超硬材料表面鍍覆解析課件

超硬材料表面鍍覆超硬材料表面鍍覆一.化學(xué)鍍

電鍍是工業(yè)上最常用的表面鍍方法，但電鍍的基體必須是導(dǎo)電材料。因此電鍍前必須首先利用化學(xué)鍍在超硬材料上鍍一薄層導(dǎo)電的金屬?；瘜W(xué)鍍是指借助于合適的還原劑使溶液中的金屬離子被還原為金屬，并沉積在基體表面上的一種鍍覆金屬。一.化學(xué)鍍電鍍是工業(yè)上最常用的表面鍍方法，但電鍍的基化學(xué)鍍與電鍍比有如下特點(diǎn)：（1）可以在各種材料上鍍覆。（2）無論基體幾何形狀如何復(fù)雜，都可獲得厚度均勻的鍍層。（3）化學(xué)鍍層具有較高的硬度，顯示出較大的脆性。（4）化學(xué)鍍?nèi)芤悍€(wěn)定性差，維護(hù)、調(diào)整和再生比較麻煩?；瘜W(xué)鍍與電鍍比有如下特點(diǎn)：1.金剛石化學(xué)鍍前處理方法（1）凈化處理。用堿溶液化學(xué)除油使表面清潔。（2）粗糙化處理?；瘜W(xué)鍍層與非金屬基體之間是靠分子間力結(jié)合的。這種結(jié)合力較弱，想獲得足夠的結(jié)合力，需要部分地依靠機(jī)械聯(lián)結(jié)，因此需要使基體表面粗糙化。對于超硬材料，唯一可行的是化學(xué)粗糙化，即用硝酸鹽在熔融狀態(tài)處理，使其表面因受到輕微腐蝕而變得粗糙。1.金剛石化學(xué)鍍前處理方法（1）凈化處理。用堿溶液化學(xué)除油使（3）親水化處理。超硬材料是疏水的，因此必須采用酸液處理，使表面變成親水的?？刹捎?：1鹽酸，煮沸10-20min。（3）親水化處理。超硬材料是疏水的，因此必須采用酸液處理，使（4）敏化處理。敏化就是使非金屬表面形成一層具有還原作用的還原液體膜。這種具有還原作用的處理液就是敏化劑。好的敏化效果要求具有還原作用的離子在一定條件下能較長時(shí)間保持其還原能力，并且能控制其還原反應(yīng)的速度，要點(diǎn)是敏化所要還原出來的不是連續(xù)的鍍層，而只是活化點(diǎn)。目前，對于非金屬化學(xué)鍍鎳用得最多的是Pd（鈀）活化工藝。當(dāng)吸附有Sn（錫）的非金屬表面接觸到Pd活化液時(shí)，Pd會被Sn還原而沉積到非金屬表面形成活化中心，從而順利進(jìn)行化學(xué)鍍。（4）敏化處理。工序目的方法工藝條件備注凈化脫脂堿性化學(xué)液熱煮有機(jī)溶液浸泡粗化表面粗糙化熔融苛性堿類或硝酸鈉、鉀400℃1～2h慎用親水化親水除污硫酸、硝酸、磷酸混合液加熱10～30min敏化吸附敏化劑為活化準(zhǔn)備SnCl2·2H2O10～20g·L－1HCl40ml·L－1錫粒少量室溫?cái)嚢?～5min氯化亞錫先用鹽酸溶解活化形成催化活性中心：Sn2++Pd2+→Sn4++Pd↓PdCl20.1～0.25g·L－1HCl2.5～5ml·L－1室溫3min或煮沸1min還原防止污染化學(xué)鍍液甲醛（37％）

100ml·L－1室溫＜1min鍍銅用次磷酸鈉

30g·L－1鍍鎳用化學(xué)鍍及電鍍前的表面預(yù)處理工序目的方法工藝條件備注凈化脫脂堿性化學(xué)液熱煮有機(jī)溶液浸泡粗重新畫重新畫4.化學(xué)鍍銅工藝規(guī)范鍍液成分及工作條件1234硫酸銅（CuSO4·5H2O）甲醛（HCHO，37％）ml·L－1氯化鎳（NiCl2·6H2O）142043.513.211020～401040酒石酸鉀鈉（NaKC4H4O6·4H2O）氫氧化鈉（NaOH）碳酸鈉（Na2CO3）30～506～9434.56.83.2401010351020pH值溫度（℃）攪拌或滾鍍12室溫需要12室溫需要12～13室溫需要12.525需要化學(xué)鍍銅工藝規(guī)范（含量/g·L－1）4.