(diào)掩膜版（Half-ToneMask，HTM）兩種產(chǎn)品。與二元掩膜版相比，多灰階掩膜版中兩種產(chǎn)品的作用都是實現(xiàn)曝光過程中的部分透光功能，但由于半色調(diào)掩膜版具有圖形設(shè)計方便、透過率可控等優(yōu)點，目前已成為各大面板廠商主要選擇的產(chǎn)品。傳統(tǒng)的二元掩膜版通過一次曝光會在玻璃基板上形成兩種不同的透光區(qū)域：透光區(qū)域和不透光區(qū)域，而半色調(diào)掩膜版通過一次曝光可以在玻璃基板上形成三種不同的透光區(qū)域：透光區(qū)域、部分透光區(qū)域和不透光區(qū)域。以TFT-Array制造為例，利用該特性，下游客戶在使用半色調(diào)掩膜版曝光、顯影后，其光刻膠可以形成兩種不同的厚度，搭配后段干法蝕刻等工藝，可以將TFT-Array制程中的關(guān)鍵層（如源漏極、有源層）的曝光工序進行合并和簡化，將原本的5道曝光工藝簡化成4道，降低了TFT-LCD制造成本，提高了生產(chǎn)效率。隨著新型顯示技術(shù)不斷呈現(xiàn)大尺寸、無邊框、高精細(xì)、柔性化的發(fā)展態(tài)勢，半色調(diào)掩膜版因其優(yōu)異的產(chǎn)品特點，在各大面板廠商中的生產(chǎn)工藝中興起并快速發(fā)展，國內(nèi)華星光電、京東方、中電熊貓等面板巨頭已經(jīng)在G5/G6/G8.5/G11等生產(chǎn)線上導(dǎo)入半色調(diào)掩膜版及相關(guān)工藝技術(shù)。行業(yè)競爭格局：美國、日韓掩膜版廠商處于領(lǐng)先地位掩膜版行業(yè)的主要廠商有美國的福尼克斯及其韓國子公司PKL，韓國的LG-IT，日本的SKE、HOYA、Toppan、DNP，中國的臺灣光罩、清溢光電、路維光電。其中，LG-IT和SKE的掩膜版產(chǎn)品主要布局在平板顯示掩膜版領(lǐng)域，均擁有G11掩膜版生產(chǎn)線；Toppan和臺灣光罩掩膜版產(chǎn)品主要布局在半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域；福尼克斯、DNP、HOYA的掩膜版產(chǎn)品同時布局在平板顯示掩膜版領(lǐng)域和半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域，均擁有G11掩膜版生產(chǎn)線；清溢光電和路維光電的掩膜版產(chǎn)品種類多樣，應(yīng)用領(lǐng)域廣泛，包括平板顯示掩膜版、半導(dǎo)體掩膜版、觸控掩膜版和電路板掩膜版等，其中路維光電擁有G11掩膜版生產(chǎn)線。在平板顯示掩膜版市場，美國、日本、韓國的掩膜版廠商處于壟斷地位。根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，2020年全球各大掩膜版廠商平板顯示掩膜版的銷售金額前五名分別為福尼克斯、SKE、HOYA、LG-IT和清溢光電，前五名掩膜版廠商的合計銷售額占全球平板顯示用掩膜版銷售額的比例約為88%。根據(jù)Omdia，2020年路維光電平板顯示掩膜版市場份額位列全球第八，國內(nèi)第二。G11掩膜版由于技術(shù)難度更高，進入壁壘較高，長期被國際先進掩膜版廠商壟斷。通過多年技術(shù)積累，路維光電于2019年成功建設(shè)G11掩膜版產(chǎn)線，成為國內(nèi)第一家擁有G11高世代線的掩膜版企業(yè)。目前，全球共5家企業(yè)擁有G11高世代線，分別是DNP、福尼克斯、SKE、LG-IT及路維光電；根據(jù)Omdia數(shù)據(jù)，2020年路維光電在G11高世代線掩膜版的市場份額為13.97%。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，半導(dǎo)體掩膜版的主要參與者為晶圓廠自行配套的掩膜版工廠和獨立第三方掩膜版生產(chǎn)商。由于用于芯片制造的掩膜版涉及各家晶圓制造廠的技術(shù)機密，因此晶圓制造廠先進制程（45nm以下）所用的掩膜版大部分由晶圓廠自己的專業(yè)工廠生產(chǎn)，但對于45nm以上等比較成熟的制程所用的標(biāo)準(zhǔn)化程度更高的掩膜版，晶圓廠出于成本的考慮，更傾向于向獨立第三方掩膜版廠商進行采購。根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2019年在半導(dǎo)體芯片掩膜版市場，晶圓廠自行配套的掩膜版工廠占據(jù)65%的份額；在獨立第三方掩膜版市場，半導(dǎo)體芯片掩膜版技術(shù)主要由美國

