第6章 專利申請(qǐng)文件撰寫

2023/2/11發(fā)明專利申請(qǐng)文件的撰寫2023/2/12

1、充分公開(A26.3)------清楚、完整、實(shí)現(xiàn)為什么要充分公開發(fā)明內(nèi)容付出—報(bào)酬(立法宗旨)說(shuō)明書2023/2/132、不充分公開的后果a、不能獲得專利保護(hù)b、偶然獲得專利-對(duì)保護(hù)也無(wú)濟(jì)于事說(shuō)明書2023/2/14

3、申請(qǐng)人的對(duì)充分公開的擔(dān)憂？尤其方法申請(qǐng)等---國(guó)內(nèi)，無(wú)法防止侵權(quán)行為(取證難)---國(guó)外，無(wú)償使用問(wèn)題說(shuō)明書2023/2/15

4、申請(qǐng)人的對(duì)充分公開的理解？---國(guó)外專利大多都做不出來(lái)---如何理解A26.3(清楚、完整、實(shí)現(xiàn))---充分公開與產(chǎn)業(yè)化或商品化的關(guān)系說(shuō)明書2023/2/165、公開充分不等于和盤托出—技術(shù)訣竅(know-how)合理地保留技術(shù)訣竅的重要性1、國(guó)內(nèi)—有利于技術(shù)轉(zhuǎn)讓、防止侵權(quán)行為的發(fā)生2、國(guó)外—防止專利被無(wú)償使用說(shuō)明書2023/2/176、獲得專利權(quán)卻打不贏官司？發(fā)明專利

點(diǎn)(單個(gè)產(chǎn)品)面(系列產(chǎn)品)---實(shí)施例的重要性說(shuō)明書2023/2/187、形成有效的專利保護(hù)網(wǎng)---考慮多重保護(hù)專利，新型，外觀設(shè)計(jì)等---形成外圍專利時(shí)間—從立項(xiàng)至完成(優(yōu)先權(quán))

內(nèi)容—每取得一點(diǎn)改進(jìn)(技術(shù)問(wèn)題)說(shuō)明書2023/2/198、專利的保護(hù)范圍---內(nèi)容(權(quán)利要求書-A59)A、實(shí)施例的重要性---A26.4

B、實(shí)施例的數(shù)量---侵權(quán)判定

C、排他性語(yǔ)言的運(yùn)用權(quán)利要求書周邊限定說(shuō)中心限定說(shuō)折衷說(shuō)2023/2/110專利申請(qǐng)文件的撰寫I.相關(guān)法律條款I(lǐng)I.申請(qǐng)文件的撰寫III.案例2023/2/111I.相關(guān)法律條款1、說(shuō)明書法26.3/5(實(shí)質(zhì)性要求)細(xì)則17條(形式要求)2、權(quán)利要求書法26.4，法31，細(xì)則20.2和法59條(實(shí)質(zhì)性要求)細(xì)則19，21-22條(形式要求)2023/2/112I.相關(guān)法律條款1、說(shuō)明書專利法26條（3）清楚、完整、能夠?qū)崿F(xiàn)為準(zhǔn)2023/2/113細(xì)則17條發(fā)明專利申請(qǐng)的說(shuō)明書應(yīng)當(dāng)包括下列內(nèi)容：（一）技術(shù)領(lǐng)域：寫明要求保護(hù)的技術(shù)方案所屬的技術(shù)領(lǐng)域；(恰當(dāng))（二）背景技術(shù)：寫明對(duì)發(fā)明的理解、檢索、審查有用的背景技術(shù)；有可能的，并引證反映這些背景技術(shù)的文件；(客觀)（三）發(fā)明內(nèi)容：寫明發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題以及解決其技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案，并對(duì)照現(xiàn)有技術(shù)寫明發(fā)明的有益效果；(明確、詳細(xì)，有說(shuō)服力)（四）附圖說(shuō)明：說(shuō)明書有附圖的，對(duì)各幅附圖作簡(jiǎn)略說(shuō)明；（五）具體實(shí)施方式：詳細(xì)寫明申請(qǐng)人認(rèn)為實(shí)現(xiàn)發(fā)明的優(yōu)選方式，必要時(shí)，舉例說(shuō)明；有附圖的，對(duì)照附圖。