化學(xué)鍍銅工藝規(guī)范鍍液成分及工作條件1234硫酸銅（CuS5.化學(xué)鍍鎳工藝規(guī)范鍍液成分及工藝條件12345氯化鎳（NiCl2·6H2O）20～2840～5037硫酸鎳（NiSO4·7H2O）20～2530次磷酸鈉NaH2PO2·H2O20～2530～6015～201034琥珀酸鈉Na2C4H4O4·6H2O20～2527檸檬酸鈉Na3C6H5O7·2H2O60～9010100醋酸鈉CH3COONa·3H2O10羥基乙酸CH2OHCOOH10～30氯化銨NH4Cl50pH值4.5～5.65～64.1～4.4104.5～5.5溫度（℃）90～9560～6585～9025～4595攪拌或滾鍍需要需要需要需要化學(xué)鍍鎳工藝規(guī)范（含量/g·L－1）5.化學(xué)鍍鎳工藝規(guī)范鍍液成分及工藝條件12345氯化鎳（Ni二.電鍍化學(xué)鍍?nèi)芤翰环€(wěn)定，使用壽命短，化學(xué)鍍鍍層薄，厚的鍍層會發(fā)生脆裂和脫落現(xiàn)象。因此，常采用電鍍的方法在化學(xué)鍍基底上繼續(xù)加厚。二.電鍍化學(xué)鍍?nèi)芤翰环€(wěn)定，使用壽命短，化學(xué)鍍鍍層薄，厚的鍍層電鍍是一種用電化學(xué)方法在鍍件表面上沉積所需形態(tài)的金屬覆層工藝。金屬電沉積是指在直流電的作用下．電解液中的金屬離子還原，并沉積到零件表面形成有定性能的金屬鍍層的過程。裝置：三要素，外電路，電鍍?nèi)芤?，陰陽極。電鍍是一種用電化學(xué)方法在鍍件表面上沉積所需形態(tài)的金屬覆層工藝常用的電鍍裝置常用的電鍍裝置電鍍裝置中鍍瓶工作原理電鍍液超硬材料顆粒電鍍裝置中鍍瓶工作原理電鍍液超硬材料顆粒國產(chǎn)JX41-Ⅱ型電鍍裝置原理圖國產(chǎn)JX41-Ⅱ型電鍍裝置原理圖電鍍Cu鍍液成分及工藝條件1234焦磷酸銅（Cu2P2O7·3H2O）60～7070～10070～90硫酸銅（CuSO4·5H2O）37～43焦磷酸鉀（K4P2O7·3H2O）280～320300～400175～185300～380檸檬酸銨[（NH4）3C6H6O7]20～2520～3010～15檸檬酸鉀（K3C3H6O7）10～15碳酸氫二鉀（K2HPO4·12H2O）20～30硝酸銨（NH4NO3）6～10二氧化硒（SeO2）0.008～0.022－巰基苯駢咪唑0.002～0.0042－巰基苯駢噻唑0.002～0.004pH值8.2～8.88.0～8.87.2～7.88.0～8.8溫度（℃）30～5030～5035～4530～50電流密度（A·dm－2）1.0～1.50.8～1.50.8～1.41.5～3.0攪拌或滾鍍需要需要需要需要超硬磨料電鍍銅工藝規(guī)范含量/g·L－1電鍍Cu鍍液成分及工藝條件1234焦磷酸銅（Cu2P2O7·電鍍Ni鍍液成分及工藝條件1234硫酸鎳（NiSO4·7H2O）250～300300～340250氯化鎳（NiCl2·6H2O）30～6070～9025～35氨基磺酸鎳[Ni（NH2SO3）2·4H2O]300～400硼酸（H3BO3）35～4035～4530～4530硫酸鈷（CoSO4·7H2O）15氯化鈉（NaCl）15十二烷基硫酸鈉（C12H25SO4Na）0.05～0.10.05～0.1pH值3～43.8～4.23.5～4.54.5～5.5溫度（℃）25～5040～6040～6025～35電流密度（A·dm－2）1.0～2.50.5～1.01.0～2.01.0～2.0攪拌或滾鍍需要需要需要需要超硬磨料電鍍鎳工藝規(guī)范含量/g·L－1電鍍Ni鍍液成分及工藝條件1234硫酸鎳（NiSO4·7H2超硬材料真空鍍超硬材料真空鍍一.