福尼克斯、日本DNP和Toppan掌握，市場集中度較高。路維光電作為國內(nèi)掩膜版行業(yè)的領(lǐng)先企業(yè)，制造能力逐步從封測環(huán)節(jié)延伸至半導(dǎo)體器件及芯片制造，產(chǎn)品集中在300nm/250nm制程節(jié)點，CD精度能夠控制在50nm水平，逐步向180nm、150nm、90nm、65nm節(jié)點方向發(fā)展，與國內(nèi)某些領(lǐng)先芯片公司及其配套供應(yīng)商、士蘭微、晶方科技、華天科技、通富微電、三安光電、光迅科技等國內(nèi)主流廠商開展緊密合作。公司分析：堅持“以屏帶芯”發(fā)展戰(zhàn)略，致力于打造掩膜版行業(yè)世界級企業(yè)對標(biāo)全球領(lǐng)先企業(yè)，公司建設(shè)國內(nèi)首條G11掩膜版產(chǎn)線公司是國內(nèi)首家、全球第四家掌握G11掩膜版生產(chǎn)制造技術(shù)的企業(yè)。G11掩膜版由于基板面積更大，圖形精度及均勻性、位置精度、缺陷控制、Mura控制等環(huán)節(jié)技術(shù)難度較高，日韓等國外企業(yè)在G11掩膜版領(lǐng)域長期處于壟斷地位。在公司G11掩膜版產(chǎn)線建成之前，只有日本SKE、韓國LG-IT和日本DNP擁有G11掩膜版的生產(chǎn)能力。公司于2019年成功建設(shè)國內(nèi)首條G11高世代掩膜版產(chǎn)線并實現(xiàn)投產(chǎn)，一舉打破國外廠商在該領(lǐng)域的壟斷，成為國內(nèi)首家、全球第四家掌握G11掩膜版生產(chǎn)制造技術(shù)的企業(yè)，一定程度上縮小了與國際領(lǐng)先企業(yè)的差距。突破高世代半色調(diào)掩膜版（HTM）制造技術(shù)，打破國外技術(shù)壟斷傳統(tǒng)掩膜版在使用時對于特定波長的光只呈現(xiàn)透光與不透光兩種效果；而半色調(diào)掩膜版（HTM）則是在玻璃基板上經(jīng)過多次濺射沉積形成半透膜和遮光膜兩個膜層，然后通過兩次光刻制程形成包含全透光、完全不透光和部分透光效果的圖形結(jié)構(gòu)，其圖形精度的各項指標(biāo)均高于傳統(tǒng)掩膜版。半色調(diào)掩膜版的運用可以使下游面板商減少曝光制程，提高生產(chǎn)效率及良率，降低生產(chǎn)成本，已在各大面板廠商中的生產(chǎn)工藝中興起并快速發(fā)展。公司半色調(diào)掩膜版已在京東方、中電熊貓等客戶實現(xiàn)銷售。在公司具備高世代高精度半色調(diào)掩膜版（HTM）生產(chǎn)能力之前，該技術(shù)主要被日韓等掩膜版廠商壟斷。公司于2018年成功實現(xiàn)G2.5等中小尺寸半色調(diào)掩膜版投產(chǎn)，并于2019年先后研發(fā)并投產(chǎn)G8.5、G11TFT-LCD半色調(diào)掩膜版。目前公司具有G2.5-G11的半色調(diào)掩膜版生產(chǎn)能力，可以配套下游面板廠商的所有世代的面板產(chǎn)線，而且在半透層膜透過率均勻性控制、化學(xué)氣相沉積技術(shù)等方面達到國內(nèi)領(lǐng)先水平，公司的半色調(diào)掩膜版產(chǎn)品已成功通過京東方、中電熊貓等下游客戶的認(rèn)證并實現(xiàn)銷售。公司的半色調(diào)掩膜版產(chǎn)品榮獲中國電子材料行業(yè)協(xié)會和中國光學(xué)光電子行業(yè)協(xié)會液晶分會聯(lián)合授予的“2020年中國新型顯示行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展貢獻獎之創(chuàng)新突破獎”。