2023/2/114I.相關(guān)法律條款二、權(quán)利要求書專利法第59條(A59)專利法第26條第4款(A26.4)細(xì)則19-22條(R19-22)2023/2/115I.相關(guān)法律條款專利法第59條：權(quán)利要求書是發(fā)明的實(shí)質(zhì)內(nèi)容和申請(qǐng)人切身利益的集中表現(xiàn)，是審查、無(wú)效及侵權(quán)訴訟程序的焦點(diǎn)。2023/2/116I.相關(guān)法律條款專利法第26條第4款：權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)以說(shuō)明書為依據(jù)，清楚、簡(jiǎn)要地限定要求專利保護(hù)的范圍。2023/2/117I.相關(guān)法律條款如何理解“清楚、簡(jiǎn)要”1、從技術(shù)層面考慮2、從法律層面考慮2023/2/118I.相關(guān)法律條款“限定要求專利保護(hù)的范圍”

---“有沒有的問(wèn)題”2023/2/119I.相關(guān)法律條款R20：

權(quán)利要求書應(yīng)當(dāng)有獨(dú)立權(quán)利要求，也可以有從屬權(quán)利要求。

獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)從整體上反映發(fā)明或者實(shí)用新型的技術(shù)方案，記載解決技術(shù)問(wèn)題的必要技術(shù)特征。從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)用要求保護(hù)的附加技術(shù)特征，對(duì)引用的權(quán)利要求作進(jìn)一步的限定。2023/2/120I.相關(guān)法律條款R21：

發(fā)明或者實(shí)用新型的獨(dú)立權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)包括前序部分和特征部分，按照下列規(guī)定撰寫：（一）前序部分：寫明要求保護(hù)的發(fā)明或者實(shí)用新型技術(shù)方案的主題名稱和發(fā)明或者實(shí)用新型主題與最接近的現(xiàn)有技術(shù)共有的必要技術(shù)特征；（二）特征部分：使用“其特征是……”或者類似的用語(yǔ)，寫明發(fā)明或者實(shí)用新型區(qū)別于最接近的現(xiàn)有技術(shù)的技術(shù)特征。這些特征和前序部分寫明的特征合在一起，限定發(fā)明或者實(shí)用新型要求保護(hù)的范圍。發(fā)明或者實(shí)用新型的性質(zhì)不適合用前款方式表達(dá)的，獨(dú)立權(quán)利要求可以用其他方式撰寫。一項(xiàng)發(fā)明或者實(shí)用新型應(yīng)當(dāng)只有一個(gè)獨(dú)立權(quán)利要求，并寫在同一發(fā)明或者實(shí)用新型的從屬權(quán)利要求之前。2023/2/121I.相關(guān)法律條款

R22：

發(fā)明或者實(shí)用新型的從屬權(quán)利要求應(yīng)當(dāng)包括引用部分和限定部分，按照下列規(guī)定撰寫：（一）引用部分：寫明引用的權(quán)利要求的編號(hào)及其主題名稱；（二）限定部分：寫明發(fā)明或者實(shí)用新型附加的技術(shù)特征。從屬權(quán)利要求只能引用在前的權(quán)利要求。引用兩項(xiàng)以上權(quán)利要求的多項(xiàng)從屬權(quán)利要求，只能以擇一方式引用在前的權(quán)利要求，并不得作為另一項(xiàng)多項(xiàng)從屬權(quán)利要求的基礎(chǔ)。2023/2/122I.相關(guān)法律條款注意：