真空鍍方法概述制造鋸片、鉆頭、滾輪等制品的金剛石，有時(shí)需要鍍鈦、鉬和鎢等高熔點(diǎn)高硬度金屬。鍍覆這些金屬材料，采用化學(xué)鍍和電鍍難以實(shí)現(xiàn)，需要采用真空鍍技術(shù)。真空鍍主要用于制造化學(xué)鍍和電鍍無法獲得的鍍層。一.真空鍍方法概述制造鋸片、鉆頭、滾輪等制品的金剛石，有時(shí)需超硬材料真空鍍的種類真空鍍法分為真空物理氣相沉積、真空化學(xué)氣相沉積和真空微蒸發(fā)鍍。真空物理氣象沉積指的是在真空條件下將金屬氣化成為原子、分子或離子，直接沉積在鍍件表面的方法。它包含真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍等?；瘜W(xué)氣相沉積是利用加熱、等離子體激勵(lì)或光輻射等方法，使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在襯底表面反應(yīng)并沉積生成固態(tài)薄膜的過程。真空微蒸發(fā)鍍指在真空下Ti、Cr、Mo、W、V等活性金屬加熱到一定溫度后表面原子高度活化，與超硬材料接觸反應(yīng)并形成鍍層的方法。超硬材料真空鍍的種類真空鍍法分為真空物理氣相沉積、真空化學(xué)氣真空物理氣相沉積三種方法的比較重新畫真空物理氣相沉積三種方法的比較重新畫真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)1.主要技術(shù)指標(biāo)如下：（1）可以金剛石表面鍍覆鈦、鉻、鉬、鉻等碳化物形成元素，這些元素濕法鍍難沉積。也可以鍍上述元素的合金。（2）鍍覆溫度可在650-800度之間任選擇。對于中高品級的金剛石而言，在這一范圍內(nèi)選擇適當(dāng)?shù)腻兏矞囟?，不至于產(chǎn)生熱損傷。（3）鍍層與金剛石間形成的過渡相金屬材料碳化物可實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍵結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度高。真空微蒸發(fā)鍍技術(shù)指標(biāo)1.主要技術(shù)指標(biāo)如下：真空微蒸發(fā)鍍技術(shù)指標(biāo)（4）鍍后單顆?？箟簭?qiáng)度提高5%-20%，鍍后增重隨粒度不同在0.5%-3%范圍內(nèi)，鍍覆的最細(xì)粒度可達(dá)W2.5/5。（5）開發(fā)的專用設(shè)備單次鍍覆量達(dá)到8000克拉，實(shí)現(xiàn)大批量工業(yè)化生產(chǎn)。（6）立方氮化硼鍍鈦合金，取得了與金剛石表面鍍覆類似的效果。真空鍍的效果如下兩表和兩圖所示。（4）鍍后單顆?？箟簭?qiáng)度提高5%-20%，鍍后增重隨粒度不同各類金剛石表面鍍覆方法的技術(shù)特征及應(yīng)用效果的比較技術(shù)特征和應(yīng)用效果鹽浴鍍覆物理氣相沉積化學(xué)氣相沉積低溫電鍍或復(fù)合鍍粉末覆蓋燒結(jié)鍍覆真空微蒸發(fā)鍍覆鍍層成分鈦、鉬、鎢、鉻及相應(yīng)碳化物鈦、鉬、鎢、鉻，無碳化物鈦、鉬、鎢、鉻及相應(yīng)碳化物鎳或鎳-鎢、鎳-鈷合金鈦、鉬、鎢、鉻及相應(yīng)碳化物鈦、鉬、鎢、鉻及相應(yīng)碳化物鍍層結(jié)構(gòu)碳化物鍍層物理附著在金剛石表面外延生長的碳化物+外表金屬層鍍層物理附著在金剛石表面有碳化物生成鍍層與金剛石之間有碳化物過渡層與基體結(jié)合狀態(tài)強(qiáng)力冶金結