以光阻涂布技術(shù)為突破點，向上游原材料技術(shù)延伸光阻涂布技術(shù)是掩膜版上游材料的核心工藝技術(shù)之一，對掩膜版產(chǎn)品品質(zhì)具有決定性的影響。掩膜版的主要原材料為掩膜基板（涂有光阻和鍍鉻的玻璃基板），掩膜基板的質(zhì)量對掩膜版產(chǎn)品最終品質(zhì)有重大影響。因此，為降低原材料采購成本和控制終端產(chǎn)品質(zhì)量，國際領(lǐng)先的掩膜版企業(yè)陸續(xù)向上游原材料行業(yè)延伸，部分企業(yè)已經(jīng)具備研磨、拋光、鍍鉻、光阻涂布等掩膜版全產(chǎn)業(yè)鏈技術(shù)能力。公司在光阻粘度調(diào)整優(yōu)化、光阻膜厚及均勻性優(yōu)化等方面取得了大量的成果，并成功將其應(yīng)用到G11、G8.5、G8.6高世代掩膜版產(chǎn)品中，實現(xiàn)了國內(nèi)掩膜版行業(yè)在高精度、大尺寸光阻涂布技術(shù)上零的突破及對產(chǎn)業(yè)鏈上游技術(shù)的成功延伸，一定程度上縮小了與國外領(lǐng)先企業(yè)的差距。堅持“以屏帶芯”的發(fā)展戰(zhàn)略，提升半導(dǎo)體掩膜版技術(shù)能力公司在平板顯示掩膜版領(lǐng)域的技術(shù)水平處于國內(nèi)領(lǐng)先地位。在尺寸方面，公司掩膜版覆蓋G2.5-G11全世代產(chǎn)線，其中公司在超大尺寸平板顯示用掩膜版的生產(chǎn)能力方面打破了國外廠商的長期壟斷。此外，在精度方面，公司平板顯示掩膜版已達到國際主流水平。公司針對AMOLED、MicroLED等前沿顯示技術(shù)不斷進行研發(fā)，完善產(chǎn)品線以匹配新型顯示行業(yè)高速發(fā)展的需求，為下游面板廠商的絕大部分產(chǎn)品提供相應(yīng)的掩膜版產(chǎn)品，技術(shù)水平處于國內(nèi)領(lǐng)先地位，但與國外先進技術(shù)相比仍存在一定差距，主要體現(xiàn)在光刻、顯影、蝕刻等工藝的細(xì)節(jié)上。半導(dǎo)體掩膜版技術(shù)壁壘高，工藝難度大，長期被美國福尼克斯等國外的龍頭企業(yè)所壟斷。在半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域，公司處于國內(nèi)主流水平，與國際先進廠商存在一定差距，主要體現(xiàn)在：1)在晶圓制造用掩膜版領(lǐng)域，國內(nèi)獨立第三方掩膜版廠商的技術(shù)能力集中在100nm節(jié)點以上，與國際領(lǐng)先企業(yè)有著較為明顯的差距；2)在IC封裝和IC器件掩膜版領(lǐng)域，在精度方面與國際廠商存在一定差距。公司堅持“以屏帶芯”的發(fā)展戰(zhàn)略，在平板顯示掩膜版領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)技術(shù)突破的同時，不斷攻克半導(dǎo)體掩膜版的核心技術(shù)，致力于為國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)提供關(guān)鍵上游原材料的國產(chǎn)化配套。目前公司已實現(xiàn)250nm制程節(jié)點半導(dǎo)體掩膜版量產(chǎn)，滿足先進半導(dǎo)體芯片封裝、半導(dǎo)體器件、先進指紋模組封裝、高精度藍(lán)寶石襯底（PSS）等產(chǎn)品應(yīng)用。公司通過自主研發(fā)，已掌握180nm/150nm節(jié)點半導(dǎo)體掩膜版制造核心技術(shù)并積累了一定的研究成果，同時公司已掌握的半導(dǎo)體掩膜版制造技術(shù)可以覆蓋第三代半導(dǎo)體相關(guān)產(chǎn)品。