1.主題與編號(hào)；

2.擇一引用；

3.多項(xiàng)引用多項(xiàng)問(wèn)題。

2023/2/123練習(xí)1.一種制備化合物Z的方法，

2.權(quán)利要求1的方法，

3.權(quán)利要求1或2的方法，

4.權(quán)利要求1或3的方法，

5.權(quán)利要求3的方法，

6.權(quán)利要求5的方法，

7.權(quán)利要求5或6的方法，2023/2/124

I.相關(guān)法律條款1、確定發(fā)明的類型、主題；2、確定各主題的全部技術(shù)特征(R20.2)3、技術(shù)特征的概括（A26.4）4、確定優(yōu)選實(shí)施方案；------由此確定各項(xiàng)權(quán)利要求之間的引用關(guān)系。2023/2/125I.相關(guān)法律條款三、說(shuō)明書摘要發(fā)明的主題名稱(1)、所屬技術(shù)領(lǐng)域(2)、需要解決的技術(shù)問(wèn)題(3)、解決該問(wèn)題的技術(shù)方案(4)的要點(diǎn)以及主要用途(5)。 少于300字。2023/2/126II.申請(qǐng)文件的撰寫1、產(chǎn)品2、方法(用途)

2023/2/127產(chǎn)品權(quán)利要求

產(chǎn)品，設(shè)備，組合物…“包含方法，性能，以及用途特征”？2023/2/128方法權(quán)利要求

時(shí)間過(guò)程要素的活動(dòng)(使用方法，制造方法，處理方法…)2023/2/129用途權(quán)利要求

用途權(quán)利要求的類型是方法權(quán)利要求，基于發(fā)現(xiàn)新性能并利用該性能而作出的發(fā)明。

1.撰寫形式（1）大多數(shù)對(duì)使用方式和條件沒有特殊要求的用途發(fā)明，例如可以寫成：－“用化合物X作為殺蟲劑”－“化合物Y用作木材防蛀保護(hù)的浸漬液”－“化合物Y，用作木材防蛀保護(hù)的浸漬液”。2023/2/1302.注意：

(1)與非用途權(quán)利要求的區(qū)別：

“用化合物X制成的殺蟲劑”,

“含化合物X的殺蟲劑”

“作殺蟲劑用的化合物X”新穎性、創(chuàng)造性：

—有新用途的已知物質(zhì)無(wú)新穎性；

—已知物質(zhì)的新用途，要考慮用途發(fā)明的創(chuàng)造性

2023/2/131案例1(CN1564268A)

1、一種具有高介電常數(shù)的高頻介質(zhì)材料，其特征是，按重量百分比包括以下各組分：Ａｇ2Ｏ3：３６～４５％；Ｎｂ2Ｏ5：３５～４３％；Ｔａ2Ｏ5：１２～２０％；Ｂi2Ｏ3：0.5-4.0%;Sb2O5:1.5-5.5。2023/2/132案例1(CN1564268A)1、一種具有高介電常數(shù)的高頻介質(zhì)材料，其特征是，按重量百分比包括以下各組分：Ａｇ2Ｏ3：３６～４５％；Ｎｂ2Ｏ5：３５～４３％；Ｔａ2Ｏ5：１２～２０％；Ｂi2Ｏ3：0.5-4.0%;Sb2O5:1.5-5.5，其介電常數(shù)大于500。2023/2/133案例2(CN1477083A)

1、一種高孔隙率多孔陶瓷的制備方法，該方法包括配料、混勻、成型、干燥等常規(guī)陶瓷材料制備工藝，其特征是在配料中，以骨料為基數(shù)，按重量百分比外加易溶于水的造孔劑５０～８０％、莫來(lái)石纖維０～７％、油性物質(zhì)６～１１％、纖維素０．２～０．５％；將干燥后的陶瓷坯體依次經(jīng)過(guò)浸析、干燥、浸漬助燒結(jié)劑、干燥、燒成等工序而獲得制品。