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度高物理結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度低冶金結(jié)合機(jī)械包覆，無結(jié)合強(qiáng)度冶金結(jié)合化學(xué)鍵合，結(jié)合強(qiáng)度高鍍覆溫度及金剛石熱損傷850-1100℃，嚴(yán)重?zé)釗p傷<400℃，無熱損傷>850℃，嚴(yán)重?zé)釗p傷<100℃，無熱損傷>850℃，嚴(yán)重?zé)釗p傷700-820℃，無熱損傷單次鍍覆能力高低低<600g高高鍍覆成本>0.5元/g>0.5元/g————>0.5元/g低<0.03元/g工業(yè)應(yīng)用效果未應(yīng)用工具壽命提高10-20%未應(yīng)用未應(yīng)用效果不明顯工具壽命、強(qiáng)度、加工效率均能提高20%左右各類金剛石表面鍍覆方法的技術(shù)特征及應(yīng)用效果的比較技術(shù)特征和應(yīng)鍍鈦金剛石的經(jīng)濟(jì)效益1）鍍鈦使得金剛石顆粒與結(jié)合劑冶金結(jié)合，不脫粒；鍍鈦層保護(hù)金剛石防止燒結(jié)過程中鐵等有害組分對金剛石的侵蝕。2）采用鍍鈦金剛石可以減少金剛石用量10-20%，可以適當(dāng)增加低價(jià)格的細(xì)粒度金剛石用量。3）鍍鈦金剛石簡化了對結(jié)合劑配方的要求，取消或者大幅度減少了昂貴的有色金屬用量，實(shí)現(xiàn)了高鐵（75%）結(jié)合劑的廣泛應(yīng)用。4）鍍鈦金剛石降低了原料、工藝、模具波動(dòng)對工具性能的影響，有利于保障產(chǎn)品質(zhì)量和穩(wěn)定性。鍍鈦金剛石的經(jīng)濟(jì)效益1）鍍鈦使得金剛石顆粒與結(jié)合劑冶金結(jié)合，超硬材料表面鍍覆超硬材料表面鍍覆一.化學(xué)鍍

電鍍是工業(yè)上最常用的表面鍍方法，但電鍍的基體必須是導(dǎo)電材料。因此電鍍前必須首先利用化學(xué)鍍在超硬材料上鍍一薄層導(dǎo)電的金屬?；瘜W(xué)鍍是指借助于合適的還原劑使溶液中的金屬離子被還原為金屬，并沉積在基體表面上的一種鍍覆金屬。一.化學(xué)鍍電鍍是工業(yè)上最常用的表面鍍方法，但電鍍的基化學(xué)鍍與電鍍比有如下特點(diǎn)：（1）可以在各種材料上鍍覆。（2）無論基體幾何形狀如何復(fù)雜，都可獲得厚度均勻的鍍層。（3）化學(xué)鍍層具有較高的硬度，顯示出較大的脆性。（4）化學(xué)鍍?nèi)芤悍€(wěn)定性差，維護(hù)、調(diào)整和再生比較麻煩?；瘜W(xué)鍍與電鍍比有如下特點(diǎn)：1.金剛石化學(xué)鍍前處理方法（1）凈化處理。用堿溶液化學(xué)除油使表面清潔。（2）粗糙化處理?；瘜W(xué)鍍層與非金屬基體之間是靠分子間力結(jié)合的。這種結(jié)合力較弱，想獲得足夠的結(jié)合力，需要部分地依靠機(jī)械聯(lián)結(jié)，因此需要使基體表面粗糙化。對于超硬材料，唯一可行的是化學(xué)粗糙化，即用硝酸鹽在熔融狀態(tài)處理，使其表面因受到輕微腐蝕而變得粗糙。1.金剛石化學(xué)鍍前處理方法（1）凈化處理。用堿溶液化學(xué)除油使（3）親水化處理。超硬材料是疏水的，因此必須采用酸液處理，使表面變成親水的?？刹捎?：1鹽酸，煮沸10-20min。（3）親水化處理。超硬材料是疏水的，因此必須采用酸液處理，使（4）敏化處理。敏化就是使非金屬表面形成一層具有還原作用的還原液體膜。這種具有還原作用的處理液就是敏化劑。