募投項目分析：擬IPO募資4.05億元用于掩膜版擴產(chǎn)及研發(fā)公司擬IPO發(fā)行人民幣普通股不超過3333.36萬股（不含行使超額配售選擇權(quán)發(fā)行的股票數(shù)量），占發(fā)行后總股本不低于25%。本次募投項目投資總額40505.26萬元，擬使用募集資金投入金額40505.26萬元，按輕重緩急投資于以下項目：1)高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目；2)路維光電研發(fā)中心建設(shè)項目；3)補充流動資金。高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目投資額為26558.31萬元，主要建設(shè)內(nèi)容為新建3條半導(dǎo)體高精度掩膜版生產(chǎn)線和1條平板顯示大尺寸掩膜版（G8.5）生產(chǎn)線，其中新建的G8.5平板顯示大尺寸掩膜版產(chǎn)線將與成都路維原有產(chǎn)線共用部分后端制程設(shè)備。該項目建設(shè)完成后將大幅提升公司在中高端掩膜版領(lǐng)域的生產(chǎn)能力，大幅緩解公司現(xiàn)有產(chǎn)能不足的問題，推動公司營收快速增長并提升市場份額，同時在生產(chǎn)上強化規(guī)模效應(yīng)降低生產(chǎn)成本并提高生產(chǎn)效率。公司主要產(chǎn)品為石英掩膜版和蘇打掩膜版，兩種產(chǎn)品區(qū)別在于基板材料的不同，但主要生產(chǎn)工序完全相同且產(chǎn)能瓶頸均為光刻環(huán)節(jié)。光刻采用激光直寫像素化圖形的方式進行，系整個掩膜版制造過程中最為耗時的工序。由于掩膜版屬于高度定制化的產(chǎn)品，不同產(chǎn)品的光刻時間受到尺寸、精度和圖形的復(fù)雜程度等多種因素影響，以產(chǎn)品數(shù)量定義的產(chǎn)能并不能直觀的反映公司的產(chǎn)能情況，因此以光刻機實際運行時間與理論運行時間來反映公司產(chǎn)能利用率。公司2021年產(chǎn)能利用率較2020年變化不大，設(shè)備利用率較2020年有所下降，主要系：1)寶安分公司部分設(shè)備逐步搬遷至成都，公司規(guī)劃的研發(fā)項目數(shù)量有所減少，研發(fā)工時相應(yīng)減少，從而導(dǎo)致光刻機實際工時減少，影響了設(shè)備利用率；2)成都路維于2019年立項的一批高世代掩膜版研發(fā)項目大部分已于2020年底完成，2021年成都路維研發(fā)項目大部分為新增項目，尚處于前期理論研究和小規(guī)模測試階段，因此使用光刻機時長較2020年有所減少，影響了設(shè)備利用率。截至2021年末，公司對高世代掩膜版生產(chǎn)線相關(guān)機器設(shè)備的產(chǎn)能利用已較充分。2019年高世代掩膜版生產(chǎn)線投產(chǎn)初期，由于其產(chǎn)品市場尚處于開拓階段，訂單尚不飽和，高世代線產(chǎn)能尚未充分釋放，設(shè)備的使用頻率較低，2019年11代線產(chǎn)能利用率和設(shè)備利用率分別為56.38%和61.26%，8.5代線產(chǎn)能利用率和設(shè)備利用率分別為38.08%和45.20%。2020年以來，隨著公司不斷拓展高世代掩膜版市場，高世代線的產(chǎn)能利用率和設(shè)備利用率逐年攀升，2020年11代線和8.5代線的產(chǎn)能利用率分別上升至61.07%和72.41%，設(shè)備利用率分別提升至89.30%和92.11%。2021年，11代線和8.5代線的產(chǎn)能利用率繼續(xù)上升至77.17%和80.75%，設(shè)備利用率分別為97.45%和90.95%。G8.5平板顯示掩膜版市場需求較大，公司此前受限于產(chǎn)能不足的問題，在需求撞期時需要使用G11掩膜版產(chǎn)線完成G8.5掩膜版的生產(chǎn)；而G11產(chǎn)線的設(shè)備最經(jīng)濟的配置為用于G11和AMOLED平板顯示掩膜版的生產(chǎn)制造，因此產(chǎn)品和產(chǎn)線的錯配使公司的生產(chǎn)成本上升而利潤空間下降。