產(chǎn)品？用途？

2023/2/134案例2(CN1477083A)1、一種高孔隙率多孔陶瓷，包括，以骨料為基數(shù)，按重量百分比計(jì)，造孔劑５０～８０％、莫來(lái)石纖維０～７％、油性物質(zhì)６～１１％、纖維素０．２～０．５％、以及助燒結(jié)劑1-3%，其孔隙率大于80%，抗壓強(qiáng)度大于等于2.0MPa。2023/2/135案例3(CN1778711A)

1、一種固定化微生物懸浮陶瓷載體，其特征是該載體為球體或等軸圓柱體，直徑為２－５ｃｍ，由內(nèi)核及表層構(gòu)成的主體以及附著于表層的活性體所組成，呈部分閉孔、部分開孔，閉孔多集中于內(nèi)核，開孔主要集中于表層，且表層及表層的活性體呈三維網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，孔徑呈不連續(xù)分布，除保持保持微孔陶瓷的微米級(jí)孔隙外，還有一類肉眼可見的毫米級(jí)孔洞。用途？

2023/2/136案例3(CN1778711A)1、一種固定化微生物懸浮陶瓷載體，其特征是該載體包括內(nèi)核、表層、以及附著于表層的活性體，呈部分閉孔、部分開孔，閉孔多集中于內(nèi)核，開孔主要集中于表層，孔徑呈不連續(xù)分布，微孔陶瓷的孔隙從微米級(jí)至毫米級(jí)。2023/2/137案例4(CN1850732A)一種無(wú)鉛、無(wú)砷粉彩顏料玻璃白的制備方法，采用天然礦物原料及工業(yè)化工原料，其組成為：ＳiＯ２為41～50ｗｔ％、Ａl２Ｏ３為１２～２０ｗｔ％；Ｂ２Ｏ３為１６～２２ｗｔ％；Ｌｉ２Ｏ為３～７ｗｔ％；Ｎａ2Ｏ、Ｋ2O為1-4wt%；CaO、MgO為7-13wt%、ZrO、SnO2為2-8wt%；經(jīng)混勻、熔制、淬冷、球磨、過(guò)篩、干燥獲得制品。產(chǎn)品？用途？由該粉彩制得的制品？2023/2/138案例4(CN1850732A)一種粉彩顏料，包括：ＳiＯ２為41～50ｗｔ％、Ａl２Ｏ３為１２～２０ｗｔ％；Ｂ２Ｏ３為１６～２２ｗｔ％；Ｌｉ２Ｏ為３～７ｗｔ％；Ｎａ2Ｏ和/或Ｋ2O為1-4wt%；CaO和/或MgO為7-13wt%、ZrO和/或SnO2為2-8wt%。2023/2/139案例5(CN1919564A)一種環(huán)境友好型復(fù)合陶瓷透水磚的生產(chǎn)方法，以內(nèi)含可燃物的工業(yè)廢渣為底層骨料，以廢瓷粒為面層骨料，它們的顆粒級(jí)配（按重量百分比）都為：過(guò)１０～２０目篩的料占５５～６５，過(guò)２０～３０目篩的料占３５～４５；通過(guò)外加適量的高溫粘結(jié)劑和有機(jī)粘結(jié)劑ＣＭＣ，其中高溫粘結(jié)劑組成(按重量百分比)為：石灰石10-20，白云石0-10，長(zhǎng)石14-20，石英7-10，高嶺土10-15，瓷石粉40-50，經(jīng)配料、陳腐、成型、干燥、焙燒工序而獲得產(chǎn)品。產(chǎn)品？用途？2023/2/140案例5(CN1919564A)一種透水磚，其特征在于：所述透水磚包括煤矸石和/或煤渣的底層骨料，廢瓷粒的面層骨料，它們的顆粒級(jí)配（按重量百分比）都為：過(guò)１０～２０目篩的料占５５～６５，過(guò)２０～３０目篩的料占３５～４５。2023/2/141案例6(CN201137833Y)一種陶瓷組合臺(tái)燈，包括燈頭（２）、燈泡（３）、燈罩（４）、中空螺桿（５）、底座（６）及導(dǎo)線（７），其特征在于燈座是由包括至少一個(gè)盤面朝上的盤子在內(nèi)的若干個(gè)日用陶瓷器皿（１０、１１、１２、１３）通過(guò)中空螺桿（５）串接組合構(gòu)成。2023/2/142案例6(CN201137833Y)一種陶瓷組合臺(tái)燈，包括燈頭（２）、燈泡（３）、燈罩（４）、底座（６），其特征在于燈座由陶瓷體（１０、１１、１２、１３）構(gòu)成。2023/2/143案例7一種具有疏水性能的自清潔衛(wèi)生潔具釉，包括第一層乳濁釉層，以及在乳濁釉層上形成的第二層透明釉層，其特征在于：第一層乳濁釉的組成按重量百分比為：石英２５－４５％，鉀長(zhǎng)石１５－３０％，三氧化二鋁１－６％，蘇州土５－１５％，方解石８－２０％，白云石２－８%，氧化鋅1-8%，熔塊1-5%，硅酸鋯8-15%；第二層透明釉的組成按重量百分比為：石英25-60%，鉀長(zhǎng)石15-35%，蘇州土5-15%，方解石8-18%，白云石2-6%，氧化鋅2-10%，熔塊2-10%，氟化物1-10%；氧化鈦1-5%；上述熔塊的化學(xué)重量百分組成為：ＫＮａＯ２－５％，ＣａＯ４－８％，ＺｎＯ４－８％，Ａｌ2Ｏ3５－８％，Ｂ2Ｏ3６－１０％，ＳｉＯ２５０－５５％，ＺｒＯ２８－１４％。第一層的限定？？第二層的限定？2023/2/144案例7(CN101274858A)一種層狀釉，包括：兩層或更多層，其中至少一層為釉面層，其特征在于所述釉面層中包含：氟化物和氧化鈦。(釉面層的組成，雙層結(jié)構(gòu)，雙層結(jié)構(gòu)各層的組成等)2023/2/145III.案例