好的敏化效果要求具有還原作用的離子在一定條件下能較長時(shí)間保持其還原能力，并且能控制其還原反應(yīng)的速度，要點(diǎn)是敏化所要還原出來的不是連續(xù)的鍍層，而只是活化點(diǎn)。目前，對于非金屬化學(xué)鍍鎳用得最多的是Pd（鈀）活化工藝。當(dāng)吸附有Sn（錫）的非金屬表面接觸到Pd活化液時(shí)，Pd會被Sn還原而沉積到非金屬表面形成活化中心，從而順利進(jìn)行化學(xué)鍍。（4）敏化處理。工序目的方法工藝條件備注凈化脫脂堿性化學(xué)液熱煮有機(jī)溶液浸泡粗化表面粗糙化熔融苛性堿類或硝酸鈉、鉀400℃1～2h慎用親水化親水除污硫酸、硝酸、磷酸混合液加熱10～30min敏化吸附敏化劑為活化準(zhǔn)備SnCl2·2H2O10～20g·L－1HCl40ml·L－1錫粒少量室溫?cái)嚢?～5min氯化亞錫先用鹽酸溶解活化形成催化活性中心：Sn2++Pd2+→Sn4++Pd↓PdCl20.1～0.25g·L－1HCl2.5～5ml·L－1室溫3min或煮沸1min還原防止污染化學(xué)鍍液甲醛（37％）

100ml·L－1室溫＜1min鍍銅用次磷酸鈉

30g·L－1鍍鎳用化學(xué)鍍及電鍍前的表面預(yù)處理工序目的方法工藝條件備注凈化脫脂堿性化學(xué)液熱煮有機(jī)溶液浸泡粗重新畫重新畫4.化學(xué)鍍銅工藝規(guī)范鍍液成分及工作條件1234硫酸銅（CuSO4·5H2O）甲醛（HCHO，37％）ml·L－1氯化鎳（NiCl2·6H2O）142043.513.211020～401040酒石酸鉀鈉（NaKC4H4O6·4H2O）氫氧化鈉（NaOH）碳酸鈉（Na2CO3）30～506～9434.56.83.2401010351020pH值溫度（℃）攪拌或滾鍍12室溫需要12室溫需要12～13室溫需要12.525需要化學(xué)鍍銅工藝規(guī)范（含量/g·L－1）4.化學(xué)鍍銅工藝規(guī)范鍍液成分及工作條件1234硫酸銅（CuS5.化學(xué)鍍鎳工藝規(guī)范鍍液成分及工藝條件12345氯化鎳（NiCl2·6H2O）20～2840～5037硫酸鎳（NiSO4·7H2O）20～2530次磷酸鈉NaH2PO2·H2O20～2530～6015～201034琥珀酸鈉Na2C4H4O4·6H2O20～2527檸檬酸鈉Na3C6H5O7·2H2O60～9010100醋酸鈉CH3COONa·3H2O10羥基乙酸CH2OHCOOH10～30氯化銨NH4Cl50pH值4.5～5.65～64.1～4.4104.5～5.5溫度（℃）90～9560～6585～9025～4595攪拌或滾鍍需要需要需要需要化學(xué)鍍鎳工藝規(guī)范（含量/g·L－1）5.化學(xué)鍍鎳工藝規(guī)范鍍液成分及工藝條件12345氯化鎳（Ni二.電鍍化學(xué)鍍?nèi)芤翰环€(wěn)定，使用壽命短，化學(xué)鍍鍍層薄，厚的鍍層會發(fā)生脆裂和脫落現(xiàn)象。因此，常采用電鍍的方法在化學(xué)鍍基底上繼續(xù)加厚。二.電鍍化學(xué)鍍?nèi)芤翰环€(wěn)定，使用壽命短，化學(xué)鍍鍍層薄，厚的鍍層電鍍是一種用電化學(xué)方法在鍍件表面上沉積所需形態(tài)的金屬覆層工藝。金屬電沉積是指在直流電的作用下．電解液中的金屬離子還原，并沉積到零件表面形成有定性能的金屬鍍層的過程。裝置：三要素，外電路，電鍍?nèi)芤?，陰陽極。