本次擴產(chǎn)項目新建G8.5掩膜版產(chǎn)線將釋放現(xiàn)有G11產(chǎn)線的產(chǎn)能，使其更多投入到G11和AMOLED平板顯示掩膜版的生產(chǎn)中，G11和AMOLED掩膜版等高端產(chǎn)品技術(shù)難度大，產(chǎn)品附加值高，有利于公司優(yōu)化產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，保持公司在平板顯示掩膜版領(lǐng)域的行業(yè)領(lǐng)先地位。路維光電研發(fā)中心建設(shè)項目路維光電研發(fā)中心建設(shè)項目投資額為3446.95萬元，公司擬新建研發(fā)中心，用于公司現(xiàn)有實驗條件升級以及新課題的研發(fā)。本項目實施完成后將顯著優(yōu)化公司的研發(fā)環(huán)境，為高精度半導(dǎo)體掩膜版與大尺寸平板顯示掩膜版擴產(chǎn)項目提供有力支持；同時公司將在半導(dǎo)體掩膜版制造技術(shù)研究與開發(fā)、新型顯示用掩膜版制造新技術(shù)研究與開發(fā)、掩膜版制造技術(shù)基礎(chǔ)與前沿研究、高精度掩膜版制造過程仿真模擬研究等多項行業(yè)前沿技術(shù)進行前瞻性研究與開發(fā)，進一步提高公司的研發(fā)能力和自主創(chuàng)新能力，為公司未來的持續(xù)發(fā)展提供內(nèi)生動力。在半導(dǎo)體領(lǐng)域，路維光電研發(fā)中心建設(shè)項目研發(fā)課題的主要方向之一是可應(yīng)用于130nm/110nm/90nm/65nm等節(jié)點半導(dǎo)體掩膜版及相移掩膜版的生產(chǎn)制造，可滿足微處理器、電源管理芯片、模擬芯片、功率分立器件、DRAM、Nor-Flash等產(chǎn)品的需求，研發(fā)成果的實現(xiàn)有利于提升我國掩膜版制造技術(shù)水平，填補國內(nèi)先進制程半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域的市場空白。在大尺寸平板顯示掩膜版領(lǐng)域，研發(fā)中心的建成有利于保持公司在平板顯示領(lǐng)域掩膜版技術(shù)的領(lǐng)先性，滿足新型平板顯示發(fā)展要求，優(yōu)化產(chǎn)品結(jié)構(gòu)，提高公司的市場占有率，有利于公司的長遠(yuǎn)發(fā)展。可比公司分析掩膜版行業(yè)專業(yè)性較強、進入壁壘較高，目前A股市場上市公司僅有清溢光電。境外的掩膜版市場，領(lǐng)先的掩膜版廠商有福尼克斯、SKE、HOYA、Toppan、臺灣光罩等，大部分國際掩膜版廠商屬于大型綜合性集團的下屬企業(yè)，掩膜版業(yè)務(wù)占集團業(yè)務(wù)體量比重較低，掩膜版業(yè)務(wù)的經(jīng)營數(shù)據(jù)未公開披露。福尼克斯、SKE、臺灣光罩作為全球掩膜版行業(yè)的領(lǐng)先企業(yè)，其產(chǎn)品以掩膜版為主，因此選為可比公司。經(jīng)營規(guī)模比較分析與可比公司相比，公司營收及利潤規(guī)模較小，但處于快速成長階段。從營收的角度看，2021年公司營收4.94億元，與清溢光電

2021年的營收5.44億元體量相當(dāng)，但低于海外領(lǐng)先企業(yè)福尼克斯、SKE、臺灣光罩的42.80、11.95、13.98億元。從凈利潤的角度看，2021年公司凈利潤5231萬元，高于清溢光電2021年的凈利潤4453萬元，低于福尼克斯、SKE、臺灣光罩的3.60、0.65、1.13億元。公司營收、凈利潤19-21年的復(fù)合增速分別為50.37%、195.58%，處于快速成長階段。盈利能力比較分析2020-2021年公司利潤率回升，高于行業(yè)平均水平?？杀裙局?，福尼克斯利潤率水平較穩(wěn)定，2021年毛利率、凈利率分別為25.17%、8.40%；SKE受到新冠疫情、高世代線價格競爭以及國內(nèi)面板產(chǎn)業(yè)鏈進口替代等因素影響更為激烈，毛利率、凈利率分別從2019年的34.30%、18.