案例1—第一部分權(quán)利要求的撰寫2023/2/1462023/2/147獨(dú)立權(quán)利要求1

1、一種非水性電解液，由非水性溶劑和溶于其中的溶質(zhì)鹽以及具有結(jié)構(gòu)式（I）的二磺酸酯衍生物組成：（I）其中R表示C1－C6烷基，X表示C2－C6亞烷基；其中結(jié)構(gòu)式（I）的二磺酸酯衍生物的含量為電解液總重量的0.1-20％，其中的非水性溶劑是由高介電溶劑和低粘度溶劑組成。

2023/2/148從屬權(quán)利要求2、權(quán)利要求1的非水性電解液，其中結(jié)構(gòu)式（I）中的取代基R是選自甲基、乙基、丙基和異丙基的基團(tuán)。3、權(quán)利要求1或2的非水性電解液，其中結(jié)構(gòu)式（I）的二磺酸酯衍生物的含量為電解液總重量的1-15％。

2023/2/149從屬權(quán)利要求4、權(quán)利要求1的非水性電解液，其中的高介電溶劑是碳酸乙酯、碳酸丙酯或碳酸丁酯，其中的低粘度溶劑是碳酸二甲酯、碳酸甲基乙酯或碳酸二乙酯。5、權(quán)利要求1或4的非水性電解液，其中的高介電溶劑與低粘度溶劑的體積比為1：9－4：1。6、權(quán)利要求1、2或4的非水性電解液，其中的溶質(zhì)鹽的濃度為0.1-3M。2023/2/150獨(dú)立權(quán)利