電鍍是一種用電化學(xué)方法在鍍件表面上沉積所需形態(tài)的金屬覆層工藝常用的電鍍裝置常用的電鍍裝置電鍍裝置中鍍瓶工作原理電鍍液超硬材料顆粒電鍍裝置中鍍瓶工作原理電鍍液超硬材料顆粒國產(chǎn)JX41-Ⅱ型電鍍裝置原理圖國產(chǎn)JX41-Ⅱ型電鍍裝置原理圖電鍍Cu鍍液成分及工藝條件1234焦磷酸銅（Cu2P2O7·3H2O）60～7070～10070～90硫酸銅（CuSO4·5H2O）37～43焦磷酸鉀（K4P2O7·3H2O）280～320300～400175～185300～380檸檬酸銨[（NH4）3C6H6O7]20～2520～3010～15檸檬酸鉀（K3C3H6O7）10～15碳酸氫二鉀（K2HPO4·12H2O）20～30硝酸銨（NH4NO3）6～10二氧化硒（SeO2）0.008～0.022－巰基苯駢咪唑0.002～0.0042－巰基苯駢噻唑0.002～0.004pH值8.2～8.88.0～8.87.2～7.88.0～8.8溫度（℃）30～5030～5035～4530～50電流密度（A·dm－2）1.0～1.50.8～1.50.8～1.41.5～3.0攪拌或滾鍍需要需要需要需要超硬磨料電鍍銅工藝規(guī)范含量/g·L－1電鍍Cu鍍液成分及工藝條件1234焦磷酸銅（Cu2P2O7·電鍍Ni鍍液成分及工藝條件1234硫酸鎳（NiSO4·7H2O）250～300300～340250氯化鎳（NiCl2·6H2O）30～6070～9025～35氨基磺酸鎳[Ni（NH2SO3）2·4H2O]300～400硼酸（H3BO3）35～4035～4530～4530硫酸鈷（CoSO4·7H2O）15氯化鈉（NaCl）15十二烷基硫酸鈉（C12H25SO4Na）0.05～0.10.05～0.1pH值3～43.8～4.23.5～4.54.5～5.5溫度（℃）25～5040～6040～6025～35電流密度（A·dm－2）1.0～2.50.5～1.01.0～2.01.0～2.0攪拌或滾鍍需要需要需要需要超硬磨料電鍍鎳工藝規(guī)范含量/g·L－1電鍍Ni鍍液成分及工藝條件1234硫酸鎳（NiSO4·7H2超硬材料真空鍍超硬材料真空鍍一.真空鍍方法概述制造鋸片、鉆頭、滾輪等制品的金剛石，有時(shí)需要鍍鈦、鉬和鎢等高熔點(diǎn)高硬度金屬。鍍覆這些金屬材料，采用化學(xué)鍍和電鍍難以實(shí)現(xiàn)，需要采用真空鍍技術(shù)。真空鍍主要用于制造化學(xué)鍍和電鍍無法獲得的鍍層。一.真空鍍方法概述制造鋸片、鉆頭、滾輪等制品的金剛石，有時(shí)需超硬材料真空鍍的種類真空鍍法分為真空物理氣相沉積、真空化學(xué)氣相沉積和真空微蒸發(fā)鍍。真空物理氣象沉積指的是在真空條件下將金屬氣化成為原子、分子或離子，直接沉積在鍍件表面的方法。它包含真空蒸鍍、濺射鍍、離子鍍等?；瘜W(xué)氣相沉積是利用加熱、等離子體激勵(lì)或光輻射等方法，使氣態(tài)或蒸汽狀態(tài)的化學(xué)物質(zhì)在襯底表面反應(yīng)并沉積生成固態(tài)薄膜的過程。真空微蒸發(fā)鍍指在真空下Ti、Cr、Mo、W、V等活性金屬加熱到一定溫度后表面原子高度活化，與超硬材料接觸反應(yīng)并形成鍍層的方法。超硬材料真空鍍的種類真空鍍法分為真空物理氣相沉積、真空化學(xué)氣真空物理氣相沉積三種方法的比較重新畫真空物理氣相沉積三種方法的比較重新畫真空鍍膜機(jī)真空鍍膜機(jī)1.主要技術(shù)指標(biāo)如下：（1）可以金剛石表面鍍覆鈦、鉻、鉬、鉻等碳化物形成元素，這些元素濕法鍍難沉積。也可以鍍上述元素的合金。（2）鍍覆溫度可在650-800度之間任選擇。對于中高品級的金剛石而言，在這一范圍內(nèi)選擇適當(dāng)?shù)腻兏矞囟?，不至于產(chǎn)生熱損傷。（3）鍍層與金剛石間形成的過渡相金屬材料碳化物可實(shí)現(xiàn)化學(xué)鍵結(jié)合，結(jié)合強(qiáng)度高。